【課題】少なくとも２つの移動体を精度よく同期移動させる移動体装置を提供する。
【解決手段】移動体装置が、制御対象３０１の目標軌道に基づいて制御対象３０１の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部１０２及びフィードバック制御部１０３からなる第１の２自由度制御部１００と、制御対象３０１の少なくとも位置及び速度に関する値を含んだ状態を推定する状態推定部１０４と、制御対象３０１の状態と制御対象３０１の目標軌道との偏差を算出する偏差演算部１０７と、制御対象３０２の目標軌道に前記偏差を加算した軌道に基づいて制御対象３０２の位置を完全追従制御するフィードフォワード制御部２０２及びフィードバック制御部２０３からなる第２の２自由度制御部２００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】誤差の少ない高精度な位置検出が可能な平面モータを実現する。
【解決手段】プラテン上に配置されたスライダをＸ軸方向及びＹ軸方向に位置制御する平面モータにおいて、
前記スライダにレーザ光源、レンズおよびイメージセンサを搭載し、前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記プラテンで反射させ前記レンズを介して前記イメージセンサで受光するように構成した。 （もっと読む）

【課題】高加速化を実現しつつ、小型化、軽量化をも体現したステージ装置を提供する。
【解決手段】第１可動部３２と第２可動部３３とを含み、定盤３０に対して移動するステージと、第１可動部３２に対して第２可動部３３を位置決めする第１アクチュエータ３７と、第１可動部３２に対して第２可動部３３の加減速をする第２アクチュエータとを備えたステージ装置であって、第２アクチュエータは、第２可動部３３に第１軸に平行な方向へ力を与える電磁石と、前記第１軸に平行しない第２軸に平行な方向へ力を与える電磁石とを含む複数の電磁石４０ａ〜４０ｄで構成され、該複数の電磁石４０ａ〜４０ｄは、該各電磁石の発生する力の力線４２が、第２可動部３３の重心４１からオフセットし、かつ、力線４２がそれぞれ複数個所で交差するように配置される。 （もっと読む）

【課題】
軽量で高剛性な可動部を備え、高加減速で高精度位置決め可能な露光装置用ステージを提供する。
【解決手段】
原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、を含む。 （もっと読む）

【課題】可動部の姿勢を高い精度で制御することができる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置は、第１方向に移動する第１可動部と、前記第１可動部をその一端側および他端側において浮上させて支持する気体ベアリングをそれぞれ含む２つの浮上機構と、前記第１可動部によって支持およびガイドされながら前記第１方向に直交する第２方向に移動する第２可動部と、前記２つの浮上機構を制御する制御部とを有し、前記２つの浮上機構は、それぞれ前記第１可動部の浮上量を磁力によって変化させる電磁石を含み、前記制御部は、前記２つの浮上機構のそれぞれの前記電磁石の励磁を前記第２可動部の前記第２方向における位置に応じて制御する。 （もっと読む）

【課題】１次温度調整を固定の目標温度に従って実行することによる不利益を低減する。
【解決手段】制御対象の駆動の際に熱を発生する駆動部を含むウェハステージ機構１０と、駆動部が発生した熱を回収するための冷媒が流れる管路３２と、管路３２を流れる冷媒３０を冷却する熱交換器（冷却器）２４と、熱交換器２４と駆動部との間に配置されて熱交換器２４によって冷却された冷媒３０を加熱する加熱器２８と、駆動部を制御するための制御情報に応じて熱交換器２４による冷却を制御するステージ制御装置１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】
ＸＹステージのピッチング方向の揺れを抑えた高精度な位置決めを行う基板ステージを提供する。
【解決手段】
ステージと、前記ステージを第１方向に駆動する第１駆動機構と、前記ステージを前記第１方向に直交する第２方向に駆動する第２駆動機構と、前記第２駆動機構による前記第２方向へのステージの駆動を案内する駆動ガイドと、前記駆動ガイドと対向して設けられ前記ステージを支持するエアベアリングと、を有するステージ装置であって、
前記第２駆動機構は、前記ステージを前記第１方向に駆動する手段を更に有し、前記第１駆動機構によって前記ステージを駆動する際に、前記駆動ガイドと前記エアベアリングとの間隔を、前記第２駆動機構を駆動することで制御する制御手段を有することを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】エンコーダ等の位置計測装置を使用した基板ステージの位置決めを行う際に、スケールの形状に依存する誤差を最小限に抑える露光装置を提供する。
【解決手段】基板５を保持する基板ステージ６と、該基板ステージ６の位置を計測する光学式計測部７と、該光学式計測部７からの計測光の反射対象となるスケール８とを備える露光装置５０であって、基板ステージ６が設置された空間内を温度調節するための温調エアを供給する供給系と排気する排気系を有し、供給系は、基板ステージの走査部周辺に温調エアを供給する第１の供給系１１、排気系１４と、スケール８の設置部周辺に温調エアを供給する第２の供給系１３、排気系１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型の被駆動体を搭載可能で安定した動作が可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】被駆動体を駆動するステージ装置は、スライダー３と、Ｚ軸方向に平行な表面２ａを有するガイド２と、ガイド２の表面２ａに対するＺ軸方向の移動を容易にする静圧軸受としての軸受１２と、ガイド２とは反対側の外面１１ｂから突出して球面又は円筒面の一部を構成する表面１４ａを有する突起１４と、を有する軸受部１０と、突起１４の表面１４ａに対するＸＹＺのいずれかの軸周りの回転方向の移動を容易にする軸受２２を有してスライダー３に固定される軸受部２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間の所定面上を、前記基板を保持して移動するステージと、前記所定面に対して前記ステージを浮上させる浮上装置と、前記浮上装置に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定面上を少なくとも一方向に沿って移動可能な移動体と、移動体の移動により生じた圧力変動を小さくするように加圧空気を噴射する圧力調整装置と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
静圧軸受手段が走査する定盤案内面の面精度を高め、渦電流をさらに低減する定盤の構成により、露光装置を高速化し、転写精度を向上するステージ装置を提供する。
【解決手段】
定盤と、該定盤面に沿って移動するステージと、該ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージと前記定盤面との間を非接触に保つための静圧軸受手段と、前記定盤面の所定部位に対向するように前記ステージに保持された磁気手段と、を有するステージ装置において、前記磁気手段が対向する前記定盤の所定部位に磁性体を配置すると共に前記静圧軸受手段が対向する前記磁性体の表面に非磁性体を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動に応じて前記所定空間を移動する移動体と、前記移動体に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【目的】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、空気揺らぎと気圧、温度、湿度を含めた環境の変化による測長誤差を補正できるＸＹステージ装置を提供する。
【構成】ＸＹ方向に移動するステージと、このステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、このステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、を有することを特徴とするＸＹステージ装置。そして、測長光路筒機構が、レーザー干渉計に固定される固定筒と、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備えることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】パターンの描画を精度よく、かつ、効率よく行う。
【解決手段】パターン描画装置１は、描画ヘッド４１を支持するヘッド支持部１２と、アライメントカメラ５１，５２を支持するカメラ支持部１３，１４との間の主走査方向の距離の変動を取得する測定部７１を備える。複数の基板９に対するパターンの描画の際には、描画ヘッド４１およびアライメントカメラ５１，５２の間の主走査方向における距離としてパターン描画時に参照される参照距離が準備され、各基板９に対するパターン描画時に、測定部７１により、ヘッド支持部１２およびカメラ支持部１３，１４の間の主走査方向における距離の変動が、描画ヘッド４１およびアライメントカメラ５１，５２の間の主走査方向における距離の変動として取得され、測定部７１からの出力に従って参照距離が初期値から更新される。これにより、パターンの描画を精度よく、かつ、効率よく行うことが実現される。 （もっと読む）

【課題】格子プラテンのサイズを増大することなくスライダの推力を向上できるＸＹステージを実現する。
【解決手段】複数のスライダ１０，２０を格子プラテン３０上で２次元方向に位置制御するＸＹステージにおいて、格子プラテン３０上に配置され、スライダ１０，２０に補助推力を提供する補助スライダ１００を備えたことを特徴とするＸＹステージ。 （もっと読む）

【課題】位置決め装置における外乱力による位置決め誤差を小さくする。
【解決手段】位置決め装置は、第１物体と、第２物体と、第１物体及び第２物体を互いに位置決めする位置決めシステムと、第１物体と第２物体とを接続する柔軟輸送ラインと、を含む。柔軟輸送ラインは、該ラインに沿って変化する剛性を有し、該輸送ラインは力学的な伝達関数による表現が可能であり、該伝達関数は位置決めシステムの閉ループ伝達関数に適合されている。 （もっと読む）

【課題】描画室１の外部に配置したレーザヘッド５１からのレーザ光をステージ２に固定したステージミラー２３_１，２３_２に入反射させてステージの位置を測定するレーザ測長計５_１，５_２を備える荷電粒子ビーム描画装置であって、レーザヘッドの発熱の影響を受けずにレーザ測長計でステージの位置を正確に測定し、描画精度を向上できるようにする。
【解決手段】レーザヘッド５１を囲うヘッドカバー５７を設ける。ヘッドカバー５７に給気口５７２と排気口５７３とを開設し、排気口５７３に接続した排気ダクト５７５を介してヘッドカバー５７内を強制排気する。 （もっと読む）