【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。
【解決手段】電磁放射で基板１０１を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有しており、投影光学系１００と基板１０１との間に液体流１０７を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル４１６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】浸漬式リソグラフィ投射装置を提供すること。
【解決手段】投射系の最終要素と基板の間に浸漬液を閉じ込めた浸漬式リソグラフィ投射装置を開示する。装置の様々な要素上に疎水性及び親水性の層をともに使用することを開示する。これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハに形成されたノッチ部等の基板の切り欠き部からの膜はがれに起因する欠陥発生の低減を図ることができる液浸露光装置を提供する。
【解決手段】露光処理中に、ウエハ６のノッチ部１４を、液浸水の浸透を防止するカバー１５で覆う。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光によるリソグラフィ工程において、アウトガスの発生を抑制し、かつ製造コストの低減を図る。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板１０上に減圧又は真空雰囲気下においてアウトガスを発生する膜１１及び１２を形成する工程と、前記膜上に前記膜が露出しないように、減圧又は真空雰囲気下において前記膜よりも単位面積あたりのアウトガスの発生量が少ないレジスト膜１３を形成する工程と、前記レジスト膜に対してＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光によるパターン光を照射し、前記レジスト膜を露光する工程と、前記レジスト膜を現像する工程と、前記レジスト膜及び前記膜、又は前記膜をマスクとして前記基板を加工する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】浸漬式リソグラフィ投射装置を提供すること。
【解決手段】投射系の最終要素と基板の間に浸漬液を閉じ込めた浸漬式リソグラフィ投射装置を開示する。装置の様々な要素上に疎水性及び親水性の層をともに使用することを開示する。これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 （もっと読む）

【課題】浸液の抜き取りの際に生ずる冷却を低減することができる液浸リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダＷＨとエッジ構造体１５との間に毛細管路２０が形成される。毛細管路２０に沿って複数の電極２１，２２，２３，２４が配置されており、該電極は帯電すると親液性となる。該電極を使用して、液体の液滴を分離し、また、毛細管路に沿って液体を汲み出すことができる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が入射される入射面、露光光が射出される射出面、及び射出面のエッジから入射面側に向かって延びる外周面を有する光学部材と、少なくとも一部が外周面とギャップを介して対向する側部を有し、射出面と射出面からの露光光を照射可能な位置に配置される物体との間の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材とを備える。液浸部材は、側部の少なくとも一部に配置され、外周面と側部との間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収口を有する。 （もっと読む）

【課題】浸液の抜き取りの際に生ずる冷却を低減することができる液浸リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダＷＨとエッジ構造体１５との間に毛細管路２０が形成される。毛細管路２０に沿って複数の電極２１，２２，２３，２４が配置されており、該電極は帯電すると親液性となる。該電極を使用して、液体の液滴を分離し、また、毛細管路に沿って液体を汲み出すことができる。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定の繰り返し単位を含む第一の重合体（Ａ）と、酸の作用により解離する酸解離性官能基を有し、前記酸解離性官能基が解離してアルカリ可溶性となる第二の重合体（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との間に浮遊する浮遊物がマスクに付着するのを抑制する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の周囲に吸引手段３０を設け、吸引手段３０により、マスク２と基板１との間に浮遊する浮遊物を吸引する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の周囲に設けた吸引手段３０により、マスク２と基板１との間に浮遊する浮遊物が吸引されて、浮遊物のマスク２への付着が抑制される。特に、基板１に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物が吸引されて、昇華物のマスク２への付着が抑制されるので、マスク２に新たな処理を施すことなく、昇華物によるマスク２の汚れが低減する。浮遊物のマスク２への付着が抑制されるので、マスク２を洗浄する頻度が低下し、表示用パネル基板の生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定の繰り返し単位を含む第一の重合体（Ａ）と、酸の作用により解離する酸解離性官能基を有し、前記酸解離性官能基が解離してアルカリ可溶性となる第二の重合体（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄装置、洗浄方法及び半導体装置の製造方法等に関し、半導体ウエハのエッジ部に形成された膜を除去するための洗浄装置及び洗浄方法、及び半導体装置の製造方法等に関する。
【解決手段】本発明に係るの洗浄装置は、半導体ウエハ３の最外端から内側に５ｍｍ以内の部分を挟んで押し当てる第１及び第２のブラシ１ａ、１ｂと、第１及び第２のブラシを保持する第１及び第２のブラシ軸２ａ、２ｂと、第１及び第２のブラシ軸を回転させる回転機構と、半導体ウエハを回転させる回転機構と、洗浄液を供給する機構と、制御機構とを具備し、制御機構は、半導体ウエハの最外端から内側に５ｍｍ以内の部分に第１及び第２のブラシを押し当て且つ半導体ウエハの最外端から内側に５ｍｍより更に内側の表裏面には第１及び第２のブラシを押し当てないことにより、半導体ウエハのエッジ部に成膜された膜を除去するように制御する機構であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。
【解決手段】液浸露光装置において、対象物と基板テーブル上の間隙の大きさまたは間隙領域を低減することにより、及び／または、間隙を覆い隠すカバープレートを備えることにより、液浸用液体中での気泡の形成を最小化または防止される。また、前記対象物の端部と前記支持テーブルの穴部の側部との間隙を、液体に接触しているときに縮小するために前記穴部において横方向に前記対象物を移動させるアクチュエータをさらに備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】作業者等が内部空間に円滑に進入できるチャンバ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ装置は、チャンバ本体の第１開口を閉鎖可能であり、第１開口を閉鎖することによって、チャンバ本体の内側に実質的に閉ざされた内部空間を形成する第１開閉部材と、第１開口を開放する操作と連動して、内部空間の気体の少なくとも一部を排出する排気機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の汚染物質レベルを監視することができるガス汚染センサを提供する。
【解決手段】ガス汚染センサは、試験されるガスのサンプルからイオンビームを生成するイオン源と、第１及び第２イオンディテクタとを含み、第１及び第２イオンディテクタの各々は異なる範囲で偏向されたイオンビームからのイオンを受ける。第１イオンディテクタは、試験されるガス内の一次ガスから生成されたイオンを受け、第２イオンディテクタは、試験されるサンプル内の汚染物質ガスから生成されたイオンを受ける。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、射出面の周縁から上方、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する第１空隙部と、第１面と第２面との間に配置された第１開口から液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された第２空隙部と、少なくとも一部が光学系の側面と対向する位置に設けられ、第１開口から第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部を第２開口を介して回収する回収部とを備え、基板の露光の少なくとも一部において、基板の表面が射出面、第１面、及び第２面に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】投影システムによる露光後に基板表面に残溜する液体を減じることを目的とするリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】投影システムＰＬ下の基板表面の局所的領域が液体に浸されるリソグラフィ装置。アクチュエータ３１４を用いることにより、基板Ｗの表面上方の液体供給システム３１０の高さを変えることが可能である。制御システムは、基板Ｗの表面高さの入力によるフィードフォワード制御もしくはフィードバック制御を用いて、液体供給システム３１０を基板Ｗの表面上方の所定の高さに維持する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、かつ第１面より下方に配置された第２面と、第１面と第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収する第１回収部とを備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面が面する空間に面するように第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、光路を液体で満たすために空間に液体を供給する供給口と、供給口から供給され、射出面の周縁から上方に、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する空隙部に第１開口を介して流入した液体の少なくとも一部を回収する回収部とを備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面の下方に配置された基板の表面が、射出面及び第１面に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）