【課題】描画室１の外部に配置したレーザヘッド５１からのレーザ光をステージ２に固定したステージミラー２３_１，２３_２に入反射させてステージの位置を測定するレーザ測長計５_１，５_２を備える荷電粒子ビーム描画装置であって、レーザヘッドの発熱の影響を受けずにレーザ測長計でステージの位置を正確に測定し、描画精度を向上できるようにする。
【解決手段】レーザヘッド５１を囲うヘッドカバー５７を設ける。ヘッドカバー５７に給気口５７２と排気口５７３とを開設し、排気口５７３に接続した排気ダクト５７５を介してヘッドカバー５７内を強制排気する。 （もっと読む）

【課題】バーミラーに当接する箇所の平面度または高さの均一性を容易に調節にすることができるＸＹステージのスライダを提供する。
【解決手段】ＸＹステージ用のスライダ１０によれば、第１当接箇所１１および第２当接箇所１２のそれぞれが、スライダ１０の上面において他の箇所よりも上方に突出している。また、第１当接箇所１１および第２当接箇所１２のそれぞれが、スライダ１０の上面に平行な方向について間欠的に配置され、かつ、スライダ１０の上面の他の箇所よりも上方に突出している複数の島１１０，１２０により構成されている。 （もっと読む）

【課題】環境温度に悪影響を及ぼすことなく所定の駆動特性が得られるモータ装置を提供する。
【解決手段】固定子６０と移動子とのいずれか一方にコイル体６３が設けられる。コイル体の第１領域を相変化冷却する第１冷却系ＣＬ１と、第１冷却系よりも高い冷却能力を有し、コイル体の第２領域をコイル体の温度分布に基づいて冷却する第２冷却系ＣＬ２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ステージ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】試料が載置されるステージの位置の測定にレーザ干渉計を用いる。レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を除去するフィルタ部のカットオフ周波数を、ステージの加速度のデジタル制御の周期Ｔａの逆数（１／Ｔａ）に設定する。 （もっと読む）

【課題】露光光の強度が大きいか又は露光時間が長い場合にも高い重ね合わせ精度を得る。
【解決手段】露光用の照明光ＩＬでレチクルＲのパターンを照明し、照明光ＩＬでそのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光方法において、空間像計測系３４でレチクルＲのパターンの像の位置を計測し、そのパターンの像の位置の変動量をレチクルステージＲＳＴの温度情報から予測し、この予測結果に基づいてそのパターンの像とウエハＷとの位置合わせ情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】
位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】干渉計の原点の検出に関して、光源からの光の波長が変化した場合にも（実環境においても）高い再現性を実現できる。
【解決手段】第１の波長の第１光源からの光による第１の干渉信号と第２の波長の第２光源からの光による第２の干渉信号との位相差が０となる位置を原点とする干渉計の調整方法であって、前記第１の波長がλ１、前記第２の波長がλ２である場合における原点に対する前記第２の干渉信号の振幅が最大となる位置の相対位置Ｄを求めて、パラメータの値ＰをＰ＝Ｄ／λ２（λ２−λ１）の式に従って算出し、このパラメータの値Ｐに基づいて、前記第１の波長がλ１からλ１’、前記第２の波長がλ２からλ２’に変化した場合における前記原点の移動量ＢをＢ＝Ｐ・（λ１’・λ２’−λ１・λ２）の式に従って算出し、この原点の移動量Ｂに基づいて、前記第１の波長がλ１’、前記第２の波長がλ２’である場合における原点を決定する調整方法。 （もっと読む）

【課題】 パターニングデバイスとパターニングデバイス支持体との間のずれが考慮されるリソグラフィ装置のパターニングデバイスに位置測定システムを提供する。
【解決手段】 本発明は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構成された基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、少なくとも基板のターゲット部分へのパターン付放射ビームの投影の間、パターニングデバイス上に提供されたグリッド又は格子を用いてパターニングデバイス支持体上に支持されたパターニングデバイスの位置量を連続して決定するように構成されたエンコーダタイプの測定システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。
【解決手段】 投影露光装置１００は、基板Ｗが載置されるとともに、その基板を保持して移動可能な基板テーブル３０と、基板テーブルの位置情報を計測する位置計測系（１８等）と、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれを補正する補正装置１９とを備えている。この場合、補正装置により、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれが補正される。これにより、基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。 （もっと読む）

【課題】露光装置の露光を中断して復帰動作を行った後で、露光装置の状態に大きい変化がない場合に、短時間に露光動作に移行できるようにする。
【解決手段】レチクルＲのパターンを介してウエハステージＷＳＴ上のウエハＷを露光する露光装置の管理方法において、ウエハステージＷＳＴのウエハホルダ２０の清掃後にその露光装置をリセットする際に、その清掃及びリセットの前後に、ウエハステージＷＳＴのレーザ干渉計用の移動鏡２２Ａ，２２Ｙの曲がりを簡易的な計測方法で計測し、この計測結果の変動量が許容範囲を超えたときに、移動鏡２２Ｘ，２２Ｙの曲がりをより詳細な計測方法で計測する。 （もっと読む）

【課題】超電導性に起因した外乱力を抑え、高精度な制御が可能となる超電導リニアモータの制御装置を提供する。
【解決手段】超電導線を用いたコイル２０４と、永久磁石を用いた磁石ユニット２０３ａ、２０３ｂとを有する超電導リニアモータと、コイル２０４に電流を供給する電流ドライバ１０７と、磁石ユニットの駆動指令ｄを受信し、電流ドライバ１０７に駆動指令ｄに基づく指令値を送信して磁石ユニット２０３ａ、２０３ｂの位置を制御する位置制御系１０１と、を有する超電導リニアモータの制御装置において、更に、コイルの温度情報とコイルと磁石ユニットとの相対位置情報とを引数にした制御指令テーブル１０５を有する変換指令算出部１０４を備え、変換指令算出部１０４は、制御指令テーブル１０５を参照して、超電導性に起因する外乱力を低減するように制御指令を変換し、制御指令を位置制御系１０１に送信する。 （もっと読む）

【課題】基板ステージの駆動、及び発熱による、レーザ干渉計の光路の温度の揺らぎを効果的に低減する。
【解決手段】可動子６Ｂと、可動子６Ｂを移動させるための固定子６Ａと、可動子６Ｂに設置された反射鏡１０と、反射鏡１０に対して光を投射することで前記可動子の位置を計測する位置計測手段とを有する位置決め装置において、可動子６Ｂの側面に防風部材１１を備える。 （もっと読む）

【課題】干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させるともに、装置の小型化を促進し、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、Ｘ−Ｙ連通流路１３、排気口１２、シール部７、軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計１５及びミラー１７ａ、１７ｂは、排気口１４、Ｙ凹空間部６、Ｘ−Ｙ連通流路１３、排気口１２を通じて減圧されるＸ凹空間部９に配置される。 （もっと読む）

【課題】格子プレートの位置測定システムに干渉する汚染物の困難さに対処することを目的とする。
【解決手段】一実施形態では、汚染物は、格子又はセンサに接触することが防止される。ある実施形態では、表面弾性波を用いて格子又はセンサの表面から汚染物が除去される。 （もっと読む）

【課題】バーミラーを用いることなく、干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させることで、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用及び装置の小型化を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部であるベース１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、シール部７、Ｙ軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、Ｘ軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計２５ａ及びミラー２７ａ、２７ｂは、Ｘスライダ５のＸ凹空間部９に配置され、干渉計２５ｂ及びミラー２７ｃ、２７ｄは、Ｙスライダ３のＹ凹空間部６に配置される。各凹空間部６，９は、それぞれ排気ホース１５、１６によって減圧される。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
回転する定盤ＲＢ_１を回転駆動しつつ、回転している定盤ＲＢ_１上でレチクルＲ_１１，Ｒ_１２，Ｒ_１３のそれぞれを保持するステージを駆動することにより、これらのステージを走査方向に延びる直線経路Ｐ_１１−Ｐ_１２に沿って、交互に且つ繰り返し、等速度で駆動するステージ駆動系２２_１を露光装置に搭載する。ステージ駆動系２２_１を用いて、複数のステージを走査方向に交互に駆動すると同時に、ウエハを保持するステージを走査方向に駆動することにより、ステージがそれぞれ保持するレチクルに形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。それにより、露光工程に要する時間の短縮、すなわちスループットの向上が可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数のレチクルを用いてウエハ上の複数の区画領域を連続して露光する。
【解決手段】
直線経路を移動するレチクルＲ_１１、直線経路を移動するレチクルＲ_２１、直線経路を移動するレチクルＲ_１２，及び直線経路を移動するレチクルＲ_２２，を走査方向（Ｙ軸方向）に順番に駆動するとともに、ウエハＷを保持するステージを走査方向に駆動することにより、レチクルＲ_１１，Ｒ_２１，Ｒ_１２，Ｒ_２２に形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハＷ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。ここで、レチクルＲ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_２１、Ｒ_２２は、それぞれ、走査方向に延びる直線経路を含む閉じた経路Ｌ_１，Ｌ_２に沿って周回移動する。それにより、全ての区画領域にパターンを転写するのに要する時間、すなわち露光工程に要する時間を短縮することができ、その結果、スループットの向上が可能となる。 （もっと読む）

【課題】移動体の正確な速度を取得可能とする干渉計システム、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体に固定され、第１光屈折率を有する第１導波部と、前記移動体に固定され、前記第１光屈折率とは異なる第２光屈折率を有する第２導波部と、前記第１導波部を通過した第１電磁波と、当該第１電磁波と同一波長を有し前記第２導波部を通過した第２電磁波とを干渉させる干渉部と、前記干渉部で生じる干渉波を用いて前記第１電磁波と前記第２電磁波との位相差を検出する検出装置と、検出された前記位相差を用いて前記移動体の移動速度に関する情報を取得する速度取得装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】制御対象モデルに基づくフィードフォワード制御と外乱オブザーバとを利用して高精度な位置制御を行う。
【解決手段】駆動制御装置は、制御対象(301)の伝達特性の逆システムの一部を示す第１伝達関数(1021a)に第１の完全追従制御法を適用させることで第１のフィードフォワード信号(S1a)を求める第１フィードフォワード制御部(102a)と、制御対象(301)の伝達特性の逆システムの一部を示すとともに第１伝達関数(1021a)とは異なる第２伝達関数(1021b)に第２の完全追従制御法を適用させて第２のフィードフォワード信号(S1b)を求める第２フィードフォワード制御部(102b)と、第１のフィードフォワード信号(S1a)に対する第１の補償信号(d')を求める外乱オブザーバ(104)と、を備え、第２のフィードフォワード信号(S1b)と第１の補償信号(d')とから求めた第２の補償信号(S5)を用いて制御対象(301)を駆動する。 （もっと読む）

【課題】二光束の光路長差が安定に一定となる構成を備えることにより光源波長の変動をｐｍ以下の精度、分解能で測定可能な波長ずれ測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の波長ずれ測定装置は、光源から射出される光束の波長の変動量を測定する波長ずれ検出センサＷＬＣＤ１であって、光源から射出された光束を複数の光束に分割し、複数の光束のうち二光束を合成して干渉光を生成するビームスプリッタＢＳ２と、ビームスプリッタＢＳ２により分割された二光束の光路長差が一定になるように設けられたスペーサ部材ＳＰと、ビームスプリッタＢＳ２により生成された干渉光を検出する複数の光電センサＰＤＡ＋、ＰＤＢ＋とを有し、複数の光電センサＰＤＡ＋、ＰＤＢ＋は、干渉光に基づいて互いに位相がずれた複数の干渉信号を出力し、複数の干渉信号を用いて波長ずれ量を算出する。 （もっと読む）