【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 可動オブジェクトの実際の位置量を表すセンサによって供給される信号に応じて可動オブジェクトの位置量を制御するための制御システムを提供する。
【解決手段】 制御システムは、可動オブジェクトに力を加えることができるアクチュエータに駆動信号を供給するように構成され、この制御システムは、基準信号を供給するための設定値発生器と、基準信号とセンサによって供給された信号との間の差である誤差信号を供給するための減算器と、誤差信号に応じてアクチュエータに駆動信号を供給するための制御ユニットとを含み、この制御ユニットは、低周波外乱の抑制を改善するための非リニア制御器を備え、その非リニア制御器によってもたらされる高周波挙動の劣化を少なくとも部分的に補償するための補償器をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】測長計の非線形誤差を簡易で高精度に算出できる算出方法を提供する。
【解決手段】移動物体の位置を計測する測長計における非線形誤差を算出する算出方法であって、第１面に配置される第１物体を載置する第１移動物体の位置を第１測長計により計測した第１測長値と、第２面に配置される第２物体を載置する第２移動物体の位置を第２測長計により計測した第２測長値と、第１移動物体の位置又は第２移動物体の位置において、被検光を光検出手段で検出した検出結果と、に基づいて第１測長計又は第２測長計の非線形誤差を算出する算出工程を有する。 （もっと読む）

【課題】十分な精度および測定レートを有し、リソグラフィ用途の特定の環境で使用することができる湿度測定システムを提供する。
【解決手段】例えばリソグラフィ装置で用いる湿度測定システム。この湿度測定システムは、ある波長領域の波長を有する測定放射ビームを発するように構成されたチューナブルレーザダイオードを含む。波長領域は、水分子の吸収ピークに関連した第１の波長を含む。放射ディテクタに信号処理ユニットが接続される。信号処理ユニットは、チューナブルレーザダイオードの吸収される測定放射ビームの強度を測定するように構成される。信号処理ユニットは、波長情報を得るためにチューナブルレーザダイオードにも接続される。信号処理ユニットは、測定された強度の極値を波長の関数として検出し、かつ検出された極値から湿度値を計算するように構成される。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルのすべりを回避することができるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームＢを調整するように構成された照明システムＩＬと、この放射ビームＢの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスＭＡを支持するように構築されたサポートＭＴと、基板Ｗを保持するように構築された基板テーブルＷＴを備えるミラーブロックＭＢと、基板Ｗのターゲット部分の上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムＰＳとを含み、ミラーブロックＭＢは、ミラーブロックＭＢと基板テーブルＷＴの間のすべりを低減させるように構築され配置される。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動条件やショット情報などに応じてステージの駆動を制御し、スループットの低下を抑えることができる露光装置を提供する。
【解決手段】レチクルと基板とを走査方向に同期移動させ、前記走査方向を折り返しながら転写する走査型の露光装置であって、前記ステージの駆動条件と、前記複数のショット領域の配置に関するショット情報の取得部と、前記情報に基づいて、１つのショット領域から次のショット領域の露光を開始するまでに要する非走査方向への前記ステージの駆動時間からなる第１の時間、及び、前記走査方向への前記ステージの駆動時間とからなる第２の時間の算出部と、前記第１の時間が前記第２の時間よりも長い場合に、前記第２の時間が前記第１の時間よりも長くなるように前記走査方向の折り返し時における前記ステージの加速度が非線形に変化する時間、又は、加速を終えてから露光を開始するまでの整定時間の調整部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】露光スキャン中の加速で誘起された位置センサの変形によってもたらされる誤差を克服するシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置におけるデバイス製造方法は、基板上の複数の位置を求めることを含む。測定基板上のこれら複数の位置を第１の方向へスキャンして、測定基板の基板レベルの第１の基板マップを求める。測定基板上のこれら複数の位置を第２の方向へスキャンして、測定基板の基板レベルの第２の基板マップを求める。第１および第２の基板マップを用いて、測定基板表面レベルの差の情報を含む差マップを作成する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ干渉計による位置計測に関して、基板を保持する２つのステージの固体差を許容できる。
【解決手段】 基板を保持して移動する第１ステージと、基板を保持して移動する第２ステージと、第１ステージおよび第２ステージのうち選択された一方のステージに保持された基板上のアライメントマークの位置を計測する計測ステーションであって、一方のステージの位置を計測する第１レーザ干渉計を含む計測ステーションと、計測ステーションで計測された位置に基づいて一方のステージに保持された基板を露光する露光ステーションであって、一方のステージの位置を計測する第２レーザ干渉計を含む露光ステーションと、を有する露光装置であって、第１レーザ干渉計および第２レーザ干渉計の少なくとも一方に関し、第１ステージおよび第２ステージのうちいずれの位置を計測するかに応じて、計測光と参照光の相対位置関係を調整する調整手段を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の移動可能なステージを備えるステージ装置において、ステージにラインを接続したことによる不利益を低減する。
【解決手段】複数の領域をまたがって移動可能な複数のステージ２０，３０と、前記複数のステージのそれぞれに対応して設けられ、前記複数の領域をまたがって移動可能な可動体２２，３２と、互いに対応するステージと可動体とを接続するように前記複数のステージと前記複数の可動体とを接続する複数のライン２１，３１と、前記複数の可動体を駆動する駆動部と、前記駆動部による駆動を制御する制御部４０と、を備えるステージ装置である。 （もっと読む）

【課題】 押印装置に含まれるＸ−ＹステージのＸ−Ｙ面におけるストロークの低減。
【解決手段】 基板のショットに配された液状樹脂にモールドをＺ軸方向において押し付けた状態で液状樹脂を硬化させてショットに樹脂のパターンを形成する押印装置であって、モールドチャックに保持されたモールドに形成されたモールドマークと基板チャックに保持された基板に形成された基板マークとの間のＸ−Ｙ平面における位置ずれを計測するためのスコープと、ショットに液状樹脂を配するディスペンサと、Ｘ−Ｙステージ上に設けられた基準マークと、を有し、Ｘ−Ｙステージは、それにより保持された基板の全ショットにディスペンサが液状樹脂を配することができるように、その移動範囲を有し、基準マークは、Ｘ−Ｙステージの移動範囲内においてモールドマークとの位置ずれをスコープにより計測できるＸ−Ｙステージ上の位置に設けられている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、レーザー干渉計の測長光路を十分に覆う測長光路筒機構を備えることで空気揺らぎによる測長誤差を低減できるＸＹステージ装置を提供する。
【解決手段】ＸＹ方向に移動するステージと、ステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、ステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆い、測長光路のレーザー干渉計側に設けられ、レーザー干渉計に固定される固定筒と、測長光路の少なくとも一部を覆い、測長光路のステージ側に設けられ、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備える測長光路筒機構を有し、固定筒または可動筒の一方の端部が他方の端部に挿入されることを特徴とするＸＹステージ装置。 （もっと読む）

【課題】原盤のパターンを精度よく物体に転写する。
【解決手段】ウエハＷ表面の傾きを計測するウエハ焦点位置検出系２４を、レチクルステージＲＳＴを構成するレチクルステージ本体２３の下面に設ける。これにより、レチクルステージＲＳＴが昇降しても、レチクルＲとウエハ焦点位置検出系２４との位置関係が変動することがなくなるので、レチクルＲに対するウエハＷの傾斜を精度よく計測することができ、結果的にレチクルＲに形成されたパターンを精度よくウエハＷに転写することができる。 （もっと読む）

【課題】 押印装置に含まれるＸ−ＹステージのＸ−Ｙ面におけるストロークの低減。
【解決手段】 ショットに樹脂のパターンを形成する押印装置であって、Ｘ−Ｙステージ上に設けられた基準マークと、モールドに形成されたモールドマークと基準マークとの間のＸ−Ｙ平面における位置ずれを計測するための第１のスコープと、モールドマークを介さずに、基板に形成された基板マークのＸ−Ｙ平面における位置を計測するための第２のスコープと、ショットに液状樹脂を配するディスペンサと、を有し、Ｘ−Ｙ平面において、ディスペンサの中心は、モールドチャックの中心に対して第１の距離（＞０）だけある方向にずれた位置に配置され、第２のスコープの中心は、ディスペンサの中心に対して第１の距離の２倍よりは小さい距離だけ前記方向またはその逆の方向にずれた位置に配置されている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】 カウンタマスを用いたステージ装置を搭載した除振装置において、電磁アクチュエータの必要個数を減らして、配置機器の少ない簡単な構造となる。
【解決手段】
原版または基板を載置して位置決め動作を行なうステージ装置と、前記ステージ装置に連結され、前記ステージ装置とは同一自由度方向で逆方向に動作する慣性質量であるカウンタマスと、前記ステージ装置と前記カウンタマスとを搭載する定盤と、前記定盤を防振支持する防振支持手段と、前記カウンタマスと前記定盤との間に制御力を発生するアクチュエータと、前記定盤の物理量を検出する振動検出手段と、前記振動検出手段の検出信号に補償演算を施して前記アクチュエータの駆動指令信号を生成する補償演算手段と、を備え、前記アクチュエータの駆動により前記定盤の振動を低減・減衰する。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置情報を補正するための高精度な補正データを作成する。
【解決手段】予め作成された第１補正データを用いてエンコーダ及び面位置計測センサの計測結果に含まれる計測面に起因する誤差を補正し、補正された計測結果と対応する干渉計の計測結果との差から、第２補正データを作成する。第２補正データを用いることにより、第１補正データを用いて補正される誤差以外の残留誤差を補正することができる。また、残留誤差を補正する第２補正データを露光動作中のウエハステージの移動経路ＢＥから定められる直線区間Ｌ₁〜Ｌ₆に対して作成するので、簡便且つ高精度な補正データの作成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】
押印装置のスループットを改善すること。
【解決手段】
基板上に配置された液状樹脂にモールドを押付けて樹脂の凹凸パターンを基板上の各ショットに形成する押印装置であって、モールドを保持するモールドステージと、基板を保持してＸ−Ｙ面内を移動する基板ステージと、モールドステージと基板ステージとの間のＺ軸方向の距離を変化させる駆動機構と、制御手段とを有し、制御手段は、モールドステージに保持されたモールドに整列する位置に対して、液状樹脂の配置が行われたショットがＸ−Ｙ面内において相対的に振動するように、モールドステージと基板ステージとの間の相対的な振動を行わせ、記振動と並行して前記駆動機構を制御して前記液状樹脂に対する前記モールドの押付けを行う。 （もっと読む）

【課題】安定且つ高精度な移動体の駆動制御を可能にする。
【解決手段】エンコーダヘッドの計測ビームの照射点がスケール３９Ｙ_１上の一時停止領域（ＳＵ₁，ＳＵ₂）以外の領域内に位置するときには、計測誤差の発生を回避するためにヘッドから得られる位置情報を修正し、照射点がスケール外又は一時停止領域（ＳＵ₁，ＳＵ₂）に位置するときには、位置情報の修正を停止する。ここで、スケール３９Ｙ_１上の一時停止領域として、例えばスケール端部、スケール上に形成された回折格子が損傷している領域、歪んでいる領域、異物が付着した領域、位置出しパターンの近傍などを選ぶことにより、ヘッドの不安定動作を回避し、エンコーダシステムの安定な稼動、ひいてはウエハステージの安定な駆動制御が可能となる。 （もっと読む）

【課題】安定且つ高精度な移動体の駆動制御を可能にする。
【解決手段】 複数のＺヘッドそれぞれの計測ビームの照射点がスケール３９Ｙ_１上のフォーカスサーボ一時停止領域（ＦＳＵ₁，ＦＳＵ₂）以外の領域内に位置するときには、そのヘッドを、計測面のＺ位置の変化に応じた位置情報を出力するフォーカスサーボ状態とし、照射点がスケール外又はフォーカスサーボ一時停止領域に位置するときには、所定の位置情報の目標値の出力を維持するスケールサーボ状態とする。ここで、スケール３９Ｙ_１上のフォーカスサーボ一時停止領域として、例えばスケール端部、スケール上に形成された回折格子が損傷している領域、異物が付着した領域、位置出しパターンの近傍などを選ぶことにより、ヘッドの不安定動作を回避し、面位置計測システムの安定な稼動、ひいてはウエハステージの安定な駆動制御が可能となる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光が照射される第１位置を含む所定面内を基板を保持して移動可能な第１可動部材と、第１可動部材に配置されたエンコーダヘッドを含み、第１可動部材の位置情報を計測する計測システムと、エンコーダヘッドと対向可能な位置に、スケール板を含むスケールユニットをリリース可能に保持する保持装置とを備える。保持装置は、所定面とほぼ平行方向にスケールユニットをスライド可能に支持する支持部材を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光が照射される第１位置を含む所定面内を基板を保持して移動可能な第１可動部材と、第１可動部材に配置され、供給された光をスケール板に導くエンコーダヘッドと、第１可動部材に追従するように移動する第２可動部材と、少なくとも一部が第２可動部材に配置され、供給された光をエンコーダヘッドに導く光学系と、第１可動部材と離れた位置に配置され、光を射出して、光学系に供給する光源とを備えている。 （もっと読む）