【課題】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置において、投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定Ｓ１０１、マスクのパターンの光学像を評価するためのカットラインを前記投影光学系の像面に設定Ｓ１０４、前記照明光学系の瞳面に形成される互いに異なる複数の要素光源を生成Ｓ１１０、前記複数の要素光源のそれぞれで前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定したカットラインの上に形成される前記マスクのパターンの光学像を算出Ｓ１１４、前記マスクのパターンの光学像の前記カットラインの上のエッジの間の中点の位置を目標位置に近づけるように、重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定するＳ１１４、とを有する。 （もっと読む）

【課題】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置において、投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定Ｓ１０２、マスクのパターンの光学像を評価するためのカットラインを前記投影光学系の像面に設定するＳ１０４、前記照明光学系の瞳面に形成される互いに異なる複数の要素光源を生成するＳ１０８、前記複数の要素光源のそれぞれで前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定したカットラインの上に形成される前記マスクのパターンの光学像を算出Ｓ１１０、前記マスクのパターンの光学像の前記カットラインの上の寸法の目標値に近づけるように、前記複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、前記重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定するＳ１１２、とを有する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイと基板との間に異物が入り込むことを防止することができ、基板の異常接近及び前記異物によりマイクロレンズに傷がつくことを防止できる露光装置及び光学部材を提供する。
【解決手段】透明基板１の上方に複数個のマイクロレンズ３ａが形成されたマイクロレンズアレイ３が配置され、このマイクロレンズアレイ３はその端面６でマスク４に接合されている。マスク４には、マイクロレンズアレイ３の両側にアライメントマーク台１２が接合されており、このアライメントマーク台１２の基板１との対向面にアライメントマーク１１が形成されている。アライメントマーク台１２と基板１との間の間隔は、マイクロレンズアレイ３と基板１との間隔よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、得られたパターン画像等に基づいて、正確なプロセスモニタ可能とする半導体製造装置の管理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、複数の位置のパターンの形状情報と、露光装置の露光条件との関連を記憶するライブラリと、画像情報から抽出された複数の位置の形状情報と、ライブラリに記憶された形状情報を比較し、画像情報から抽出された複数のパターンの形状情報に相当する複数の露光条件の範囲の論理積に基づいて、前記露光条件を抽出する演算装置を備えた半導体製造装置の管理装置、及び上記処理を実行するコンピュータプログラムを提案する。 （もっと読む）

【課題】基板の反り量が大きい場合等であっても適切な露光を行うことができ、好ましくは基板内のチップ等の損傷を回避することもできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置には、ステージ３上に載置された基板１２に光を照射する光源１と、光源１側から基板１２をステージ３に押圧する押圧部材２と、基板１２の押圧部材２により押圧されている領域の平坦度を測定するセンサ４と、センサ４により測定された平坦度に応じて押圧部材２が基板１２を押圧する力を制御する制御部５と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面位置を精度高く計測すること。
【解決手段】基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。また、フォーカス位置を変化させた際にパターン倒れが発生しない大きさ以上の線幅を有するラインパターンを使用してベストフォーカス位置を算出する。これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 （もっと読む）

【課題】使用時の投影光学系の光学特性を計測することができる計測用光学部材、マスク、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 （もっと読む）

【課題】複数のウェハ支持部材および密封部材がホルダ基板に形成されたウェハホルダにおいて、ウェハ吸着面の平面度を一層向上させる。
【解決手段】複数のウェハ支持部材６および密封部材３、４をホルダ基板２に形成する（ｂ）。密封部材３、４の上面３ａ、４ａを切削または研削して当該上面３ａ、４ａの高さを複数のウェハ支持部材６の上面６ａの高さより低くする（ｄ）。複数のウェハ支持部材６の上面６ａを切削または研削して当該上面６ａの高さを密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さに一致させる（ｆ）。このように、密封部材３、４とウェハ支持部材６とが別個に加工されるため、ウェハ支持部材６の上面６ａの高さと密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さとを加工後に一致させることができる。したがって、ウェハホルダ１のウェハ吸着面の平面度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】微動ステージと粗動ステージとの衝突時の衝撃を緩和する。
【解決手段】 例えば、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、及び微動ステージ５０がＸ軸方向に移動している際にその位置制御が不可能になると、主制御装置は、複数のＸリニアモータ２０ａ〜２０ｈ、及び複数のＸボイスコイルモータ１８ｘに対する電力供給を停止するとともに、複数の複数のＸボイスコイルモータ１８ｘのダイナミックブレーキを作動させ、所定時間経過後、複数のＸリニアモータ２０のダイナミックブレーキを作動させる。 （もっと読む）

【課題】物体に対するパターンの転写のための走査露光中にマスクを温度調整する。
【解決手段】マスクを用いてステップ・アンド・スキャン方式の露光を行って、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する際に、マスクの表面の温度分布の目標から定まるマスク上での平均熱伝達率分布の目標ｈ（ｙ）とマスクＲの滞在確率分布Ｐ（Ｙ）とから求まる熱伝達率分布Ｈ（Ｙ）に従ってマスクを温度調整する。これにより、スループットを落とすことなくマスクを温度調整することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】ウエハとパターンとを精度良く位置合わせする。
【解決手段】位置計測系を用いてステージの位置を計測し、その計測結果に基づいてステージを駆動し、ステージ上に保持されたウエハ上のアライメントマークをアライメント系を用いて検出して得られる検出結果と、その検出結果に対するステージの位置に依存する補正情報（理想格子の格子点ｍ_ｉｊについて与えられた補正データ）と、に基づいてウエハ上に形成されるパターンが理想格子状に配列されるようにウエハを保持するステージを駆動する。 （もっと読む）

【課題】１つの装置で異なる被検査物の異物検査を実施した際に、検出した異物がいずれの被検査物に付着しているかを判定することができる異物検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物２、３に対して照明光を照射する照明手段７と、照明光の照射を受け、異物から発生する散乱光を受光する受光手段８と、被検査物を面方向、若しくは面に対する法線方向に駆動する第１駆動手段６と、照明手段７、受光手段８、及び第１駆動手段６の動作及び処理を制御する制御手段１２とを備え、第１駆動手段６は、複数の被検査物２、３を個別に駆動が可能であり、受光手段８は、第１駆動手段６による駆動前後において散乱光を受光し、制御手段１２は、駆動前後に検出された、それぞれの異物の検出結果に基づいて検出結果の変化を導出し、変化に基づいて複数の被検査物２、３のいずれの被検査物に異物が付着しているかを判定する。 （もっと読む）

【課題】露光毎に露光領域全体の観察を行うことにより、異物、キズ、レジスト塗布ムラなどの欠陥をいち早く検出することを可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、所望の露光パターンを生成するためのパターン情報を生成するパターン生成部であるＤＭＤ素子３と、このＤＭＤ素子３で生成された露光パターンを基板７上に投影する投影光学系４，４０と、投影領域全体を非露光光で照明する観察照明光学系７０と、露光領域を観察する観察光学系８０と、観察光学系８０による観察画像を基に、露光領域内の欠陥の有無を判定する欠陥解析部１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ボンディングパッド１２の輪郭Ｘよりも内側で輪郭Ｘに沿った第１のラインＬ１より内側の第１領域に形成され、ボンディングパッド１２の表面が露出した第１の開口部２１Ａと、第１の開口部２１Ａ上に第１の開口部２１Ａよりも大きい開口面積で形成され、ボンディングパッド１２の輪郭Ｘよりも外側で輪郭Ｘに沿った第２のラインＬ２より内側の第２領域に形成された第２の開口部２１Ｂとからなる開口部２１を有する保護膜２１を備えた半導体装置を製造効率良く低コストに製造する。
【解決手段】露光工程において、フォトマスクとして、第１のラインＬ１より内側の領域と、第１のラインＬ１から第２のラインＬ２までの領域と、第２のラインＬ２より外側の領域の光透過量がそれぞれ異なるレチクル５１を用いる。 （もっと読む）

【解決課題】
消耗部品の交換による運転停止が最小限ですみ、かつ装置構成を小型化可能な液浸露光用超純水の製造方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
液浸露光装置における投影光学系の最下面とレジスト間の露光光通過空間に供給される液浸露光用の超純水を製造するにあたり、流路に沿って複数の紫外線照射装置を直列配置し、その下流にイオン交換装置を配置して、ＴＯＣ１０ｐｐｂ以下の一次超純水を供給し、紫外線照射装置の一つを使用して液浸露光用の超純水を連続的に製造するとともに使用中の紫外線照射装置の性能を監視する。この紫外線照射装置の性能が所定のレベル以下になったとき、他の紫外線照射装置に切替えて連続運転を続ける。 （もっと読む）

【課題】デフォーカス部分を正確に検出できるとともに、デフォーカス部分を検出した場合であっても、生産性や歩留まりを低下させることなく半導体ウェハーを製造することが可能な露光方法並びに露光装置を提供する。
【解決手段】露光スキャン処理の直前に、フォトレジスト膜２のデフォーカス部分２１を検出するオートフォーカススキャン処理を行い、露光スキャン処理は、オートフォーカススキャン処理において検出されたデフォーカス部分２１の検出信号に基づいてフィードバック制御を行なうことにより、デフォーカス部分２１をブラインドしながら露光することで、半導体ウェハー１上のデフォーカス部分２１にレジストパターンを残存させる。 （もっと読む）

【課題】部材をクリーニングして露光不良の発生を抑制できるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置のクリーニング方法は、露光の前及び後の少なくとも一方において、露光において基板の周囲の少なくとも一部に位置する所定部材の表面の、露光において露光光が照射されない所定領域に洗浄光を照射することを含む。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクと基材との位置合わせの時間を短縮することが可能なフォトマスクと基材との位置合わせ方法およびそれを用いた配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】露光システムは、露光機６０および画像処理装置６４を備える。露光機６０は、複数のカメラ６２ａ，６２ｂを含む。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードおよびパーシャルスキャンモードに選択的に設定可能に構成される。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードでは、得られた画像データの全てを転送し、パーシャルスキャンモードでは、得られた画像データから一部を抽出して転送する。画像処理装置６４が、カメラ６２ａから転送される画像データを用いた処理とカメラ６２ｂから転送される画像データを用いた処理とを並列的に行う。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの位置の検出精度を低下させることなくアライメントマークの位置の検出に要する時間を短縮することが可能なアライメントマークの検出方法および配線回路基板の製造方法を提供する
【解決手段】カメラ６２により得られる画像の範囲内にアライメントマークＡＭが存在しない場合に、画像の範囲内に存在する識別マークおよび予め記憶されたアライメントマークＡＭと識別マークとの位置関係に基づいてアライメントマークＡＭの座標が算出される。算出されたアライメントマークＡＭの座標に基づいてカメラ６２の撮像範囲内にアライメントマークＡＭが位置するために長尺状基材１００ａを移動させるべき距離が算出され、長尺状基材１００ａが算出された距離移動される。 （もっと読む）

【課題】 複数のミラー要素を経た光の過度な集光により光学部材が損傷を受けるのを確実に回避することのできる空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット（３）は、所定面内に配列されて個別に制御される複数のミラー要素（３０ａ；ＳＥａ〜ＳＥｄ）を有し、該複数のミラー要素の反射面が凹面状（凸面状）に形成された空間光変調器（３０）と、入射した光束を発散光束（または収束光束）に変換して空間光変調器へ導く光束変換素子（３１）とを備えている。 （もっと読む）