【課題】外部からの輻射熱による筐体の温度変化を抑制する光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】内部にミラーが支持された鏡筒２７を、当該鏡筒２７の外表面２７ｂにおける光の反射率よりも高い反射率の外表面３５ｂを有するカバー３５で内包する。これにより、カバー３５の外部からの輻射熱が当該カバー３５の外表面３５ｂによって反射されやすくなる。また、カバー３５の内表面３５ａと鏡筒２７の外表面２７ｂとの間に設けられて鏡筒２７との間で輻射伝熱によって熱交換する熱交換部４１〜４６を鏡筒２７を取り囲むように設ける。そして、鏡筒２７の温度を検出する温度センサ５１〜５６からの検出信号に基づいて、熱交換部４１〜４６を制御して鏡筒２７の温度を調節する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、基板との間で第１液体を保持可能な下面を有する液浸部材と、下面と対向する位置に移動可能であり、超音波振動が付与された第２液体を下面との間で保持可能な上面を有する可動部材と、可動部材に設けられ、下面と上面の所定領域との間に保持された第２液体の漏出を抑制するシール機構とを備え、第２液体で下面の少なくとも一部をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板Ｐを保持して移動する基板ステージ２であって、保持された基板Ｐの周囲に設けられて液体ＬＱを回収する第２溝部４２と、第２溝部４２の底部４２ａに設けられ、第２溝部４２で回収した液体ＬＱを、第２溝部４２の外部に排出する排出孔４５と、液体ＬＱよりも比重の小さい材料で形成され、第２溝部４２に配置されて第２溝部４２に貯溜した液体ＬＱの液位に応じて浮沈することにより排出孔４５を開閉するフロート弁５１とを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】測定装置を複雑化又は大型化することなく、結像光学系の光学特性の測定結果の経時変化等に起因する測定誤差を高精度に求める。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差を測定する方法において、投影光学系ＰＬの像面の複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）において投影光学系ＰＬの波面収差を測定する工程と、複数の測定点Ｐ（ｉ，ｊ）のうち少なくとも一部の測定点において投影光学系ＰＬの波面収差をさらに少なくとも１回測定する工程と、それらの波面収差の測定結果に基づいて投影光学系ＰＬの波面収差の経時変化に起因する測定誤差を求める工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の波長の強度を個別に実用レベルで調整できる光源装置を提供する。
【解決手段】輝線スペクトルの一つの輝線波長の光を遮断する反射被膜が、前記光束を反射させるか又は透過させて通過させる複数の開口を有するように設けられ、該複数の開口の最大寸法は、所定波長の光束の照射面内に複数の開口が配置可能である微小な寸法であり、選択された所定波長の光束における少なくとも一つの特性を、微小な開口の形状、間隔及び数により決定する光源装置。 （もっと読む）

【課題】被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる遮光装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供する
【解決手段】光源装置から射出される露光光ＥＬに基づいてウエハを照明する光学系に設けられ、ウエハに到達する露光光ＥＬに対する遮光量を調整可能な遮光装置２７であって、露光光ＥＬの光路途中に配置され、露光光ＥＬを透過させる透過板４５と、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に対して水滴を付着させる記録ヘッド４９と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】レチクルを交換する時間を削減しつつ、露光処理を精度良く行うための計測、補正時間をも削減する露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版３を載置及び保持する原版ステージ４と、基板６を載置及び保持する少なくとも２つの基板ステージ７、８とを有し、原版３のパターンを基板６に対して多重露光する露光装置１であって、更に、原版ステージ４及び各基板ステージ７、８の動作と、露光処理を制御する制御部９を有し、制御部９は、第１の原版のパターンを、露光処理部に位置する第１の基板ステージ７に載置された第１の基板に対して投影転写させ、次に、各基板ステージ７、８を移動させて基板６を交換し、第１の原版のパターンを、第２の基板ステージ８に載置された第２の基板に対して投影転写させ、更に、投影転写に使用する原版３を、第１の原版から第２の原版へと交換した場合は、原版３の交換前後で同一の基板ステージに載置された同一の基板６に対して投影転写させる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して、第１面より露光光が進行する第１方向側に配置された第２面と、第２面の周囲の少なくとも一部に、且つ、所定方向に関して第２面より第１方向とは逆向きの第２方向側に配置された第３面と、第３面で規定される空間に存在する液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備える。基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージと光学系ユニットとの角度ずれを抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハが載置されるウエハステージ１６と、フォトマスクのパターンをウエハステージ１６上のウエハに投影する光学系ユニット１８と、ウエハステージ１６と光学系ユニット１８を支持するフレーム２０と、流体供給手段３５を有する露光装置１０。フレーム２０は、ウエハステージ１６を支持するウエハステージ支持部２２と、ウエハステージ１６の上方で光学系ユニット１８を支持する光学系ユニット支持部２４と、ウエハステージ支持部２２と光学系ユニット支持部２４とを接続する複数の第１柱状部２８ａ〜３０ａを有している。各第１柱状部２８ａ〜３０ａの内部には、第１柱状部２８ａ〜３０ａに沿って伸びる第１流路４０〜４２が形成されている。流体供給手段３５は、各第１流路４０〜４２内に流体を流通させる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、第１液体を供給する第１供給口と、基板の露光時に、第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、露光光の光路に対して第１回収口の外側に配置された第２回収口とを備えている。露光装置は、所定部材のクリーニング時に、第１供給口から第１液体を供給し、第１回収口から第２液体を供給し、第２回収口から第１液体及び第２液体の少なくとも一方を回収する。 （もっと読む）

【課題】露光精度の低下を抑制する露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、所定状態に設定された気体を収容する第１空間と、前記第１空間内を移動可能に配置された移動体と、前記第１空間に接続され、前記移動体の移動に応じて前記第１空間内との間で前記気体の移動が可能に設けられた第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に流入する前記気体を前記所定状態となるように調整する調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、所定部材と、所定部材の表面にクリーニング用の第２液体を供給可能な供給口と、所定部材の表面から第２液体を回収する回収口と、供給口からの第２液体の非供給時に、供給口と対向する位置に配置されるシャッタ部材とを備え、供給口と回収口とは異なる。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを用いて基板とフォトマスクとの位置合わせを行う時の検出精度を向上させることができる位置検出方法を提供する。
【解決手段】内側が段差によって外側と区切られたアライメントマークが形成された基板上に、レジストを塗布し、基板にアライメント検出光を照射し、アライメントマークの内側の中央部と端部との、レジストの塗布膜厚の差異に起因する反射光の強度変化を観察することにより、アライメントマークの位置を検出する方法において、反射光の強度が、アライメントマークの内側の端部に比較してアライメントマークの内側の中央部の方が強くなる様に、レジストの塗布膜厚を調整する。 （もっと読む）

【課題】液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸＳは、投影光学系ＰＬの像面側に液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものであって、液浸領域ＡＲ２を形成するための液体ＬＱに接触する基板ステージＰＳＴの上面３１などに対して、光洗浄効果を有する所定の照射光Ｌｕを照射する光洗浄装置８０を備えている。 （もっと読む）

【課題】
投影光学系内の環境条件の変化に起因する投影光学系の結像特性の変化を精度良く補正する。
【解決手段】
露光方法は、照明光学系の開口数及び有効光源、投影光学系の開口数、並びに、マスクのパターンの寸法及びピッチから選択された少なくとも一つのパラメータと、前記投影光学系内の環境条件の変化量とに基づいて、前記投影光学系の結像特性の変化を補正する補正部の補正量を算出する算出工程と、前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 計測装置の製造誤差が計測結果に及ぼす影響を小さくし、被検光の偏光状態を高精度で計測することのできる計測装置を提供する。
【解決手段】 位相子と偏光子とを含む光学系に入射する被検光の偏光状態を計測する計測装置は、位相子と偏光子との光軸回りの相対的な回転角度θを変化させながら検出された偏光状態が異なる複数の光の強度変化をフーリエ変換して、cos4θ、sin4θ、sin2θ及びcos2θで振動する成分それぞれの係数である複数の第１フーリエ係数の値を計算し、光学系に起因する計測誤差を含まないと仮定した場合に相対的な回転角度θを変化させながら検出される光の強度変化のフーリエ変換における、cos4θ、sin4θ、sin2θで振動する成分それぞれの係数である複数の第２フーリエ係数と複数の第１フーリエ係数との関係を規定する係数である複数の第３係数を、第１フーリエ係数の値を用いて近似的に計算し、複数の第３係数を用いて前記光学系に起因する計測誤差を計算する。 （もっと読む）

【課題】 分解能の高い識別記号を描画しながら周辺領域のフォトレジストを感光させることができる周辺露光装置を提供する。
【解決手段】 周辺露光装置（１００）は、第１の方向に移動するとともに、一端側で被露光基板（ＳＷ）を載置し他端側で被露光基板（ＳＷ）を第１の方向から第１の方向と交差する第２の方向へ回転させるステージ（１２）と、ステージの上方に配置され第２の方向に配置された躯体（１３）と、躯体の一端又は他端側の一方の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺領域を露光する周辺露光手段（２０）と、躯体の一端又は他端側の周辺露光手段が設けられている側面とは反対側の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺露光領域にパターンに関する識別記号を描画する記号描画手段（４２）と、を備える。そして、被露光基板（ＳＷ）が１往復のみ移動することで、パターンの周辺領域を露光するとともに識別記号を描画する。 （もっと読む）

【課題】光学特性値を変化させる光学素子を調整することで生じる光学特性値の不確実性を考慮して、光学素子の調整量を求める新たな技術を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンを介して基板を露光する露光装置であって、位置、姿勢及び形状の少なくとも１つを調整可能な光学素子を含み、前記パターンからの光を前記基板に投影する投影光学系と、前記光学素子の位置、姿勢及び形状の少なくとも１つを調整する調整部と、前記調整部に与えられる前記光学素子の調整量に応じて前記光学素子を調整できたときの前記投影光学系の光学特性値の理論上の変化を表す変数と、前記調整部が前記光学素子を調整したときの調整誤差によって生じる前記投影光学系の光学特性値の変化の不確実性とを含む目的関数の値が許容レベルを満たすように、前記光学素子の調整量を２次計画法又は２次錐計画法を用いて算出し、当該算出した調整量に基づいて前記調整部を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】受光部で受光される光量の変化を小さくすることが可能な光強度検出装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光強度検出装置２５は、入射する露光光ＥＬの少なくとも一部を反射可能な第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７と、該第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７からの反射光を受光する第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０とを備えている。そして、光強度検出装置２５における第２ビームスプリッタ２６よりも光源側には、該第２ビームスプリッタ２６への露光光ＥＬの入射角が変化した場合に第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０で受光される光量の変化が小さくなるように該露光光ＥＬの直線偏光成分を第２ビームスプリッタ２６に対して回転させる１／２波長板３２が配置されている。 （もっと読む）

【課題】光でより微細パターンを露光する時、焦点深度が浅くなってくるので、従来からホトレジスト上に、焦点位置を深さ方向に移動しながら多重露光する方法があった。しかしホトレジスト側を上下に移動し露光する方法では液浸露光時、露光光学系に振動を伝えやすかった。又露光効率の低下すなわちスループットの低下につながった。
【解決手段】従来技術である焦点位置を深さ方向に移動さすために、レチクルを振動させ、第１露光光学系面との間に、第１露光光学系面を節となる定常波を発生させ、第1露光光学系面には音圧が負荷されず、レチクルの振動が露光光学系に伝わらない様にした。 （もっと読む）