【課題】露光用フォトマスク表面への異物付着を抑制する。
【解決手段】光源と、前記光源から発せられる光を集光し一定方向へ導く投影光学系と、前記投影光学系からの光が照射される所定のパターン像を有する露光用フォトマスクと、を備える投影露光装置において、前記露光用フォトマスクの少なくとも一方の面に対して、気体を噴射して異物をブローするブロー噴射機構と、前記気体とともに前記異物を吸引除去するブロー吸引機構とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系のフォーカス位置を調整し、基板の平坦度の影響を低減して原版のパターンを基板上に投影する投影光学系を提供する事を目的とする。
【解決手段】 本発明の投影光学系は、原版のパターンの像を基板上に投影する投影光学系であって、投影光学系は、複数の光学透過素子を備えており、複数の光学透過素子の表面形状は、連続的であって、互いに異なる周期を有し、複数の光学透過素子の少なくとも１つを周期方向にシフトさせることでフォーカス調整を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形を計測するレーザ干渉計を追加することなく、本体構造体の弾性変形により発生するステージ間の相対位置誤差を補正する露光装置を提供すること。
【解決手段】 露光装置1は、マスク2を保持するマスクステージ4と、基板3を保持するプレートステージ5と、マスクステージ4とプレートステージ5の位置を計測するレーザ干渉計と、レーザ干渉計の計測結果に基づいてマスクステージ4とプレートステージ5の位置を制御する制御演算器16および駆動装置と、マスク2に描画されたパターンを基板3に投影する投影光学系6とを有する。本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、メインパターン領域内にマーク類を形成することなく、Ｎ×Ｎショットのサイズの半導体チップを製造することが可能な、半導体チップの製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、チップ領域５の寸法がイメージフィールドよりも大きい半導体チップの製造方法であって、（ａ）メインパターン５ａを形成するメインマスク１と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの上下に位置する部分を形成する上下マスク２と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの左右に位置する部分を形成する左右マスク３と、周辺パターン５ｂの中でメインパターン５ａの角部に位置する部分を形成する隅マスク４を準備する工程と、（ｂ）メインマスク１、上下マスク２、左右マスク３、隅マスク４を組み合わせてチップ領域５を含むショット配列を形成する工程と、（ｃ）当該ショット配列に従いマスク毎に露光する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】正確な照明パターンを迅速に形成する。
【解決手段】光源から入射した光源光を個別に設定された反射角度で反射してそれぞれが反射光を射出する複数の反射鏡を有する空間光変調器と、複数の反射鏡の各々に設定する反射角度を算出する算出部と算出部が算出した反射角度を複数の反射鏡のそれぞれに設定する駆動部とを備えた照明装置であり、算出部は、反射光により被照射面に照明パターンを形成すべく複数の反射鏡の一部に設定する反射角度と、照明パターンの形成に寄与しない不要反射光を射出する複数の反射鏡の他の一部について、不要反射光が被照射面に照明パターンの背景を形成する反射角度とを算出する。 （もっと読む）

【課題】照明光源の形状の目標に対する一致度合が正確に評価する。
【解決手段】 目標Ψ_０に基づいて照明光学系の瞳面に形成された照明光源の形状Ψを計測し（ステップ２０８）、計測されるべき照明光源の形状を、照明光学系内の光学部材の特性を考慮して前記目標に基づいて予測し（ステップ２０５）、前記計測の結果〈Ψ〉と前記予測の結果Ψ_Ｉとのずれに基づいて、照明光源の形状の目標に対する一致度合を評価する（ステップ２０９、２１０）。これにより、照明光源の形状の目標に対する一致度合が正確に評価される。 （もっと読む）

【課題】目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成する。
【解決手段】 複数のミラー要素ＳＥ_ｋ（ｋ＝１〜Ｋ）を、それぞれのミラー要素によって反射される光の強度Φ_０ｋの順に、単位数（例えばＮ）毎に、複数のレンズ素子ＦＬ_ｎのうちの目標照明光源形状Ψ_０を形成するのに必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）（に対応する複数のグループａ〜ｆ）に対応付けることと、必要な数Ｎのレンズ素子ＦＬ_ｎ（ｎ＝１〜Ｎ）のうちの２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋのうちの少なくとも各１つのミラー要素同士を入れ替えて、２つのレンズ素子のそれぞれに対応付けられたミラー要素ＳＥ_ｋについての光の強度の和Φ_０ｋを平均化する。これにより、目標照明光源形状を正確に再現した照明光源を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】良好な結像性能を与える露光条件及びマスクパターンを決定することができるプログラム及び方法を提供する。
【解決手段】露光条件及びマスクパターンを設定する第１ステップと、前記露光条件を用いて、投影光学系により基板上に形成されるマスクパターンの像の良否についての指標を示す第１評価関数を用いて前記マスクパターンを仮決定する第２ステップと、仮決定された前記マスクパターンと前記露光条件とを用いて、前記投影光学系により基板上に形成されるマスクパターンの像の良否についての指標を示す第２評価関数の値を算出する第３ステップと、前記第２評価関数の値に基づいて前記露光条件及び前記マスクパターンを変更する第４ステップと、前記露光条件及び前記マスクパターンを初期値として前記第２ステップ及び前記第３ステップを繰り返す処理を実行するか否かを判定する処理を含む第５ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】照明光源の形状を必要な形状に容易に調整できるようにする。
【解決手段】光源調整方法は、照明光源の目標とする形状に対する実際の形状の変化を表す画像変調パラメータＺ_jを設定するステップ１０２と、照明系変調パラメータｆＢｊに基づいて照明光源の形状が調整される第１の照明光学系に関して、画像変調パラメータＺ_jと照明系変調パラメータｆＢｊとの変換の行列Ｂを求めるステップ１１３，１１４と、その行列Ｂを用いて、画像変調パラメータＺ_jの第１組の値ＺＶ_jに対応する照明系変調パラメータｆＢｊの第２組の値ｆＢＶｊを求めるステップ１１６と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で液体を介して基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、脱気処理された第１の液体を介して射出面からの露光光が照射された非晶質フッ素樹脂を含有する膜の表面に、第１の液体よりも所定ガス濃度が高い第２の液体を供給することと、膜の表面に第２の液体を介して紫外光を照射することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ投影露光装置に備わる投影光学系の瞳面内の透過率分布を高精度に計測することのできる技術を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ投影露光装置において、反射光に位相差を与える複数のライン状の位相差パターンＭＰを有する検査用マスクを用いて、ウエハの主面上に位相差パターンＭＰの投影像を形成し、位相差パターンＭＰの一方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量と、位相差パターンＭＰの他方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量とを比較することにより、ＥＵＶ投影露光装置の瞳面内の透過率分布を把握する。 （もっと読む）

【課題】稠密に配列された大面積のミラー素子を有する空間光変調器を構成する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれの反射面ＳＥＡ内の頂点ＳＥｐを中心に傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを反射面ＳＥＡの裏面上で頂点ＳＥｐを含んで同一直線上にない複数の位置にて反射面ＳＥＡに対する垂直方向に駆動する複数のボイスコイルモータＳＶｋとから、空間光変調器が構成される。 （もっと読む）

【課題】大面積のミラー素子を有する空間光変調器を提供する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれ複数の板ばねＳＥＬを用いて傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを、反射面ＳＥＡの裏面側で同一直線上にない３以上の複数点でベース部材ＳＶｂに接近する方向に駆動する複数の電磁石ＳＣｋとから、空間光変調器が構成されている。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件又は複数の結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理することにより検出信号の波形の変形に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果に対するＴＩＳが評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件又は複数の結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果に対するＴＩＳが最小になるようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】近似関数にて算出したショット端でのドーズ量が発散するのを防止する。
【解決手段】計測領域Ｒ１の寸法計測データＣＤをショット端ＳＴより外側のショット外領域にミラーリングすることにより仮想データを生成し、計測領域Ｒ１の寸法計測データＣＤおよび仮想計測領域Ｖ１〜Ｖ８の仮想データに基づいて計測領域Ｒ１および仮想計測領域Ｖ１〜Ｖ８のドーズデータを算出し、ドーズデータが算出された計測領域Ｒ１および仮想計測領域Ｖ１〜Ｖ８からショット領域Ｋ１を切り出す。 （もっと読む）

【課題】製造が比較的容易な構成を有し、照明光学系の光路中に配置されて連続性の高い周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することのできる偏光変換ユニット。
【解決手段】入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換部材５１を備えた偏光変換ユニットにおいて、偏光変換部材５１は、旋光性の光学材料により形成され且つ光軸を横切る面に沿って並列的に配置された複数の偏光変換部５１１〜５１４を有し、複数の偏光変換部５１１〜５１４は、平面状の入射面と該入射面と非平行な平面状の射出面とをそれぞれ有する。 （もっと読む）