【課題】下地パターンに対して描画パターンを高精度に重ねて描画する。
【解決手段】描画パターンを記述した露光量情報を有する設計データに対して２種類のラスタライズ処理を実行して２種類の描画データＤ２Ａ，Ｄ２Ｂを生成している。つまり、上記設計データがラスタライズ開始位置Ａよりラスタライズされて第１の描画データＤ２Ａが生成されるのみならず、ラスタライズ開始位置Ａに対し、画素ＰＸのＸ方向の画素サイズよりも小さなシフト量だけＸ方向にシフトしたラスタライズ開始位置Ｂより上記設計データがラスタライズされて第２の描画データＤ２Ｂが生成される。そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。このように、画素サイズよりも細かいシフト量で描画位置が補正される。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の形状やサイズにかかわらず、光源から基板に至る照射光路に設けられた光学部品及び空間光変調器の交換作業の作業性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】露光装置１００は光学ユニット４０ａ，４０ｂを備えている。光学ユニット４０ａ，４０ｂが備えるレーザ発振器４１ａ，４１ｂから出射された光が、照明光学系４３ａ，４３ｂを介して導入された空間光変調器４４１ａ，４４１ｂで空間変調されて基板Ｗ上に照射される。レーザ発振器４１ａ，４１ｂから照明光学系４３ａ，４３ｂに至る光路には光源からの光を通過又は遮断するシャッタ部４９ａ，４９ｂが設けられている。シャッタ部４９ａ，４９ｂの開閉制御を行うことにより、各光学ユニット４０ａ，４０ｂから照射された光がシャッタ部４９ａ，４９ｂよりも下流に設けられた光学部品を照射する時間は、各光学ユニット４０ａ，４０ｂで同一となる。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の設置床面積を小さくすることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 光学エンジン３１と、軌道９Ｒｂと軸受け９Ｒａとからなる直線案内装置９Ｒにより第１のＸテーブル５Ｒ上をＹ方向に移動自在な第１のＹテーブル２０Ｒとからなり、該軸受け９Ｒａが該第１のＹテーブル２０ＲのＹ方向の長さの１／２未満を支持する第１のＸＹテーブルＲと、光学エンジン３１のＹ方向の左側に配置され、光学エンジンのＹ方向に垂直な対称面Ｐに関して第１のＸＹテーブルＲと構成が対称である第２のＸＹテーブルＬと、を設け、第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを露光位置に位置決めしたときに第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを支持する、実質的な支持端（端面９Ｒａ１ｆ）が、対称面Ｐから１０ｍｍ以下になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】感光媒体上に形成される光像にスペックルが目立たないようにし、かつ被照明領域内の明るさのムラの発生を効果的に抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、光学素子５０と、照射装置６０と、空間光変調器３０とを備える。走査デバイス６５を用いて、コヒーレント光をホログラム記録媒体５５上で走査させ、ホログラム記録媒体５５から照射されたコヒーレント光を被照明領域ＬＺと重なり合う空間光変調器３０に入射する。また、空間光変調器３０に近接して感光媒体１５を配置するため、きわめて簡易な構成で、感光媒体１５上にスペックルを目立たせずにコヒーレント光を導光できる。 （もっと読む）

【課題】パターンのＣＡＤデータを補正する複雑な処理を行うことなく、基板に描画されるパターンの走査方向への伸びを効果的に抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部（７１）は、描画するパターンの走査領域における走査方向の長さよりも短い走査範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路
（２７）へ供給する。演算回路（８５）は、メモリ（８２）に記憶された座標データから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを決定する。補正回路（８７ａ）は、演算回路により決定された光ビームの照射を終了する位置を補正して、走査範囲を短くする。描画データ生成回路（８６）は、演算回路により決定された光ビームの照射を開始する位置と、補正回路により補正された光ビームの照射を終了する位置との間の描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。
【解決手段】 マスクレス露光で既存のマスク露光のマスクと同一の役割をする仮想のマスクという概念を導入し、既存のマスク露光の整列マークと同一の役割をする仮想のターゲットマークという概念を導入してレイヤ別にオーバーレイを行うことによって、マスクレス露光でも積層露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 露光現像システムの故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることを両立する。
【解決手段】 基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、露光した前記膜を現像する現像装置とを、それぞれ複数台有する露光現像システムであって、前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御する露光現像システム。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】実際に露光、現像を行わなくても、露光位置、露光量などが意図したとおりに行われるか否かを事前確認することができ、高精度な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するホルダ８を有するステージ９と、所望のパターンを生成するＤＭＤ素子３と、パターンを投影する投影光学系４と、基板７に対して所定の相対位置関係で配置され、投影されたパターンを検出する投影パターン検出光学系６と、投影パターン検出光学系６で検出した信号に基づいて、露光結果を表示部１０に表示する制御部１１とを有して構成する。 （もっと読む）

【課題】露光量を低下させることなく、パターンの描画を高精細に行う。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成されている。空間的光変調器を、光ビームによる基板の走査方向に対して傾けて配置し、かつ、空間的光変調器の複数のミラーを、直交する二方向の内の走査方向に近い方向に、ミラーの数が異なる複数の区画に分割して使用する。駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）により、空間的光変調器の各区画のミラーを、区画毎に異なる周期で駆動し、ミラーの数が多い区画の駆動周期を、ミラーの数が少ない区画の駆動周期より短くする。ミラーの駆動周期が短い区画では、パターンの描画が高精細に行われる。露光時間と露光回数とを掛けた露光量は、区画により大きく変動しない。 （もっと読む）

【課題】露光位置をアナログ的に制御して露光パターンの位置決め精度を向上する。
【解決手段】光源光Ｌ_１を受けて所定間隔で互い違いに少なくとも２列状態に並べて複数のビームスポットを生成するビームスポット生成手段９と、前記複数のビームスポットをそれらの並び方向に夫々所定範囲内で往復走査させる光走査手段１０と、前記複数のビームスポットの往復走査の中心に夫々中心軸を合致させて配置され、前記中心軸に平行な対向面に一対の電極を設けた角柱状の電気光学結晶材料から成る複数のスイッチング素子をオン・オフ駆動することにより、前記光源光Ｌ_１を光変調して所定の明暗パターンを生成するパターンジェネレータ１１と、前記明暗パターンをカラーフィルタ基板５上に投影する投影レンズ１２と、を備え、前記各スイッチング素子の前記ビームスポットの走査方向の幅を前記ビームスポットの同方向の幅よりも大きくしたものである。 （もっと読む）

【課題】描画装置の機構に精度誤差があっても、パターン位置ずれを起こすことなく、精度よくパターンを形成する。
【解決手段】露光ヘッドを備えた描画装置において、計測用基板を描画テーブルに搭載し、基準スポットパターンのパターンデータに基づいて露光動作が行われる。そして、装置外の計測器によってスポットパターンの位置を計測し、その位置座標データを描画装置のメモリに格納させる。パターンを描画するとき、描画パターンのパターンデータＰＤを、基準スポットパターンによって規定される矩形領域毎に分割し、各矩形領域ＬＭ１、ＬＭ２の閉領域パターンデータＰＤ１、ＰＤ２を、計測されたスポットパターンの位置座標に基づく変形、もしくは変位の生じた変形矩形領域ＬＮ１、ＬＮ２に合わせて補正する。 （もっと読む）

【課題】描画パターンを高速に描画するとともに、不測の事態にパターン描画装置を短時間にて復旧させる。
【解決手段】パターン描画装置では、複数の描画データを複数のパーティション６２１に記憶する高速読み出し可能なストレージ６２が設けられる。各パーティション６２１に記憶される描画データが示す描画パターンの識別情報と、当該パーティション６２１の識別情報とを対応付ける管理情報７１は固定ディスク６１４に記憶される。描画対象の描画パターンの識別情報を用いて管理情報７１を参照することにより対応するパーティション６２１が特定され、描画データが光学ヘッド４１に高速な転送レートにて出力され、描画パターンが高速に描画される。また、管理情報７１のバックアップが他の記憶部６０１に作成されることにより、不測の事態により管理情報７１が失われた場合であっても、パターン描画装置１を短時間にて復旧させることができる。 （もっと読む）

【課題】描画ラスタデータにおける異常の有無を容易に検証する。
【解決手段】パターン描画装置では、入力ラスタデータがデータ受付部６３にて受け付けられる。入力ラスタデータは、チェックパターンを示すダミーラスタデータを描画パターンを示す描画ラスタデータに付加したものである。そして、入力ラスタデータが示す全体パターンにおけるチェックパターンの領域を示す領域情報、および、チェックパターンを示す参照ラスタデータが別途準備され、領域情報に基づいてチェックパターンの領域に対応する入力ラスタデータの部分と参照ラスタデータとを比較部６４にて比較することにより、データ受付部６３にて受け付けられる入力ラスタデータにおける異常の有無が確認される。これにより、パターンの描画に用いられる描画ラスタデータにおける異常の有無をリアルタイムにて容易に検証して、パターン描画の信頼性を向上することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラーをマトリックス状に配列したＤＭＤを用いて、感光性ワークに対して主走査方向に走査しながら露光を行なうようにした露光装置および露光方法において、ＤＭＤの各ミラー列の積算光量の均一化を図る。
【解決手段】基板１０上に形成する画像の描画パターンに応じ、露光部分の周囲の漏れ光量をも考慮したミラー選定マップを予め作成しておき、このようなミラー選定マップを用いてＤＭＤ１４を制御することによって、ＤＭＤ１４の各画素列の積算光量を互いに等しくする。 （もっと読む）