【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハに対してマスクを高精度に位置合せした上で、一度の露光でウエハの両面にパターンを同時露光すること。
【解決手段】互いに対向して配置されると共に、パターンＰが予め描画されたマスクＭ１、Ｍ２がそれぞれ装着される第１マスク装着部３及び第２マスク装着部２と、両マスクの間に挟まれるように配置されたウエハＳに対して両マスクを通して光を照射して、ウエハの両面にパターンを露光させる露光手段１４と、を備え、両マスク装着部は、それぞれに装着されたマスクが互いに平行に配置される構成とされた装置であって、両マスク装着部のうち少なくとも一方のマスク装着部には、前記一方のマスク装着部に装着された一方のマスク上の所定位置に配置されたウエハを、前記一方のマスクに形成された貫通孔Ｍ１ａを通して吸着しうる吸着手段３４が備えられているウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターンの断面の逆台形状を解消し、上下面の幅の差異は無くし、パターンの物性を均一にするパターン形成方法、カラーフィルタのブラックマトリックス２、フォトスペーサー５、配向制御用突起 などを剥がれ難いものとし、導電性、弾性などを均一にするパターン形成方法。
【解決手段】パターン露光として、塗布膜１５の上面側にパターン露光を与え、塗布膜の透明基板１片面と接する下面側に上面側のパターン露光と同一パターンのパターン露光を与えること。塗布膜の上面側に与える露光量と、下面側に与える露光量が等量であること。パターンが、カラーフィルタを構成するパターンである。 （もっと読む）

【課題】感光材料の種類にかかわらず表面側に対する裏面側の位置を精度良く決定する。
【解決手段】被描画体１０の主走査方向の一方の辺ＡＤの頂点Ａ、Ｄの座標を、レーザ直接描画装置のＸＹ座標軸に基づいて求め、テーブル１２を回転させて辺ＡＤをレーザ直接描画装置のＸ軸と平行にしてから、被描画体をレーザ直接描画装置のＸＹ座標軸と平行に移動させ、頂点Ａを設計上の被描画体の頂点Ａ０の位置に位置決めして、表面を露光し、その後、被描画体１０を副走査方向の軸の回りに表裏反転させ、反転された頂点Ａ、Ｄの反転後の座標をレーザ直接描画装置のＸＹ座標軸に基づいて求め、反転された辺ＡＤをレーザ直接描画装置のＸ軸に平行にした後、被描画体をレーザ直接描画装置のＸＹ座標軸と平行に移動させ、反転された頂点Ａを表面における設計上の他方の頂点Ｄ ０の位置に位置決めして裏面を露光する。 （もっと読む）

【課題】低コストであって汎用性に優れており製造工数が削減された、基板の製造方法、基板の製造装置及び基板を提供することを課題とする。
【解決手段】本明細書に開示の基板の製造方法は、基板１０の一方の面１０ａにアライメントマーク１７ａを形成する工程と、アライメントマーク１７ａの位置を検出する工程と、アライメントマーク１７ａの位置に対応した基板１０の他方の面１０ｂの位置に、基板１０に対して透過性を有する波長のレーザＬを集光させて走査することによりマーク１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】不透明でかつ金属材料のスタンパを用いた光インプリント技術を用いることができて、生産性がよく両面一括成形できる。
【解決手段】上スタンパ１と下スタンパ２の側面から、間の透明光硬化樹脂材に対して光を照射可能とする光照射ユニット１２を有している。また、光照射ユニット１２からの光照射時に、上ホルダー３および下ホルダー４を上スタンパ１と下スタンパ２と共に一定速度で回転させる回転機構部５，６を有している。さらに、光照射ユニット１２が、先端のレンズの焦点距離を異ならせることにより、光照射ユニット１２の放射照度分布を異ならせて透明光硬化材の内部に対してより均等に光照射するようになっている。 （もっと読む）

【課題】基板に与えられる複数のパターンを、結果として得られるデバイスが意図したように確実に動作するように、互いに正確に位置合せさせる。
【解決手段】本発明の一態様によれば、放射ビームを供給する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように働くパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを備え、パターニングデバイスが与えるパターンが回転可能であり、基板が回転可能であり、パターンの回転が基板の回転に比例し、それによって、回転後、基板に与えられたパターンが基板に対して、パターン及び基板を回転させなかった場合と同じ向きを有するように構成される、リソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 一度の露光でウエハの両面に高精度に位置合わせした状態でパターンを同時露光すること。
【解決手段】 ウエハＳの両面にパターンＰを同時に露光する装置であって、パターン及びアライメント用マークｍ１、ｍ２を有する下部マスクＭ１及び上部マスクＭ２と、下部マスクの位置を変化させる移動機構６と、紫外光Ｌを照射してウエハの両面にパターンを露光させる両露光部１５、１６と、アライメント用マークを観察する上部観察部２０と、観察された２つの観察画像の位置関係に基づいて両マスクが予め決められた位置関係からどの程度変位しているか変位量を算出する画像処理機構２１と、上部マスクから一定距離離間したアライメント位置で上記変位量を補正するように下部マスクの位置を水平調整させる制御部７と、を備え、制御部が、水平調整後に下部マスクを上部マスクに近接させた露光位置で両露光部を作動させるウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の両側にパターニングした層を設ける場合に、基板の上面に、基板の下面にあるアライメントマークと位置合わせされるパターンを投影可能にする。
【解決手段】表裏アライメント可能なリソグラフィ装置のキャリブレーション方法である。この方法は、複数のアライメントマークを有する基板を、アライメントマークがキャリアの方に向くように配置して、キャリアに取り付けることと、基板の厚さを減少させることと、装置のアライメントシステムを使用して、この装置の基板テーブル中の光学系によって形成されるアライメントマーク像の位置を測定することと、基板上の、アライメントマークの測定位置により決定されたパターンの位置に、パターンを投影することと、投影したパターンと基板の反対側に設けたアライメントマークの位置を測定し、基板の反対側に設けたアライメントマークの位置の測定を基板を通して放射を誘導するアライメントシステムによって行うことと、オーバーレイエラーを決定するために測定位置を比較することとを含む。 （もっと読む）

【課題】ワークの移送方向における装置全体の長さを増やすことなく、反転後のワークの第２面を除塵する露光装置を提供する。
【解決手段】反転装置９は、収容凹部を有する吸着ベースと、水平に設置された回転軸を中心として吸着ベースを初期状態から１８０度を越えて回転自在に支持する支持部材と、支持部材に対して吸着ベースを回転させる回転駆動モータと、前記収容凹部を開閉できる開閉ベースと、当該開閉ベースを回転させる回転モータとを有する。クリーニングユニットは、Ｙ−Ｚテーブルによって移動可能に保持されている。反転部コントローラは、吸着ベースが初期状態にあり、且つ、開閉ベースが閉鎖位置にある状態から吸着ベースを回転させ、収容凹部が水平方向を越えて傾斜した位置にて停止させ、開閉ベースを開放させ、クリーニングユニットによりワークＷの表面を除塵させ、その後、前記吸着ベースを水平に向けさせる。 （もっと読む）

【課題】露光をする際に被露光部材の歪みや割れを防止しつつその被露光部材の下面を露光することができるステージ装置及びそれを備えた露光装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光を導入する光導入部（光ファイバ接続部１２）と、照射面１０ｂの上方に照射面１０ｂに対して平行になるように被露光部材（半導体基板１００）を載置して、照射面１０ｂから被露光部材（半導体基板１００）に向かって光を照射するステージ本体１１とを具備し、ステージ本体１１は、光導入部（光ファイバ接続部１２）から導入された光を拡散させると共に屈折させて、照射面１０ｂに向けて光を一様に照射する。 （もっと読む）

【課題】 凹凸または貫通孔が形成されたウエハ基板（１０）の角部に、フォトレジストが均一に塗布されるようにフォトレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト塗布方法は、第一面と第二面とを有する基板（１０）を、正極または負極の一方に帯電する帯電ステップ（S1241）と、第一面と第二面に対して、正極または負極の他方に帯電するフォトレジスト粉末（ＰＲ１）を塗布するフォトレジスト粉末塗布ステップ（S1242）と、基板に塗布された感光剤粉末にフォトレジスト粉末を溶解可能な溶剤ガスを噴霧し、フォトレジスト粉末を溶解させる溶解ステップ（S1245）と、溶解したフォトレジストを硬化させるフォトレジスト硬化ステップ（S1246）とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の裏側にアライメントマーカを生成できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板の裏面に局所的に閉環境を形成するためのエンクロージャ、エンクロージャと基板の間の閉環境を密閉するためのシール、レジストを供給するレジスト供給システム（１２、１３）、現像液を供給する現像システム（１４、１５）、１つまたは複数のマーカを局所的にエッチングするエッチングシステム（１６、１７）などを備える。さらに、マスク位置決めシステム、露光システムも備える。 （もっと読む）

【課題】 マスク上にウェハを固定し、ウェハの位置ズレを防ぐ。
【解決手段】 上下一対のマスクで挟まれたウェハに対して該マスクの両主面側から露光させる光源を有する露光装置であって、中央部分が開口した開口部を有するテーブル部と、開口部内に嵌合する第一の透明部材と、第一の透明部材上に載置される下マスクとこの下マスクを囲う緩衝部材と、下マスク上に固定されるウェハの上に載置される上マスクと、上マスク上に載置される第二の透明部材と、第一の透明部材と下マスクとにウェハの表面から外部まで連通する第一貫通孔と、第一の透明部材、緩衝部材、下マスク、上マスク、ウェハ、で囲まれた吸引空間部と外部とを連通するように第一の透明部材に設けられる第二貫通孔と、第一貫通孔と第二貫通孔とに接続される吸引手段とから構成される。 （もっと読む）

【課題】単独で、被保持物を平面内で移動可能に吊下保持することのできる移動保持機構（エアベアリング）を提供すること。
【解決手段】被保持物２を平面内で移動可能に保持する移動保持機構において、該移動保持機構は、シャフト４の先端に球面軸受５を有し、球面軸受５はハウジング６に設けられ、ハウジング６内に、永久磁石７と消磁コイル８、または電磁石を設け、ハウジング６の下面にはエアを吹き出すエア吹き出し孔１１が設けられ、被保持物２をハウジング６下面に吊下した状態で移動可能に保持することを特徴とする移動保持機構である。 （もっと読む）

本発明は、基板の第１と第２の両面をパターニングする方法及びシステムを対象とする。方法及びシステムは、モールド・アセンブリを用い、基板の第１と第２の両面とモールド・アセンブリとの間に所望の空間関係を得る。さらなる実施形態において、方法及びシステムは、第１と第２のモールド・アセンブリを用いる。 （もっと読む）

【課題】高精度且つ再現性良好な両面アライメントを可能にする。
【解決手段】基板ホルダ１０の保持孔１０Ａ内にレンズ基板１６及びＬ字状スペーサ１８を配置し、固定ネジ１２ａ〜１２ｄによりスペーサ１８を介して基板１６を角部ＬＣに押し付けて固定する。ホルダ１０の表裏いずれの面にも１４Ａ等の位置合せマークが形成されており、ホルダ１０の表裏いずれの面でもホルダ１０、基板１６及びスペーサ１８は面一とされる。ホルダ１０の表裏いずれの面にもレジスト層を形成した後、表面のレジスト層には表面の位置合せマークを用いて表用ホトマスクを位置合せした状態で露光処理を施してレンズアレイ形成パターンを転写し、裏面のレジスト層には裏面の位置合せマークを用いて裏用ホトマスクを位置合せした状態で露光処理を施してレンズアレイ形成パターンを転写する。 （もっと読む）

【課題】被露光物と該被露光物の表裏両面側に配置されたフォトマスクとを正確に位置合せして被露光物の表裏両面を高精度に露光することのできる両面露光方法を提供する。
【解決手段】二つのフォトマスクを被露光物の表面側と裏面側に配置して被露光物１１の表裏両面を同時に露光する際に、被露光物１１に二つのアライメントマークＡＭ_１１を形成すると共に被露光物１１の表面側に配置されたフォトマスク１２Ａに二つのアライメントマークＡＭ_１２Ａを形成し、さらに被露光物１１の裏面側に配置されたフォトマスクに二つのアライメントマークＡＭ_１２Ｂを形成する。そして、これらアライメントマークが撮像装置１３の光軸上に位置するようにフォトマスク１２Ａ，１２Ｂの位置を調整した後、被露光物１１の表裏両面を露光するようにする。 （もっと読む）

【課題】 基板に形成されたパターンの変形、欠損及び異物付着を防止すると共に高精度な露光を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】 基板１を保持すると共に当該基板１と露光マスク３４との相対的な位置合わせを行う保持手段２０と、前記露光マスク３４を有すると共に前記基板１の露光面１ａの露光を行う露光手段３０と、前記基板１及び前記露光マスク３４のアライメントマークを読み取る検出手段４０とを具備し、前記保持手段２０が、前記基板１の両面の周縁部以外の領域を開放した状態で当該周縁部を保持する。 （もっと読む）