【課題】露光装置における露光条件の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光条件に対応して投影光学系の像面に形成される像を基板に形成すべき目標パターンと比較して評価するための着目評価項目を選択する第１ステップと、前記着目評価項目とは異なる評価項目であって、前記露光条件を変更したときに前記着目評価項目の値が変化する方向と同じ方向に値が変化する評価項目を補助評価項目として選択する第２ステップと、着目評価項目と補助評価項目との関数である評価関数を設定する第３ステップと、前記評価関数の値を目標値に近づけるように、前記評価関数の値を算出する第４ステップと、第４ステップで算出された複数の前記評価関数の値から前記目標値を満たす評価関数の値に対応するパラメータの値を、前記露光条件のパラメータの値として決定する第５ステップと、を実行するプログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。
【解決手段】光源制御部１５ａは、遮光板８を閉じた状態で照射部１４の光源６に所定の電圧を印加した際に照度計５０によって検出される照度が目標照度になるように補正する補正機能１５ｂを有することで露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の形状やサイズにかかわらず、光源から基板に至る照射光路に設けられた光学部品及び空間光変調器の交換作業の作業性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】露光装置１００は光学ユニット４０ａ，４０ｂを備えている。光学ユニット４０ａ，４０ｂが備えるレーザ発振器４１ａ，４１ｂから出射された光が、照明光学系４３ａ，４３ｂを介して導入された空間光変調器４４１ａ，４４１ｂで空間変調されて基板Ｗ上に照射される。レーザ発振器４１ａ，４１ｂから照明光学系４３ａ，４３ｂに至る光路には光源からの光を通過又は遮断するシャッタ部４９ａ，４９ｂが設けられている。シャッタ部４９ａ，４９ｂの開閉制御を行うことにより、各光学ユニット４０ａ，４０ｂから照射された光がシャッタ部４９ａ，４９ｂよりも下流に設けられた光学部品を照射する時間は、各光学ユニット４０ａ，４０ｂで同一となる。 （もっと読む）

【課題】電気的に重要な箇所の寸法精度を向上し、性能・歩留まり向上、チップコスト低減の効果を得る。
【解決手段】半導体装置の製造プロセス最適化手法は、回路設計データから作成されたフォトマスクを用いて露光プロセスにより回路設計データに基づいたパターンを基板上に形成する。この最適化手法は、フォトマスクを用いて第１露光条件で第１露光装置にて基板上に形成されるパターンと、フォトマスクを用いて第２露光条件で第２露光装置にて基板上に形成されるパターンとの、予め定めた複数の箇所における差分の分布に基づく統計量を算出する際に、回路設計データより抽出した電気的特性情報に基づいて差分に重み付けをした上で統計量を算出する工程と、第２露光条件を変化させて算出する工程を繰り返し、変化させた第２露光条件の中で合計が最小或いは所定の基準値以下となる露光条件を第２露光装置の最適露光条件２１として選定する工程(Ｓ２７)とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】装置の特定の異常挙動を従来に比して高感度に検知することができる異常検知装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、装置パラメータ取得部１１は、装置の動作状態を表す装置パラメータを取得する。データ処理部１３は、装置パラメータの時系列データをフィッティング処理する。トレンド取得部１４は、フィッティング処理したデータを用いて、装置パラメータ取得時の２階微分値をトレンドの変化情報として取得する。フィッティング誤差取得部１５は、取得した装置パラメータと、フィッティング処理したデータと、のフィッティング誤差を装置パラメータの変化の度合い情報として取得する。そして、異常判定部１７は、データ挙動取得手段で取得されたトレンドの変化情報と装置パラメータの変化の度合い情報との組み合わせを、装置の動作状態が異常と判定される範囲を規定した異常判定基準情報と比較して、装置の動作状態が異常であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。マスク１２と露光対象部材２との間の露光光の光路上には、露光対象部材２における露光光の照射領域の大きさを調節可能なズームレンズ１６が設けられている。露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３、偏光変換素子１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 目標とする有効光源を少ない計算コストで迅速に導出する。
【解決手段】 プログラムがコンピュータに実行させる有効光源の算出方法は、前記物体の振幅透過率の分布および前記物体を透過した光の位相の分布を表現する数学的モデルを取得する取得工程と、前記像面における光強度を、前記有効光源とフーリエ変換の関係にある物体面における相互強度と前記数学的モデルとから演算する演算式を構築する構築工程と、前記像面における光強度の分布が目標パターンに近づくように前記物体面における相互強度を決定する決定工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】手間の掛かる作業を行うことなく露光条件を管理すること。
【解決手段】光変調素子を用いて基板にデバイスパターンの露光パターンを形成するための露光条件を管理する露光条件の管理方法であって、露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを、光変調素子に形成する形成ステップと、光変調素子に形成された露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを基板上にそれぞれ対応して露光する露光ステップと、識別情報を用いて、識別情報に対応するテスト露光パターンを管理する管理ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】
スループットの向上を図ることができる露光方法、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
基板Ｐの複数のショット領域Ｓに複数の目標積算露光量Ｓが設定されている。この場合に、各ショット領域の露光時の走査方向への基板ステージ２の移動速度Ｖを最高速度Ｖｍａｘよりも遅い速度で露光する。また、設定される目標積算露光量Ｓに基づいて、各ショット領域Ｓの露光時の調整可能な露光光ＥＬの特性および、基板Ｐ上での走査方向の露光光ＥＬの幅の少なくとも一方を調整する。 （もっと読む）

【課題】照明光源の形状の目標に対する一致度合が正確に評価する。
【解決手段】 目標Ψ_０に基づいて照明光学系の瞳面に形成された照明光源の形状Ψを計測し（ステップ２０８）、計測されるべき照明光源の形状を、照明光学系内の光学部材の特性を考慮して前記目標に基づいて予測し（ステップ２０５）、前記計測の結果〈Ψ〉と前記予測の結果Ψ_Ｉとのずれに基づいて、照明光源の形状の目標に対する一致度合を評価する（ステップ２０９、２１０）。これにより、照明光源の形状の目標に対する一致度合が正確に評価される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源を用いた場合に、ウェハ面上での露光量を正確に算出することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】パルス駆動により極端紫外域のパルス光を発生する光源１０と、光源１０からのパルス光を試料面５０上に導く光学系２０，４０と、試料面５０上の照度を計測する照度計測器７１と、光学系２０，４０の光路途中の照度を計測する照度計測器７２と、を備えた露光装置である。実際の露光とは別に、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７１で得られた計測値と照度計測器７２で得られた計測値との比を求めて記憶し、実際の露光において、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７２を用いて得られた計測値とこれ対応する比との積を求めて露光量推定値を算出し、算出した露光量推定値に対応して露光動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】危険度の高いシステマティック欠陥を識別することのできる半導体装置の製造方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、一方向に露光量を変化させ、他方向にＦｏｃｕｓ量を変化させた複数の露光領域がマトリックス状に配列されたウェーハを作製する工程（１）と、前記ウェーハの欠陥検査を行なう工程（２）と、前記欠陥検査工程で検出された欠陥について、システマティック欠陥を識別する工程（３）と、識別された前記システマティック欠陥が発生する露光条件に基づいて、前記システマティック欠陥について危険度の順位付けを行なう工程（４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板ごとに必要とされる可変成形マスクの切り替え動作の負荷を軽減することの可能な走査型露光装置、該走査型露光装置を用いる露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】
走査型露光装置は、照明系２１、反射ミラー２３、複数のＳＬＭミラーを有するＳＬＭ２４、ＳＬＭミラーによって形成されるマスクパターンに基づく露光パターンを投影領域に形成する投影光学系２２、投影領域に対して基板Ｓを走査する走査ステージ１１、及びＳＬＭ２４を制御するＳＬＭ駆動装置２５を備える。ＳＬＭ駆動装置２５は、投影領域が基板Ｓの外周部に位置するダミー露光領域以外にあるとき、基板Ｓの走査に合わせた基準走査周期で駆動対象が含まれる調光要素の選択範囲を走査する。また、投影領域がダミー露光領域にあるとき、駆動対象が含まれる調光要素の選択範囲の走査周期を基準走査周期よりも長くするようにＳＬＭ２４の調光状態を固定する。 （もっと読む）

【課題】可変成形マスクを用いて基板上に形成されるパターンの形状の精度を高めることができる走査型露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】
走査型露光装置は、照明系２１、反射ミラー２３，複数のＳＬＭミラーを有するＳＬＭ２４、ＳＬＭミラーからの光によって投影領域に露光パターンを形成する投影光学系２２、投影領域に対して基板Ｓを走査するステージ１１、及び、ＳＬＭ２４を制御するＳＬＭ駆動装置２５を備えている。ＳＬＭ駆動装置２５は、ＳＬＭミラー各々の共役位置を基板表面に合わせるように、該基板表面の段差に応じてＳＬＭミラー各々の位置を変更する。加えてＳＬＭ駆動装置２５は、隣り合うＳＬＭミラーからの光同士がＳＬＭミラーの位置変更に伴って互いに弱め合う部分には、それ以外の部分よりも多くのＳＬＭミラーからの光が到達するようにＳＬＭ２４の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）