【課題】検出結果の誤差を低減することが可能な干渉計システム、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】移動体の位置情報を検出する干渉計システムであって、光を射出する光源と、光を分光して射出する分光装置と、移動体に設けられ、分光された光を反射させる移動鏡と、移動鏡を介した光を受光する受光装置と、光が分光装置から射出され移動鏡に入射し当該移動鏡で反射された後に分光装置へ向かう所定の光路を形成する第１光学系と、当該光路を進行した光が分光装置に入射せずに当該光路の進行方向とは逆向きに当該光路を進行するように光を導光する第２光学系と、第２光学系を進行する光のうち所定成分を前記受光装置に入射させ、所定成分以外の成分を光路に入射させないように当該光を分光する第２分光装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第１、第２テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１、第２テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第１状態から、投影光学系と第１、第２テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第１、第２テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第１テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第１テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 （もっと読む）

【課題】汎用の製造設備を用いて製造可能なフッ化物からなる光学薄膜であって、波長２００ｎｍ以下において高屈折率を示す、緻密な構造の光学薄膜および光学薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】光学薄膜は、ランタンとガドリニウムのフッ化物を含み、前記ランタンと前記ガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．０１〜０．９５である。光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第１本体と、第１本体に対して移動可能である第２本体と、第１本体、第２本体、およびシールによって第２空間から第１空間が分離されるように第１本体と第２本体の間に配置されるシールであって、第１本体からある距離に位置するシールと、第１本体とシールの間に流体流を作り出し、第１空間と第２空間の間に非接触シールを生成して第１本体と第２本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第１本体と第２本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 入射光束の強度分布に依存することなく、所望の強度分布を有する光束を複数の空間光変調器へ導くことのできる光束分割装置。
【解決手段】 光束分割装置は、入射光束を２つの光束に分割し、第１光束を第１光路に沿って導き且つ第２光束を第２光路に沿って導くために、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素（３０ａ）と、該複数の光学要素を駆動する駆動部（３０ｃ）とを有し、制御部（ＣＲ）からの制御信号に基づいて駆動部を駆動させる分割用空間光変調器（３０）を備えている。分割用空間光変調器は、複数の光学要素のうちの第１群の光学要素を経た光が第１光路に沿って導かれ、且つ複数の光学要素のうちの第１群とは異なる第２群の光学要素を経た光が第２光路に沿って導かれるように、制御部によって制御される。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】ホモジナイザの損傷を防止あるいは軽減する。
【解決手段】２段ステージホモジナイザは、第１ホモジナイザステージおよび第２ホモジナイザステージを備える。第１ホモジナステージは、一対のマイクロレンズアレイおよび関連した集束光学系を備える。第２ホモジナイザステージは、第２対のマイクロレンズアレイおよび関連した集束光学系を備える。第２ホモジナイザステージは、第１ホモジナイザステージから出力された放射を受光するように位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の投影精度を高める。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。リソグラフィ装置は、投影システムの光投影転写情報を測定する投影転写測定構成をさらに備える。投影転写測定構成は、スキャン移動中に測定ビームを投影システム内に誘導する光デバイスと、スキャン移動中に投影システムを通過した測定ビームを検出する検出器と、検出された測定ビームから光投影転写情報を決定する測定処理デバイスとを備える。光デバイス及び検出器は、投影システムの上流端に配置される。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる洗浄部材を提供する。
【解決手段】洗浄部材は、第１液体と接触する射出面から射出される露光光で第１液体を介して基板を露光する露光装置の、第１液体と接触する接液部材の接触面を射出面から射出される露光光で光洗浄するために用いられる。洗浄部材は、射出面と対向する位置で、射出面から射出される露光光を反射して接触面の少なくとも一部に照射する楕円形の反射面を備える。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】所望の角度強度分布を放射ビームに与えるためにミラーのアレイが使用され、この放射ビームが続いて、基板のターゲット部分上へパターンを投影するために使用されるリソグラフィ装置の１つまたは複数の短所を克服しまたは軽減する。
【解決手段】照明システムを使用して放射ビームを調整する。調整ステップは、放射ビームを所望の照明モードに変換するように、照明システムの個別に制御可能なエレメントのアレイおよび関連光学コンポーネントを制御し、この制御ステップは、照明モードまたは放射ビームあるいはその両方の１つまたは複数の特性の所望の変更を提供するように選択される割当方式に従って、個別に制御可能な異なるエレメントを照明モードの異なる部分に割当てる。さらに、放射ビームの断面がパターンを有するように放射ビームをパターニングして、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上へ投影する。 （もっと読む）

【課題】基板に与えられるパターンフィーチャの誤差を軽減する。
【解決手段】あるリソグラフィ方法が、リソグラフィ装置の位相アジャスタを制御するステップであって、位相アジャスタが、位相アジャスタの光学エレメントを通り抜ける放射ビームの電界の位相を調整するように構築および構成されている、ステップと、位相アジャスタに供給される、光学エレメントの部分の実際の時間温度特性を生じさせる信号を制御するステップであって、制御が、光学エレメントの部分の所望の時間温度特性に即して行われ、信号の制御が、実際の時間温度特性の変化が所望の時間温度特性の関連する変化に先行するようなものである、ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】マスクとプレートとの間の高精度な位置合わせが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】マスクの上に配置されたマスクマークとプレートの上に配置されたプレートマークとの間の位置合わせを行う露光装置であって、マスクマーク及びプレートマークを同時に計測して画像を取得する画像計測装置と、画像計測装置により取得された画像からマスクマークとプレートマークとの間の相対的な位置誤差を算出する位置誤差演算装置と、画像計測装置による画像取得期間中に、マスクを搭載したマスクステージ又はプレートを搭載したプレートステージの駆動目標位置に対する位置偏差を計測する偏差計測装置と、偏差計測装置により得られたマスクステージ又はプレートステージの位置偏差と、位置誤差演算装置により得られた位置誤差とを用いて、マスクマークとプレートマークとの間の位置合わせを行うための補正量を算出する補正量演算装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光方法を提供する。
【解決手段】この露光方法は、基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して基板上に露光光を照射するとともに、露光光に対して基板を移動することによって、基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法である。基板の移動速度は、複数のショット領域のそれぞれの基板上での位置に応じて決定される。 （もっと読む）

【課題】複数の光学要素からの光を用いる場合に、それらの光学要素からの光が後続の光学部材の表面の狭い領域に集光されにくくする。
【解決手段】光源７からの光を用いてレチクル面を照明する照明装置２であって、その光の光路に二次元的に配列される複数のミラー要素３と、複数のミラー要素３を駆動し、個別に光の偏向方向を制御する駆動部４と、複数のミラー要素３で偏向された光をフライアイレンズ１５の入射面２２Ｉに導くリレー光学系１４と、を備え、リレー光学系１４は、複数のミラー要素３における光の偏向方向が同一方向にそろったときに、その同一方向の光が入射面２２Ｉで１点に集光することを阻む。 （もっと読む）

【課題】被支持体の可動範囲における支持力の変化を低減できる磁気支持機構を実現する。
【解決手段】第１の磁石２２ａと、当該第１の磁石２２ａに対向配置される第２の磁石２２ｂと、前記第１、第２の磁石２２ａ、２２ｂの磁極と同極となるよう配置される第３の磁石１２とを備え、同極同士が対面するように前記第１，第２の磁石２２ａ、２２ｂの間の隙間に前記第３の磁石１２の一部分を挿入し、前記第１及び第２の磁石２２ａ、２２ｂの組と前記第３の磁石１２のいずれか一方を固定部、いずれか他方を可動部として、当該可動部に接続された被支持体を、前記第３の磁石１２が挿入されるＺ方向に移動可能に支持する磁気支持機構であって、前記第３の磁石１２は、Ｙ方向における磁力が作用する実効的な幅が、前記第１、第２の磁石２２ａ、２２ｂの間に挿入される端部より反対側の端部の方が狭くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】所定面における照明光の光強度分布を実質的に回転することなく、光強度を調整する。
【解決手段】レチクルＲのパターン面を照明する照明装置１２であって、所定面における照明光の光強度分布を形成する回折光学素子５Ａと、回転可能なターレット板３１と、ターレット板３１の回転によって照明光の光路を横切る位置に、かつターレット板３１に対して回転可能に回折光学素子５Ａを取り付ける回転枠３３Ａと、回折光学素子５Ａの少なくとも一部が照明光の光路にあるときに、ターレット板３１の回転角に応じて回転枠３３Ａを回転させて、回折光学素子５Ａを照明光の光路を横切る方向に並進移動させる並進ユニット６Ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置のフットプリントの狭小化を図る。
【解決手段】投影光学系ＰＬ等を備える露光ステーション２００とアライメント装置９９等を備える計測ステーション３００とが、それぞれの基準軸ＬＶ，ＬＨが直交するように、配置されている。さらに、露光ステーション２００と計測ステーション３００とのそれぞれから離間する基準軸ＬＶ，ＬＨの交点上に、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２間で微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２をリレーするためのセンターテーブル１３０が設置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送に用いる基板トレイ上に基板を平面度良く載置する。
【解決手段】複数の第１支持ピン６２上に載置された基板Ｐは、複数の第２支持ピン６３によりその下面が押圧されることにより、その撓みが抑制される。そして、撓みの抑制された基板Ｐが、基板トレイ９０上に載置されるので、基板を基板トレイ９０上に基板を平面度良く載置できる。基板Ｐは，基板Ｐの端部を下方から支持する基板搬送ロボットにより複数の第１支持ピン６２上に載置されるために、複数の第１支持ピン６２は、基板Ｐの端部を支持することができず、基板Ｐは、複数の第１支持ピン６２に載置された状態で、その端部が自重により垂れ下がっているが、複数の第２支持ピン６３によりその垂れ下がりが抑制される。 （もっと読む）

【課題】縮小投影露光方法で形成するレジストパターンの線幅の変動を小さくすること。
【解決手段】密集パターンに対応する、帯状レジストパターンの最大線幅と基板表面位置の関係を示す第１の最大線幅位置特性と、孤立パターンに対応する、前記最大線幅と基板表面位置の関係を示す第２の最大線幅位置特性を導出し、前記第１の最大線幅位置特性における、所望の最大線幅に対応する第１の基板表面位置と、前記第２の最大線幅位置特性における、前記所望の最大線幅に対応する第２の基板表面位置の中間の基板表面位置を、露光時の基板表面位置として定める第１の工程と、基板表面を前記露光時の基板表面位置に配置し、前記基板表面に形成したレジ膜に縮小投影露光を施した後、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する第２の工程とを有すること。 （もっと読む）