【課題】リソグラフィマシンのワークピース２０８の交換中に、投影レンズ１６に隣接するギャップに液浸流体２１２を維持するための装置及び方法が開示される。
【解決手段】装置及び方法は、ワークピース２０８上に像を投影するために構成された光学アセンブリ１６と、光学アセンブリ１６に隣接するワークピース２０８を支持するために構成されたワークピーステーブル２０４を含むステージアセンブリ２０２を備える。環境システム２６が設けられて、光学アセンブリ１６とステージアセンブリ２０２上のワークピース２０８の間のギャップに液浸流体２１２を供給し除去する。ワークピース２０８の露光が完了した後、交換システム２１６がワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える。液浸流体維持システム２１４が設けられて、第１ワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える間、ギャップに液浸流体２１２を維持する。 （もっと読む）

【課題】 露光後に基板を観察することなく変位計測手段（変位センサ）の原点ずれを校正することが可能な投影露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の投影露光装置は、光学要素を有し前記光学要素を制御することにより結像特性を補正する投影光学系を介して、第１物体のパターンを第２物体に投影して露光する投影露光装置であって、前記光学要素の変位を計測する変位計測手段と、前記変位計測手段の計測基準を記憶する記憶手段と、前記投影光学系の結像特性を計測する結像特性計測手段と、前記結像特性計測手段の計測結果に基づいて前記計測基準を校正する校正手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】処理室内部の雰囲気が外部に漏洩することを確実に防止することができるとともに、処理室内のメンテナンスを外部から容易に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。フレームには開口部２１ｚを開閉可能にメンテナンス用扉Ｄが設けられる。開口部２１ｚを取り囲むように、フレームに溝付きトリム５０１が設けられる。溝付きトリム５０１は、開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態でメンテナンス用扉Ｄに接触することによりメンテナンス用扉Ｄに対向する溝５０１ｇを有する。開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態で、溝付きトリム５０１の溝５０１ｇとメンテナンス用扉Ｄとにより形成された空間の雰囲気が吸引ユニットにより吸引される。溝５０１ｇの内側の空間が外部に対して陰圧に保たれる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置内の汚染を低減するとともに、スループットの向上を可能とする、レジスト塗布現像装置とＥＵＶ露光装置との間に好適なインターフェイス装置及び基板搬送方法を提供する。
【解決手段】インターフェイス装置３０は、開閉可能な第１搬送口１Ｖ３を通して露光装置との間で基板を受け渡す減圧可能な第１搬送室１ｂ；第２搬送口４Ｖ１を通して第１搬送室１ｂとの間で基板を受け渡し、第３搬送口４Ｖ１３を通して塗布現像装置２０との間で基板を受け渡す複数のロードロック室４ａ〜４ｄ；第４搬送口１Ｖ１を通して第１搬送室１との間で基板を受け渡す、第２搬送室１ａ；第２搬送室１ａと連通する第５搬送口を通して基板を受け渡す、基板を加熱する複数の加熱モジュール２ａ〜２ｃ；第２搬送室１ａと連通する第６搬送口を通して基板を受け渡す、基板を冷却する複数の冷却モジュール３ａ〜３ｃを含む。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の基板側の透過光学素子の側面の周辺部に設けられたシールに、露光ビーム及びウエハからの露光ビーム反射光が照射されるのを防止し、シール部材の劣化を防止すること。
【解決手段】 露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写するための露光装置であって、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた前記露光装置に使用される光学素子において、
前記投影光学系の前記基板側の透過光学素子の側面に遮光膜を備えている光学素子。 （もっと読む）

【課題】停電等の異常が生じた場合にも、基板の外側への液体の流出を抑えることができる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。この露光装置は、商用電源から供給される電力によって駆動する駆動部を有する液体回収機構と、商用電源とは別の無停電電源とを備え、商用電源の停電時に、駆動部に対する電力の供給が無停電電源に切り替わる。 （もっと読む）

【課題】 ステージ７の回収流路（２２，２４，２５）で浸液１２が蒸発することにより、ステージ７の温度が低下してしまうことを抑制できる露光装置を提供すること。
【解決手段】 浸液１２を介して基板５を露光する露光装置は、基板５を保持し移動するステージ７を備える。ステージ７は、基板５を保持するチャック６と、チャック６の周辺に配置された補助板２１と、を有する。ステージ７には、基板５と補助板２１との隙間から浸入した浸液１２が流れる回収流路（２２，２４，２５）と、所定の温度に調整された温調液が供給される温調流路２６と、が形成されている。温調流路２６は、回収流路（２２，２４，２５）に連結されている。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を形成する液体の漏洩により基板周辺の装置・部材が受ける影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介してパターン像を基板上に投影することによって基板を露光するものであって、投影光学系と基板との間へ液体を供給する液体供給機構を備えている。液体供給機構は、異常が検出されたときに液体の供給を停止する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内のテーブルとコンポーネントの間のシールを開示する。
【解決手段】シールは、コンポーネントがテーブルに対してある位置にある場合に、コンポーネントとテーブルの間のギャップにまたがる。コンポーネントは、使用時にテーブルに対して動作可能であり、実施形態ではテーブルに取り付けられる。シールは、コンポーネント又はテーブルと一体とすることができる。 （もっと読む）

【課題】部材の汚染状態を確認できる確認方法を提供する。
【解決手段】確認方法は、液体を介して露光光で露光される基板をリリース可能に保持する第１保持部で第１部材を保持することと、露光光が照射可能な位置に移動可能な第２部材と液浸部材との間に形成された液浸空間の液体と、第２部材の表面とを接触させることと、液浸部材の一側に液浸空間が形成された状態で、液浸部材に対して第１部材及び第２部材を移動して、液浸部材と第１部材との間に形成された液浸空間の液体と、第１部材の表面とを接触させることと、第１部材の表面の状態に基づいて、第２部材の表面の汚染状態を確認することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を形成する液体の漏洩により基板周辺の装置・部材が受ける影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する。露光装置は、基板を保持して移動可能な基板ステージであって、その上に第１領域を有する基板ステージと、基板にパターン像を投影する投影光学系であって、像面側先端部を含み、第１領域と対向して第１領域の少なくとも一部との間に液体を保持する第２領域を有する投影光学系と、第１領域と第２領域との位置関係に応じて、基板ステージの移動を制限する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】液体の汚染状態を確認できる確認方法を提供する。
【解決手段】確認方法は、液体を介して露光光で露光される基板をリリース可能に保持する第１保持部で評価部材を保持することと、液体供給装置から供給された液体を評価部材の表面の第１領域に第１時間だけ接触させることと、液体供給装置からの液体を第１領域と異なる評価部材の表面の第２領域に第１時間と異なる第２時間だけ接触させることと、第１領域及び第２領域の表面状態に基づいて、液体供給装置から供給された液体の汚染状態を確認することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置内の不要な粒子を効率よく吸着、除去する。
【解決手段】本発明の液浸露光装置の洗浄方法は、ダミーウェハＤＷを液浸露光装置のステージ６１１に戴置するステップと、ダミーウェハＤＷと投影レンズ６０４との間に液浸液６０５を供給しつつステージ６１１を移動させるステップと、を含む。ダミーウェハＤＷは、基板１０と、基板１０に設けられ、供給された液浸液６０５に懸濁している異物（粒子）の吸着力が基板１０より高い吸着領域１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】サーミスタの高い測定感度を生かし、かつサーミスタの抵抗率の経時変化により生じる測定温度と実際の温度とのずれを補正し、従来に比較して信頼性の高いサーミスタを用いた温度測定装置、及びそれを用いた気体供給装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の温度測定装置は、サーミスタセンサを用いて測定した第１の温度データを出力する第１の温度計と、測温抵抗体センサを用いて測定した第２の温度データを出力する第２の温度計と、第１の温度データの誤差を第２の温度データにより補正する補正制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の表面を効果的に洗浄できるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、洗浄する表面に洗浄流体を提供する流体供給システムを含む。洗浄流体は、２５〜９８．９９重量％の水と、１種又は数種のグリコールエーテル、エステル、アルコール及びケトンから選択される１〜７４．９９重量％の溶媒と、０．０１〜５重量％の界面活性剤とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。
【解決手段】可飽和吸収体（ＳＡ）装置３３は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。ＳＡガスボンベ３３４（１）からのＳＡガスとバッファガスボンベ３３４（２）からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路３３３（１）を介して、ＳＡガスセル３３０に供給され、レーザ光Ｌ１に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路３３３（２）を介して排出され、熱交換器３３２に送られる。熱交換器３３２で冷却された混合ガスは、循環ポンプ３３１（１）により、再びＳＡガスセル３３０に送られる。 （もっと読む）

【課題】高精度な温度計測を行うことが可能な温度計測装置を提供する。
【解決手段】測温抵抗素子を含んで構成され温度に応じた電圧信号を出力する温度検出回路と、温度検出回路からの出力信号に基づき温度を計算する演算部４０と、を備えた温度計測装置において、温度検出回路は、直列接続された第１抵抗Ｒａ及び第２抵抗Ｒｄと、直列接続された第３抵抗Ｒｃ及び第４抵抗Ｒｂと、が並列に接続され、第１抵抗Ｒａと第２抵抗Ｒｄとの接続点Ａ、及び、第３抵抗Ｒｃと第４抵抗Ｒｂとの接続点Ｂ、の間の電圧を電圧信号として出力するブリッジ回路であって、第１〜第４抵抗のうち第１抵抗Ｒａと第４抵抗Ｒｂが測温抵抗素子である。 （もっと読む）

【課題】例えば泡が生成され、及び／又は液浸空間内に侵入する可能性が低減される流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】特に流体ハンドリング構造の底面の開口のアレイの寸法と間隔とに関して、液浸液内の泡の形成を処理し、及び／又は防止する手段が講じられた流体ハンドリング構造及びリソグラフィ装置を開示する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）