【課題】リソグラフィエラーを低減する。
【解決手段】方法が開示される。基板上に投影されるまたはされるべき放射ビームの伝搬方向と実質的に平行な方向におけるその基板の位置の変化が、そのような位置の変化がその放射ビームを使用したその基板へのパターン付与の際にリソグラフィエラーを生じうる状況において、決定される。リソグラフィエラーを低減するために、基板の位置の変化を使用して、放射ビームが基板上に投影されるときまたはされるにつれて、放射ビームの性質が制御される。 （もっと読む）

【課題】露光室内の気体から不純物を除去するフィルタの交換に伴う露光処理の停止時間を低減する。
【解決手段】露光装置は、露光部５０と、前記露光部を収容する露光室と、フィルタ１７ａ，１７ｂを収容する第１フィルタボックス１６ａと第２フィルタボックス１６ｂと、前記第１フィルタボックス及び前記第２フィルタボックスに収容されたフィルタの状態を調整する調整部１１と、前記露光室内の気体の経路切替る第１切替ユニット２１と第２切替ユニット２２とを通過して循環するように前記露光室と前記一方のフィルタボックスとを接続する第１経路と、前記第１フィルタボックス及び前記第２フィルタボックスのうち前記第１経路と接続されていない他方のフィルタボックスと前記調整部とを接続し、前記調整部による前記他方のフィルタボックスに収容されたフィルタの状態の調整を可能にする第２経路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズを低減することができ、かつ光量損失を抑制することができる照明光学系を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る照明光学系２０は、入射するレーザ光の径よりも小さい、それぞれ異なる径の複数の凹面及び凸面の少なくともいずれか一方が不規則に配列され、当該レーザ光を拡散するレンズアレイ２１と、レンズアレイ２１を回転させる駆動部２２とを備える。レンズアレイ２１は、凹面のみを有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

【課題】種々のピッチのパターンを同時にそれぞれ高解像度に転写可能にする。
【解決手段】照明光(IL)でレチクル(R)を照明する照明光学系(12)と、レチクル(R)のパターンの像をウエハ(W)上に投影する投影光学系(PL)とを有する露光装置であって、レチクル(R)の照明条件を可変とし、投影光学系(PL)の瞳面と共役な照明光学系(12)内の所定面で光軸外に中心が配置される複数の領域にそれぞれ分布する光束を発生する回折光学素子(21,22)により、その複数の領域で光量が他の領域よりも大きくなる光量分布を生成可能な成形光学系と、回折光学素子(21,22)から発生する光束の偏光状態を設定する偏光設定部材と、を備える。 （もっと読む）

【課題】鏡筒内に配置される光学素子の波面収差を好適に維持できる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】投影光学系１６は、低熱膨張材料で構成される鏡筒４０と、鏡筒４０内に配置されるミラー２８，３３と、ミラー２８，３３を保持し、且つ鏡筒４０に対してミラー２８，３３を移動させるべく駆動するアクチュエータを有するミラー保持装置と、鏡筒４０に対するミラー２８，３３の位置を計測する計測装置６０と、計測装置６０による計測結果に基づきミラー保持装置を制御する制御装置と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ効果的にクリーニングできるリソグラフィ装置を提供し、さらに液浸リソグラフィ装置を効果的にクリーニングする方法を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の液体封じ込めシステムの表面をクリーニングするクリーニングツールが開示され、液体封じ込めシステムは、液浸リソグラフィ装置の液体封じ込めシステムを放射ビームが通過できる開口を有する。クリーニングツールは、音響変換器と、音響変換器とクリーニングすべき表面の間に液体を保持するリザーバと、使用時に音波に対するシールドを形成するためにリザーバ内で開口の下に配置されたバリアとを含む。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの寸法の変動を抑えた半導体装置の製造方法及び製造システムを提供する。
【解決手段】塗布現像装置１１において、ウェーハ上にレジスト膜を成膜し（ステップＳ１）、ウェーハをデバイス領域用の露光装置１２に搬送し（ステップＳ２）、露光装置１２において、レジスト膜のうちデバイス領域に形成された部分を露光し（ステップＳ３）、レジスト膜を加熱して未反応の酸を拡散長を制御しつつ反応させ（ステップＳ４）、ウェーハを塗布現像装置１１に戻し（ステップＳ５）、塗布現像装置１１において、レジスト膜のうち周縁領域に形成された部分を露光し（ステップＳ６）、レジスト膜を加熱し（ステップＳ７）、レジスト膜を現像する（ステップＳ８）。これにより、レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパターンを共通の照明条件を用いて高解像度で露光する。
【解決手段】照明光でレチクル及び投影光学系を介してウエハを露光する露光方法において、そのレチクルとして、Ｘ方向に周期的に、Ｘ方向に直交するＹ方向を長手方向として配列された密集線パターンと、Ｙ方向を長手方向とするラインパターンとを含むパターンが形成されたレチクルを配置し、照明瞳面で、光軸を挟んでＸ方向に配置される領域４８Ａ，４８Ｂと、その光軸を挟んでＹ方向に対応するＺ方向に配置される領域４８Ｃ，４８Ｄとにおける照明光の光量が大きくなる照明条件でそのパターンを照明する。 （もっと読む）

【課題】半導体チップの利益を最適化するようにショットマップを形成する。
【解決手段】製品生産管理システム７０には、統括制御部１、歩留情報部２、製品情報部３、CAD・レイアウトサーバ４、シミュレーションサーバ５、及びユーザ端末６が設けられる。製品生産管理システム７０は、半導体集積回路や半導体素子からなる半導体チップなどの製品の生産管理を行う。製品生産管理システム７０は、歩留情報に基づいて作成された歩留モデルを用いて半導体チップの利益を最適化するようにショットマップの作成を行う。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面側に配置する光学系の構成を簡素化して、投影光学系の光学特性を高精度に計測する。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差を計測する計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面側に配置され、照明光ＩＬの一部を投影光学系ＰＬに導く導入光学系２１と、投影光学系ＰＬの像面側に配置され、投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬの一部を球面波に変換して投影光学系ＰＬに戻す微小ミラー２３と、導入光学系２１の一部を共用し、投影光学系ＰＬを介して戻される光を計測光として取り出す受光光学系２５と、その計測光を受光して、投影光学系ＰＬの波面収差を計測する波面計測系２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面から射出される露光光の光路に第１液体を供給する第１供給口と、光路の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光時に、第１ギャップを介して対向する基板の表面との間で第１液体を保持する第１面と、基板の露光時に、第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、光路に対して第１回収口の外側に配置された第２回収口と、基板の非露光時に、第１ギャップよりも小さい第２ギャップを介して第１面と物体の表面とを対向させた状態で、第２ギャップに供給された液体を、第２回収口から回収するように制御して、第１面の少なくとも一部をクリーニングする制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】基板を保持するように構成された基板テーブルＷＴと、パターン付き放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、表面を洗浄するように構成されたメガソニックトランスデューサ２０と、メガソニックトランスデューサ２０と洗浄しなければならない表面の間に液体を供給するように構成されている液体供給システムと、を備え、表面を洗浄するように構成されたメガソニックトランスデューサ２０から発生するメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置の表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のスループットの低下を抑える。
【解決手段】 液浸剤１７０を介してマスク１２０のパターンの像を基板１５０に露光する露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系１３０と、液浸剤の供給及び回収を行う手段と、洗浄液を供給する供給口と洗浄液を回収する回収口とを有し、投影光学系との間に洗浄液を保持して最終光学素子を洗浄するための洗浄台とを有する。洗浄台上に液浸剤を保持したまま最終光学素子の表面に洗浄液を供給することにより、液浸剤を最終光学素子の表面から離して最終光学素子を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー工程の重ね合わせ精度の向上を図ることが可能な露光処理の補正方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の面内の領域を、中心近傍の第１の領域と、第１の領域よりも外周側の第２の領域と、に区分けし、計測用投影露光により投影されたパターンの第１の領域の計測点の座標における基準位置からの合わせずれ量を計測し、合わせずれ量および計測点の座標に基づいて、計測用投影露光の第１の領域の合わせずれ算出値を算出し、合わせずれ算出値および第１の領域の座標に基づいて、第１の補正式により第１の補正値を算出し、この第１の補正値に応じて、第１の領域の前記投影露光における合わせずれを補正し、合わせずれ算出値および第２の領域の座標に基づいて、第１の補正式と異なる第２の補正式により第２の補正値を算出し、この第２の補正値に基づいて、第２の領域の前記投影露光における合わせずれを補正する。 （もっと読む）

【課題】除振対象である吊下げ対象物のアライメントが当初からずれても、そのずれを解消できる物体吊下げ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一端側が鏡筒フレーム３１に繋がれ、他端側が連結位置で投影光学系鏡筒３０に繋がれる３本のワイヤ３２と、３本のワイヤ３２の各々の連結位置を、投影光学系鏡筒３０に対して、水平方向と鉛直方向に独立して変位させるアライメント調整機構３３と、を備える。このアライメント調整機構３３は、３本のワイヤ３２の各々の連結位置を、投影光学系鏡筒３０に対して、水平方向に変位させる水平方向調整部５０と、鉛直方向に変位させる鉛直方向調整部６０と、を備える。そして、水平方向調整部５０が連結位置を水平方向に変位させるのに伴って鉛直方向調整部６０が水平方向に変位し、鉛直方向調整部６０が連結位置を鉛直方向に変位させるのに伴って水平方向調整部５０が鉛直方向に変位する。 （もっと読む）

【課題】高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。
【解決手段】（ａ）パターン形成される１以上の層を含む半導体基体に；（ｂ）第１の樹脂成分と光活性成分とを含む第１の感光性組成物の第１の層を適用し；（ｃ）パターン化されたフォトマスクを通した活性化放射線に第１の層を露光し；（ｄ）露光された第１の層を現像してレジストパターンを形成し；（ｅ）レジストパターンを熱処理し；（ｆ）当該レジストパターンの表面をアルカリ性にするのに有効な物質で処理し；（ｇ）第２の樹脂成分と光酸発生剤とを含む第２の感光性組成物の第２の層を、前記レジストパターンのアルカリ性表面と接触するように適用し；（ｈ）第２の層を活性化放射線に露光し；（ｉ）現像して、第２の層の現像中に除去されない第２の層の部分を含むスペーサーを形成する；ことを含む自己整合型スペーサー多重パターニング方法。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。
【解決手段】電磁放射で基板１０１を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有しており、投影光学系１００と基板１０１との間に液体流１０７を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル４１６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。露光装置は、マスクを照明するための露光光を射出する光学部材と、ミストを供給可能なミスト供給口を有し、マスクにミストを供給して、マスクの温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。 （もっと読む）