【課題】高精度なウエハテーブルの位置計測及び駆動制御を実現する。
【解決手段】
露光領域ＩＡの中心ＩＡａを含む第１領域では、エンコーダシステムを構成する光源１６Ｘａ，１６Ｙａ_１から、テーブルＷＴＢの一側面を介してその上面に設けられたグレーティングに計測光Ｌｘ１，Ｌｙ２_１を入射させ、これらの計測光に由来する回折光Ｌｘ２，Ｌｙ２_１を光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂ_１を用いて受光して、テーブルＷＴＢの位置情報を計測する。アライメント系ＡＬＧの検出中心ＡＬａを含む第２領域では、光源１６Ｙａ_２から計測光Ｌｙ２_２をグレーティングに入射させ、回折光Ｌｙ２_２を光検出器１６Ｙｂ_２を用いて受光して位置情報を計測する。さらに、テーブルＷＴＢの位置情報に応じて、使用する計測装置を切り換える。それにより、全領域において、高精度なテーブルの位置計測が、ひいては高精度な駆動制御が可能となる。 （もっと読む）

【課題】面位置計測システムによる面位置計測の結果を用いて、安定且つ高精度な面位置計測を可能にする。
【解決手段】Ｚヘッド７２ａからステージＷＳＴの上面の一部に設けられた計測面（スケール）３９Ｙ₂に計測ビームＬＢを投射し、その計測面からの反射ビームを受光して、計測ビームＬＢの投射点における計測面のＺ軸方向に関する面位置情報を計測する。それと同時に、反射ビームの強度Ｉ_Ｒ、あるいはビーム断面内の強度分布を計測する。強度Ｉ_Ｒ又は強度分布の計測結果を用いて、面位置情報の計測結果を検証し、さらに計測誤差を補正する。 （もっと読む）

【課題】高精度なウエハテーブルの位置計測及び駆動制御を実現する。
【解決手段】
エンコーダシステムを構成する光源１６Ｘａ，１６Ｙａから、テーブルＷＴＢの一側面を介してその上面に設けられたグレーティングに計測光Ｌｘ１，Ｌｙ２を入射させ、これらの計測光に由来する回折光Ｌｘ２，Ｌｙ２を光検出器１６Ｘｂ，１６Ｙｂを用いて受光して、テーブルＷＴＢの位置情報を計測する。それにより、テーブルＷＴＢの周辺雰囲気の揺らぎの影響が小さいため、高精度なテーブルＷＴＢの位置計測が可能になる。さらに、エンコーダシステムを用いて得られるテーブルＷＴＢの位置情報と、位置情報に含まれるテーブルの傾斜に起因する計測誤差の補正情報と、に基づいて、テーブルＷＴＢを駆動する。従って、補正情報を用いて位置情報を補正し、補正された位置情報に基づいて高精度にテーブルＷＴＢを駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】移動体に設けられた計測面への位置計測センサの計測ビームの投射を制御することにより、計測面の歪みを回避する。
【解決手段】所定平面内を移動するステージＷＳＴの位置を計測するために、ヘッドユニット６２Ａ〜６２Ｆが設置されている。ヘッドユニット６２Ａ〜６２Ｆは、それぞれ、複数のエンコーダヘッド等を備えている。各エンコーダヘッドから、計測ビームが、ステージＷＳＴの上面に設けられているスケール３９Ｙ₁、３９Ｙ₂、３９Ｘ₁、３９Ｘ₂に投射される。ここで、長時間、同一位置に計測ビームが投射され続けると、スケール３９Ｙ₁、３９Ｙ₂、３９Ｘ₁、３９Ｘ₂に照射熱に起因する変形が生じ、エンコーダ（位置計測センサ）の計測誤差が発生する。そこで、計測ビームを、切る、間欠投射する、或いは強度を変えて投射することにより、その投射量を制御することで、スケールの変形を抑制する。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡装置におけるステージの位置決め制御時において、ウェーハを搭載保持しているステージの振動やドリフトを抑えると共に、位置決め時間を短縮する。
【解決手段】
本発明は、電圧を印加することにより変位するアクチェータと、アクチェータの変位を拡大する機構と、変位を拡大する部分に制動部品を一体的に設けて構成された制動機構と、ベースに設けられ、制動機構の制動部品の上面又は側面と対向するように設けられた被制動レールとを備える。 （もっと読む）

【課題】照射機構と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】基板保持プレート２１に保持された基板９０に向けて照射ユニット３３から光ビームを照射することで、基板９０にパターン描画を行う。このとき、ベースプレート２３の主走査方向の位置をレーザ測長器４２によって測定するとともに、架橋構造体１２に固設された照射ユニット３３の主走査方向の位置をレーザ測長器４１によって測定する。制御部８は、レーザ測長器４１，４２から出力される各検出結果に基づいて、照射ユニット３３と基板９０の相対位置を算出し、当該算出結果に基づいて、照射ユニット３３による光ビームの照射制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 例えばガラス基板の表面に付着した異物の影響を抑えて、その裏面の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。
【解決手段】 被検面（２０ａ）の面位置の変位を検出する変位検出装置は、第１乃至第３の光（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３）を被検面の第１乃至第３位置へそれぞれ導いて被検面またはその近傍に第１乃至第３の集光点を形成するための、第１乃至第３の光に共通の光学系（３，４，５）と、被検面で反射された第１乃至第３の光に基づいて第１乃至第３位置における第１乃至第３変位情報をそれぞれ検出し、該３つの変位情報のうちの互いに最も類似した２つの変位情報に基づいて被検面の面位置の変位を検出する検出系（ＤＳ：５，４，３，６，７，８，９）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】支持足の突出量として十分な量を確保できるようにする。
【解決手段】基台３上に昇降用圧電素子５を配設し、その上に下部連結体７を介して３個の駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃを連結し、これら駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃ上には上部連結体１１を介して上下方向に長尺の支持足１３を連結、支持する。基台３には受台１７を立設し、この受台１７の上部中央の開口１７ａを支持足１３が昇降するように構成し、支持足１３は各駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃの上下方向への伸縮によって、支持足１３の先端（上端）が受台１７の上面よりも上、下に移動する。そして、基台３、受台１７、昇降用圧電素子５、下部連結体７、ピエゾ駆動手段１５および支持足１３が一体となった駆動ユニット１９を形成し、３個の駆動ユニット１９をほぼ円周上に配列して位置決め装置を構成する。 （もっと読む）

【目的】レーザの波長変動に起因する位置測定誤差を補正する描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、ＸＹステージ１０５上に配置された反射ミラー３０と、反射ミラー３０，３２により反射された反射光を用いてＸＹステージ１０５の位置を測長するレーザ測長装置１３０と、ヨウ素安定化レーザ光を照射するヨウ素安定化レーザ光源１３６と、２つのレーザ光の合成光を検出して、ビート信号を出力する光検出器１４０と、ビート信号を用いて、測長用レーザ光の周波数変動量を測定する周波数カウンタ１４２と、周波数変動量を用いてＸＹステージ１０５の位置を補正する補正係数を演算する制御計算機１２４と、補正係数を用いて補正した描画位置に電子ビーム２００を照射する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、レーザの波長変動に起因する位置測定誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】大きさを抑えつつ、ステージ及び質量体の自重荷重、並びに、ステージと質量体との駆動時に生じる移動荷重による定盤の変形を抑制した位置決め装置を提供する。
【解決手段】 本発明の位置決め装置は、定盤01と、定盤01の上に支持され移動自在なステージ105と、ステージ105の移動に伴い定盤01に発生する反力を相殺する質量体06,09とを備える。定盤01は、ステージ105を支持する天板と、天板の両端縁から垂下する側板と、天板から鉛直方向下方に延びるリブ116とを有する。質量体06,09は、側板の内面及びリブの側面の少なくとも一方に取り付けられる。定盤01は、側板の底部及びリブの底部を含む少なくとも３点05で支持される。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイエラーを補償する。
【解決手段】放射ビームの断面にパターンを付与するためにパターニングデバイスのスリット形状の領域を照明するステップと、投影系を用いて基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影するステップであって、放射ビームが基板の目標部分を横切って走査されるステップと、放射ビームが基板の目標部分を横切って走査され、該目標部分にパターンを転写するときに投影系の構成を調整するステップとを含む方法が開示される。調整するステップは、スリット形状の領域の長さ、すなわち走査方向の像歪みに沿って、投影系の像倍率成分の大きさに作用してもよい。調整するステップは、パターニングデバイスの歪みのパターンオーバーレイ精度への影響を補償するよう設定される。 （もっと読む）

【課題】基板及び基板テーブルの表面上に部材が設けられた液浸リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液浸液が基板テーブルと基板と部材の間に提供される。実施形態では、放射ビームがプレートを通過する。実施形態では、部材はビームが通過する貫通穴を有する。 （もっと読む）

【課題】パッド又はガイドが絶縁体であっても両者の接触を簡単に検出可能なステージ装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】被搭載物を搭載して定盤の基準面の上を移動可能なステージと、定盤に設けられ、ステージを案内するガイドと、ステージに設けられてガイドに対向して気体を噴出するパッドを含み、ステージをガイドから浮上した状態で支持可能な気体軸受と、ステージの駆動を規定するステージ制御部と、ステージの位置を検出する検出部と、ステージ制御部が規定したステージの駆動状態と検出部の検出結果からパッドとガイドとの摩擦力を状態方程式を使用して推定する外乱オブザーバと、外乱オブザーバが推定した摩擦力に基づいてパッドがガイドに接触しないように気体の圧力を制御する圧力制御部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 粘弾性材料を含む制振層がベースと拘束層の間に設けられたチャックを有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置が、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングされた放射ビームを形成するように、放射ビームにその断面でパターンを与えることが可能であるパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、物体、たとえばパターニングデバイスをサポート上に、または基板を基板テーブル上に保持し位置決めするように構成され、ベースおよび拘束層を含むチャックとを含む。粘弾性材料を含む制振層がベースと拘束層の間に設けられる。 （もっと読む）

【課題】ステージ位置測定の較正精度を高める。
【解決手段】ステージシステムのキャリブレーション方法は、セットポイント信号に応答してエンコーダグリッドに対してステージを移動させること、エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによってステージの位置を測定することを含む。ステージの位置はステージコントローラによって制御される。センサヘッドによって測定されたステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号が登録される。この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムが較正される。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、光源１２と、ミラーＭ１，Ｍ２を繰り返して傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより被露光物上で２方向に走査するように２次元的に走査して被露光物上に照射することで被露光物を露光する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の発生を抑制し、露光性能を向上させる。
【解決手段】被処理基板１０が載置され、位置制御信号に基づいて移動するステージ５と、前記被処理基板にビームを投影する投影部１と、前記被処理基板と前記投影部との間に液体を供給する液体供給部２と、前記被処理基板と前記投影部との間に保持されている液体を排出する液体排出部３と、前記投影部の外部に設置され、それぞれ前記被処理基板に対して気体を噴出する第１の噴出部４ａ及び第２の噴出部４ｂを有する気体噴出機構４と、前記位置制御信号を出力し、前記ステージを移動させている間、前記ステージの移動速度に基づいて前記第１の噴出部における気体流量及び前記第２の噴出部における気体流量を制御する制御部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置及び位置調整測定方法の提供。
【解決手段】リソグラフィ装置は、第１の検出器によって対象物に配置された第１の位置調整用マークを検出し、第１の位置調整信号を生成し、第１の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、第２の検出器によって同じ第１のマークを検出し、第２の位置調整信号を生成し、第１の検出器から第１の位置調整信号を受信し、第１の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの第１の位置を算出し、第２の検出器から第２の位置調整信号を受け、第２の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの別の第１の位置を算出することによって、同じマークに関する位置調整測定を行うために使用される、複数の異なる位置調整装置を有する。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンを小型化できる露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光方法は、Ｘ方向に周期性を有するパターンが形成されたマスクＭＡのパターン領域Ａ１〜Ａ４に対して照明光を周期的にパルス照射し、そのパターンを介した照明光によってプレートを露光する照明工程と、その照明光のパルス照射の各周期に、Ｘ方向におけるそのパターンのパターン周期に応じて、プレートをＸ方向に対応する移動方向へ移動させる移動工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高価な及び／又は追加のセンサを使用する必要なしにｚ方向のゼロレベルを正確に規定できるリソグラフィ装置の位置測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、可動物体の直交ｘ−ｙ−ｚ座標系の少なくとも１方向にてリソグラフィ装置の基準フレームに対する可動物体の位置を測定する位置測定システムを含む。位置測定システムは、エンコーダの第２グレーティングに対する放射源、第１グレーティング、および検出器の変位を測定する光学ｘ−ｚエンコーダを含む。第１グレーティングはアライメントマーカを含む。コントローラは、ｘおよびｚの少なくとも１方向にて基準フレームに対する可動物体のゼロレベルを、第１グレーティングに沿ったスキャンを実行することによって規定し、スキャン段階の間にアライメントマーカが第１の正および負の次数両方の応答の位相に変化を引き起こす。 （もっと読む）