【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材から射出される露光光の照射位置を含む所定面内を移動可能な可動部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置されたスケール部材と、可動部材に配置され、スケール部材と対向可能なエンコーダヘッドを含み、可動部材の位置情報を計測する計測システムと、光学部材とスケール部材との位置関係を検出する検出システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】露光装置の稼働率を低下させることなく、高精度なウエハステージの駆動制御を行う。
【解決手段】露光動作、及び/又はアライメント計測中、制御装置により、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。制御装置は、ウエハステージの位置に応じて、例えばヘッド６４₂から６４₃へ切り換える際に、ヘッド６４₃の計測値と、該計測値に対するウエハステージの位置情報から予測される予測値との差を、較正データとして収集する。また、制御装置は、収集された較正データを用いて、個々のヘッドの計測値の基準として設定されているオフセットを、適宜、更新する。そして、更新されたオフセットとエンコーダシステムの計測結果とに従って、ウエハステージを駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の稼働率を低下させることなく高精度なウエハステージの駆動制御を維持する。
【解決手段】露光動作（図８（Ａ））及びアライメント計測動作（図８（Ｂ））の少なくとも一方と並行して、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報を計測し、エンコーダシステムの個々のヘッド６４〜６８の計測情報のこれに対応する基準情報からのずれを、較正データとして収集する。収集された較正データを用いて、個々のヘッドの計測誤差を補正するための較正情報を作成する。そして、エンコーダシステムの計測結果と作成された較正情報とに従って、ウエハステージを駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】空調機構の大型化を招くことなく、空調に必要な流量及び流速で気体を供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を露光する露光本体部を備える露光装置であって、前記露光本体部を収納するチャンバと、前記チャンバの内部を空調する空調機構と、を有し、前記空調機構は、前記チャンバの内部の対象領域に供給する圧縮された気体を流すためのパイプと、前記パイプに接続された吹出部と、を有し、前記吹出部は、前記パイプの断面積よりも小さい断面積を有して前記パイプを介して送られてきた気体を吹き出す吹出口と、前記吹出口から吹き出される気体を引きつけると共に、当該気体を表面に沿って流すことで前記吹出口による気体の吹出方向と異なる方向に気体を流して前記対象領域に誘導する誘導面と、を含むことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向ｘに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向ｙにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】
基板の厚さの変動によるオーバレイ精度の変動を低減すること。
【解決手段】
基準マークは、光軸の方向と第１方向とに直交する第２方向において且つ光軸の方向において異なる位置に配置された複数の基準マークを含み、制御手段は、第１干渉計の計測値に従って回転角を一定に保ちながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第１計測手段に計測させ、第２干渉計の計測値に従って回転角を一定に保つようにしながらステージを光軸の方向および第２方向に移動させて、複数の基準マークそれぞれの位置を第２計測手段に計測させ、第１計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置と第２計測手段により計測された複数の基準マークそれぞれの位置とに基づいて、光軸の方向におけるステージの位置に従って面内におけるステージの位置を補正する量を算出する。 （もっと読む）

【課題】特定のエリアでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供する。
【解決手段】 位置制御されるスライダ１と、このスライダ１と対向する面に磁極の歯が形成されてスライダ１と平面モータを構成するプラテン１０とを備えた位置決め装置において、
スライダ１の位置を検出するレゾルバ３０ａ〜３０ｃ（以下レゾルバ３０とする。）と、
プラテン１０の特定のエリアＡにおけるスライダ１の位置をレゾルバ３０よりも高い精度で検出するレーザ干渉計２０ａ，２０ｂ（以下レーザ干渉計２０とする。）と、
スライダ１の位置に応じてレゾルバ３０またはレーザ干渉計２０のいずれかの位置検出装置を選択する切替スイッチ１００ｃと、
位置指令値および切替スイッチ１００ｃで選択された位置検出装置で検出される位置検出値に基づいてスライダ１の位置制御を実行する位置制御部１０２と、
を備えたことを特徴とする位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】 温度変化に対してより感度が低いリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】 放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する投影システムと、物体に力を加えるアクチュエータとを備え、アクチュエータまたは別の熱源によって放散される任意の熱による物体の熱膨張によって引き起こされた誤差を回避するように構成された熱膨張誤差補償器を備える、リソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計の計測値と環境パラメータとに基づいてステージと光照射部との相対位置を制御しつつ、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止し、かつ、パターン描画装置の処理速度の低下も防止できるパターン描画装置および位置制御方法を提供する。
【解決手段】パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。これにより、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止することができる。また、位置ずれの発生を防止するために環境パラメータの計測頻度を高める必要はないので、パターン描画装置の生産速度の低下を招くこともない。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材と物体との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように液浸空間を形成する液浸部材と、光学部材に対して移動可能な物体の位置を光学的に計測可能な計測装置と、液浸部材の近傍に少なくとも一部が配置され、計測装置の計測光の光路の少なくとも一部を加湿する加湿装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】装置の物体のそのメトロロジーフレームに対する動きによって引き起こされる圧力パルスの効率的なフィードフォワード補償機構を提供する。
【解決手段】投影システムと、振動絶縁支持デバイスＩＳＤによって支持されたメトロロジーフレームＭＦと、移動可能な物体ＷＴと、メトロロジーフレームＭＦ及び／又は投影システムに対する物体ＷＴの位置、速度及び／又は加速度を決定する変位決定ユニットとを含むリソグラフィ装置において、メトロロジーフレームＭＦに補正力及び／又はトルクを印加する少なくとも１つのアクチュエータＦが提供され、メトロロジーフレームＭＦに対する物体ＷＴの動きに起因するメトロロジーフレームＭＦに作用する圧力パルスを補償するために、物体ＷＴの決定された位置、速度及び／又は加速度に基づいてメトロロジーフレームＭＦに印加される補正力及び／又はトルクを計算するように構成された制御装置Ｃが提供される。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題を解決するパターン作成装置の提供。
【解決手段】本発明に係る装置は、つぎ合わされた少なくとも２つの隣接する部分的画像が共通の境界でオーバラップし、オーバラップしている部分的画像の各々が、オーバラップ領域において本質的に同じパターン、及び減少された露光線量を有し、オーバラップ領域の減少された露光線量が、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態に設定する位相変調素子の能力を使って、位相変調アナログ空間光変調装置のアナログ機能により作られ、中間変調状態に設定された位相変調素子の微小領域素子から反射された光の複素振幅を一体化した光の複素振幅が、オーバラップ領域の減少された露光線量をつくることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
基板ステージに搭載される受光手段に付着するウォーターマークを検出する液浸露光装置を提供する。
【解決手段】
光源から発せられた露光光により、回路パターンが形成された原版を照明する照明光学系と、前記原版の前記回路パターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持する基板ステージと、を有し、前記投影光学系と液浸媒質とを介して前記基板に露光する露光装置において、前記基板ステージに搭載され、露光光を受光する受光手段と、前記投影光学系の下方において前記基板の位置を計測する計測手段と、を有し、前記計測手段により、前記液浸媒質に接触する前記受光手段の受光面の位置を計測し、前記受光手段に付着した付着物を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する詳細な情報を高速に検出できるシステムを提供する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。延在パターンは焦点感応性である。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向に沿って延在パターンの特性を測定することを含む。 （もっと読む）

【課題】水平方向の駆動に伴う鉛直方向の誤差を算出して鉛直方向の計測精度を向上させた露光装置を提供する。
【解決手段】基板ステージが第１領域に位置するときに、基板ステージが水平方向に駆動される前と後との双方において、基板の同一の箇所を第１計測器に複数の計測点で計測させ、第１計測器を用いた第１計測結果に基づいて第１領域における基板ステージの水平方向の駆動に伴う鉛直方向の第１変動量を演算し、第１計測結果から第１変動量を減算して基板の表面形状を表す数値を演算し、基板ステージが第２領域に位置するときの基板の鉛直方向の位置を表す数値から当該基板の表面形状に関する数値を減算して、第２領域における基板ステージの水平方向の駆動に伴う鉛直方向の第２変動量を演算し、第２変動量に基づいて、第２領域における前記基板ステージの鉛直方向の位置を制御する。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ計測を行う際に原版ステージと基板ステージの各々の微視的な変動を軽減させ、高精度な位置合わせを行う露光装置を提供する。
【解決手段】
原版を保持して移動される原版ステージと、前記基板を保持して移動される基板ステージと、前記原版ステージに配置された原版マークと前記投影光学系により投影された前記基板ステージに配置された前記基板マークとの撮像を行って前記原版マークの像と前記基板マークの像との相対位置を検出する検出手段と、前記原版ステージの動作と前記基板ステージの動作と前記検出手段の動作とを制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記検出手段に前記撮像を行わせている間、前記原版ステージおよび前記基板ステージの一方の位置偏差に基づいて前記原版ステージおよび前記基板ステージの他方を前記一方に追従させる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のステージ位置を較正する較正方法提供する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する検出方法。延在パターンは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴ上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。延在パターンは焦点感応性である。検出方法は、基板テーブルＷＴを第一方向に移動させ、その第一方向に沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向における延在パターンの物理的特性の結果であることがある。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】
レチクルとウェハ（ウェハステージ）との位置合わせ計測に用いる手順を状況に応じて変更させるようにした露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
原板（レチクル）ステージに保持された原板を基板（ウェハ）ステージに保持された基板に位置合わせして原板のパターンを基板に投影し基板を露光する露光装置であって、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとの位置関係を計測する計測部と、原板に付されたマークと基板ステージに付されたマークとを計測部の視野内に入れて計測部に計測を実行させる制御部とを具備し、制御部は、第１の手順（第１の手順は、第２の手順よりも計測部による原板に付されたマークの計測回数が少ない）及び第２の手順を少なくとも含む複数の手順のいずれかにしたがって計測部に計測を実行させ、当該実行した計測により得られた結果に応じて位置合わせを行なうように構成される。 （もっと読む）

【課題】露光中の合焦誤差及び／又はオーバーレイにおけるオフセットを改善するリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】可動オブジェクトの位置制御システムが、可動オブジェクト上のセンサ又はセンサターゲットの位置測定システムＭＳと設定位置と被測定位置ｐｏｓに基いた位置フィードバック信号との誤差信号ｅを供給するコンパレータと、誤差信号に基いて制御信号を供給するコントローラＣと、所望の位置に関連する第１の信号に基いてフィードフォワード信号ｆｆを供給するためのフィードフォワードデバイスと、制御信号及びフィードフォワード信号に基いて可動オブジェクトに作用する１つ又は複数のアクチュエータとを含み、この位置制御システムは、コンプライアンス補償信号ｃｃを供給するコンプライアンス補償デバイスＣＣを更に含み、コンプライアンス補償信号は、フィードバック位置信号を得るために位置測定システムの被測定位置から減算される。 （もっと読む）

【課題】
フィゾー型干渉計の測定系で発生する波面収差の変化を抑制し、投影光学系の波面収差の計測精度の劣化を防止する露光装置を提供する。
【解決手段】
原版ステージに搭載され参照光を形成するフィゾー面を有する対物レンズ前群、前記対物レンズ前群より上流に位置する対物レンズ後群および基板ステージに搭載され被検光を形成する反射ミラーから成るフィゾー型干渉計と、原版ステージに構成される原版基準板のマークおよび基板ステージに構成される基板基準板のマークを投影光学系を介して同時に観察し、原版ステージと基板ステージの相対位置を計測し、原版基準板のマークより上流に位置する第３の対物レンズ群を有するＴＴＲ方式検出系と、を有し、投影光学系を介して原版のパターンを基板に投影露光する露光装置において、対物レンズ後群と、第３の対物レンズ群とが、原版ステージとは別に構成される同一の駆動テーブルに配置されている。 （もっと読む）