【課題】ステージの静定時に発生する振動を効果的に減衰させる。
【解決手段】Ｙステージ２に対するＸステージ３の位置を計測する計測手段（リニアモータ用干渉計）と、Ｘモータ３２によってＸステージ３へ与えられた移動量に基づき定まる位置と計測手段によって計測された位置との差分を求めることによりＸステージ３の位置の振動成分を得る振動成分抽出手段と、を備え、前記得られた振動成分に基づき算出されるリニアモータ制御値ＥＤ＿Ａ，ＥＤ＿Ｂに従ってリニアモータ（Ｘリニアモータ固定子３３Ａ，３３ＢおよびＸリニアモータ可動子３４Ａ，３４Ｂ）によりＸステージ３の振動を減衰させる制御を行う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ投影装置の精度を損う振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力、特に偏揺れモーメントを容易に吸収できる平衡位置決めシステムを提供すること。
【解決手段】この投影システムのベースに対して少なくともＹ方向に自由に動けるように支持した二つの平衡質量２０、３０の上に、マスクを坦持するマスクテーブルＭＴをＸＹ平面で自由に動けるように支持する。マスクの位置決めのためには、このマスクテーブルＭＴをそれと平衡質量２０、３０の間に作用する駆動装置１８、１７によってＹ方向に駆動し、１９によってＸ方向に駆動し、その反力を平衡質量で吸収する。これらの駆動装置互いに逆方向に駆動すれば、偏揺れ運動を相殺するために必要なトルクが得られる。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。投影光学系の像面付近に配置された部品の上側に、部品に対する液体の付着を防止するための庇部材が設けられている。 （もっと読む）

【課題】実質的に所定平面に沿って移動する移動体の、該所定平面に垂直な方向の位置情報を、安定かつ高精度に計測する。
【解決手段】投影ユニットＰＵの＋Ｘ，−Ｘ側にそれぞれ複数のＺヘッド７６，７４が、常時各２つのＺヘッドが対になってウエハステージ上の一対のＹスケール（反射面）に対向するように、Ｘ軸と平行に、Ｙスケールの有効幅の半分以下の間隔ＷＤで配列されている。同時にＹスケールに対向する２つのＺヘッドからなるヘッド対のうち、優先ヘッドの計測値を、優先ヘッドの計測値がヘッドの動作不良等により異常である場合には他方のヘッドの計測値を、使用して、ウエハステージの少なくともＺ軸方向の位置情報を、安定かつ高精度に計測する。 （もっと読む）

【課題】２次元平面内を移動する移動体の位置を安定かつ高精度に計測する。
【解決手段】投影ユニットＰＵの＋Ｘ，−Ｘ側にそれぞれ複数のＹヘッド６５，６４を、常時各２つのヘッドが対になってウエハステージ上の一対のＹスケールに対向するように、Ｙスケールの有効幅の半分以下の間隔ＷＤで、Ｘ軸と平行に配列する。同様に、投影ユニットＰＵの＋Ｙ，−Ｙ側にそれぞれ複数のＸヘッド６６を、常時各２つのヘッドが対になってＸスケールに対向するように、間隔ＷＤで、Ｙ軸と平行に配列する。同時にスケールに対向する２つのヘッドからなるヘッド対のうち、優先ヘッドの計測値を、優先ヘッドの計測値がヘッドの動作不良等により異常である場合には他方のヘッドの計測値を、使用する。そして、２つのＹヘッド対と１つのＸヘッド対の計測値を用いてウエハステージの２次元平面内での位置を、安定かつ高精度に計測する。 （もっと読む）

【課題】２次元平面内を移動する移動体の位置を安定かつ高精度に計測する。
【解決手段】投影ユニットＰＵの＋Ｘ，−Ｘ側にそれぞれ複数のＹヘッド６５，６４を、常時各２つのヘッドが対になってウエハステージ上の一対のＹスケールに対向するように、Ｙスケールの有効幅の半分以下の間隔ＷＤで、Ｘ軸と平行に配列する。同様に、投影ユニットＰＵの＋Ｙ，−Ｙ側にそれぞれ複数のＸヘッド６６を、常時各２つのヘッドが対になってＸスケールに対向するように、間隔ＷＤで、Ｙ軸と平行に配列する。同時にスケールに対向する２つのヘッドからなるヘッド対のうち、優先ヘッドの計測値を、優先ヘッドの計測値がスケール表面に付着したゴミなどに起因して異常な場合には他方のヘッドの計測値を、使用する。２つのＹヘッド対と１つのＸヘッド対とを用いてウエハステージの２次元平面内での位置を、安定かつ高精度に計測する。 （もっと読む）

【課題】ステージ側面に設けられた反射面（Ｚ干渉計の反射面）が液浸領域の液体で濡れることを防止する。
【解決手段】液浸領域１４を含む領域に、一方のウエハステージＷＳＴ１が位置する状態から他方のウエハステージＷＳＴ２が位置する状態に移行させる際に、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、それぞれに設けられた庇部２３ａ，２３ｂを係合させてＸ軸方向に近接又は接触した状態にし、その状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動する。このようにして、液浸領域１４を、庇部を介して２つのステージ上で往来させる。これにより、両ウエハステージ間の隙間を介した液体の漏れを抑制することができ、また、両ウエハステージの側面に設けられた反射面２７ｅ，２７ｆに対する液体の漏れを抑制することができる。また、両ウエハステージに設けられた反射面同士の干渉を回避できる。 （もっと読む）

【課題】２つの基板ステージを接近させての一方の基板ステージから他方の基板ステージに液体を移動させる際に該２つの基板ステージの間隙に液体が進入する
【解決手段】液浸露光装置は、ウエハを保持して移動する第１および第２基板ステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２と、第１および第２ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のうち一方のステージと投影光学系１３の最終面との間から他方のステージと投影光学系１３の最終面との間に液体ＩＭＬを移動させる液体移動時における液体ＩＭＬの圧力を制御する制御部１２とを備える。制御部１２は、液体移動時に、ウエハの露光時よりも、第１および第２基板ステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２と投影光学系１３の最終面との間隔を広げる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面位置及び姿勢の制御を高精度に維持する。
【解決手段】第１駆動信号により第１方向に駆動されるとともに、第２駆動信号により第１方向と交差する第２方向に駆動されるステージＷＴＢを制御する。第２駆動信号に基づいて、第１駆動信号を補正する補正ステップを有する。 （もっと読む）

【課題】 基板テーブルを保持するように構築されたチャックを含むリソグラフィ装置、オブジェクトを配置するステージ装置、及びデバイス製造方法に関する。
【解決手段】 リソグラフィ装置について説明し、装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを生成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、基板テーブルを保持するように構築されたチャックと、使用時にチャックを変位する位置決めデバイスと、位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットと、を備え、制御ユニットは、位置決めデバイスを駆動して、パターニングデバイスを位置合わせする前に、チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起するように構成される。 （もっと読む）

【課題】
スライダエアーベアリングの供給エアーの温度上昇による干渉計計測空間の揺らぎの発生、ならびに６軸微動駆動ステージおよびウエハ支持手段の熱歪の発生を防ぎ、もって、ステージ位置決め精度の向上を図る。
【解決手段】
基準面を有する定盤と、基板を搭載して該基準面上で移動する移動体とを有し、前記移動体に設けられ、該移動体を前記基準面上で移動可能に支持する静圧軸受けと、該移動体を基準面に沿う二次元方向に駆動する平面モータとを有するステージ装置において、前記平面モータは可動子としてコイルを備え、前記静圧軸受けと前記コイルとの間の少なくとも一部に冷却手段を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】性能の低下を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】チャンバの内側に配置されるステージ装置は、プレート部材と、プレート部材の上面側で移動可能な可動部材と、プレート部材を３箇所で支持する支持部と、プレート部材の下面と対向するチャンバの内側の設置部に設けられ、プレート部材の下面の少なくとも２箇所で接触可能な対向部を有するストッパ装置と、を備え、チャンバの内側の圧力に応じて、下面と交差する方向に関する対向部の位置が変化する。 （もっと読む）

本発明は、光学装置（１０１）の位置測定装置（１０７）を構成する方法に関する。測定ステップ（１１０．２）で、規定可能なスキームに従って少なくとも１つの自由度で光学装置（１０１）の可動ユニット（１０６．２）を移動し、少なくとも１つの自由度で可動ユニット（１０６．２）の位置を検出し、位置測定装置（１０７）の第１測定装置（１０７．１）による第１測定で、少なくとも１つの自由度で可動ユニット（１０６．２）の位置を検出し、可動ユニット（１０６．２）に接続された基準素子（１０７．５）を使用して、位置測定装置（１０７）の第２測定装置（１０７．３）による第２測定で、少なくとも１つの自由度で可動ユニット（１０６．２）の位置を検出し、較正ステップ（１１０．５）で、第１測定および第２測定の結果を使用して第１測定装置（１０７．１）を較正する。第２測定装置（１０７．３）としてエンコーダシステムを使用し、基準素子（１０７．５）にエンコーダシステム（１０７．３）の基準格子を設ける。
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【課題】描画時間の短縮を実現しつつ、描画位置精度を高くする描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画装置１に、露光位置記憶部５０１、露光位置演算部５０２、クロック信号生成部５０３、分周部５０４、レーザ測長インターフェース（Ｉ／Ｆ）５０５、位置サンプリング部５０６、移動量取得部５０７、位置比較部５０８、位置保持レジスタ５０９、位置差分演算部５１０、到達時間演算部５１１、遅延パルス数演算部５１２、露光直前信号生成部５１３、カウンタ５１４および露光信号生成部５１５から構成される補正処理部５００を設ける。補正処理部５００は、レーザ測長器７０が測長した基板９０の測定位置から所望の露光位置にまで基板が到達するのにかかる時間を演算し、その時間分遅延させて光を照射するように光照射部３０を制御する。 （もっと読む）

【課題】
静電気による製品の不良が少なく、アライメント誤差やフォーカス誤差が小さい液浸露光装置を提供する。
【解決手段】
投影光学系３０の基板４０に最も近接したレンズと基板４０の間に供給される液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置において、液体ＬＷは、炭素と水素を含む化合物を含み、基板４０とレンズの間にある液体ＬＷの周囲に供給される酸素を含まない気体に第１の水蒸気を添加する第１の水蒸気添加機構３０５と、基板４０の位置を計測する測距装置に使用する光の光路を含むチャンバ４０１内の気体に第２の水蒸気を添加する第２の水蒸気添加機構５０１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】線形時変信号とノイズとを含む原信号中のノイズを低減する方法および装置を提供する。
【解決手段】この方法および装置において、原信号が微分されて、微分原信号を取得する。微分原信号がフーリエ変換されて、微分原信号のパワースペクトル密度を取得する。ノイズ振動数が、微分原信号の取得パワースペクトル密度のパワースペクトル密度スペクトル中で検出される。ノイズ振動数について、対応するノイズコンポーネントが決定される。ノイズコンポーネントが原信号から減算されて、ノイズを低減させた原信号を取得する。 （もっと読む）

【課題】反射鏡の曲がりに起因する干渉計の計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される干渉計を用いて、移動体を高精度に駆動する。
【解決手段】Ｚ干渉計４３Ａ，４３Ｂを用いてステージＷＳＴがＺ変位しないように制御して、該ステージＷＳＴをＹ軸方向に駆動しながら、センサ７２ｃ，７２ｄを用いてステージＷＳＴの上面のＺ変位を計測し、Ｙ干渉計１６とＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂを用いてＹ変位を計測する。これらの計測結果より、Ｚ干渉計４３Ａ，４３Ｂの測長ビームＢ１，Ｂ２が投射される固定鏡４７Ａ，４７Ｂの曲がりを求める。ここで、２つのセンサ７２ｃ，７２ｄを用いてステージＷＳＴ上面の同じＸＹ位置の面位置を計測して、正味のＺ変位を求めることにより、上面の凹凸に起因する計測誤差が生じない、高精度な固定鏡の曲がり計測が可能になる。 （もっと読む）

【課題】計測対象面の凹凸に起因する面位置センサの計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される面位置センサを用いて、移動体を高精度に２次元駆動する。
【解決手段】 Ｘ干渉計１２７、Ｙ干渉計１６を用いて位置を監視しながらウエハステージＷＳＴを移動させ、センサ７２ａ〜７２ｄを用いてウエハステージ上面に設けられたＹスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２のＺ位置を計測する。ここで、例えば、２つの面位置センサ７２ａ，７２ｂの計測結果の差より、Ｙスケール３９Ｙ_２のＹ軸方向の傾きが得られる。Ｙスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２の全面について傾きを計測することにより、それらの２次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いてセンサの計測結果を補正し、該補正済みの計測結果を用いることにより、高精度にウエハステージを２次元駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】所定の２次元移動面の垂直方向と傾斜方向における移動体の位置座標を面位置計測システムと干渉計システムとで計測し、それらの計測結果を用いて移動体を安定かつ高精度に駆動する。
【解決手段】移動面に対する垂直（Ｚ）方向及び傾斜（θｙ）方向のステージＷＳＴの位置を、面位置センサ７２_ｋ，７４_ｉ，７６_ｊとＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂとを用いて計測する。そして、面位置センサの計測結果を用いるサーボ制御（第１制御モード）、Ｚ干渉計の計測結果を用いるサーボ制御（第２制御モード）、及び両計測システムの計測結果を用いるサーボ制御（第３制御モード）の３つの制御モードを適宜切り換えて、あるいは３つのうち２つの制御モードを適宜切り換えて、ステージを安定かつ高精度に駆動する。 （もっと読む）

【課題】露光動作を行なう際に、移動体表面のＺ位置を検出しつつ、マッピング時に検出した物体の面情報に基づいて移動体の位置を精度良く制御する。
【解決手段】制御装置は、ステージＷＳＴのＹ軸方向への移動中に、計測システムのＺヘッド７２ａ〜７２ｄでステージＷＳＴ上面のＹスケール３９Ｙ₂、３９Ｙ₁のＺ位置を検出しつつ、多点ＡＦ系（９０ａ，９０ｂ）を用いてウエハＷの面情報を取り込むスマッピングを行なう。また、計測システムのＺヘッド７４_i、７６_jでＹスケール３９Ｙ₂、３９Ｙ₁のＺ位置を検出しつつ、マッピング時に得たウエハの面情報に基づいてステージの位置を制御してウエハ上にパターンを形成する。また、マッピング時にＺヘッド７２ａ〜７２ｄで検出するＹスケール３９上の領域と、露光時に７４_i、７６_jで検出するＹスケール上の領域との少なくとも一部が共通である。 （もっと読む）