【課題】液浸法に基づいて露光処理する際、パターンの像を基板上に精度良く形成できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。露光装置は、液体の気化を抑制する気化抑制装置を備え、気化抑制装置は、液体の周囲に蒸気を供給する供給装置を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の周辺部分からその周囲に液体が漏れることを防止するため、或いは、基板の中央部分と周辺部分とで液体の挙動を同じにする。
【解決手段】原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光する液浸露光装置１０は、基板４およびそれを取り囲む液体支持部材１を保持する基板ステージ２と、操作機構５と、基板ステージ２によって保持される基板４の形状に応じて複数の液体支持部材１の中から１つの液体支持部材１を選択し、その選択された液体支持部材１が基板ステージ１に搭載されるように操作機構５を制御する制御部２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。露光装置（ＥＸ）は、移動可能なテーブル（ＰＴ）と、テーブル（ＰＴ）の移動を案内する上面（４１Ａ）を有するベース部材（４１）と、ベース部材（４１）の上面（４１Ａ）に液体（ＬＱ）が有るか否かを検出する検出装置（６０）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スライダをプラテンから降ろして吊り上げることなくスライダのエアベアリング面を直接メンテナンスできる平面モータを提供する。
【解決手段】
エアベアリング１９によりスライダ１２をプラテン１１の上面に浮上させ、２次元方向に移動させる平面モータにおいて、
プラテン１１に上面高さを揃えて外付けされ、スライダ１２の底面よりも小さな開口部５１ａと、この開口部５１ａを密封状態にふさぐ蓋部５１１と、この蓋部５１１を開閉する駆動機構５１２と、蓋部５１１を開いた状態において開口部５１ａからスライダ１２のエアベアリング面１２ａを清掃するメンテナンス部１８とを有する脱着式プラテン５１を備えたことを特徴とする平面モータ。 （もっと読む）

【課題】マスクに付着した異物の除去に有利な異物除去装置を提供する。
【解決手段】本発明の異物除去装置８ａは、マスク１のパターン面に付着した異物２ａ、２ｂを除去する異物除去装置であって、マスク１のパターン面に対向配置される電極５、６と、マスク１のパターン面と電極５、６との間に正及び負の電圧を交互に印加する電源３を有する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置を構成する構成部品を容易に取り出すことができる基板処理装置のメンテナンス方法、基板処理装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】支持部６４を、床部１１の第１開口部４０を介して下側の領域１３から上側の領域１２に移動させる。そして、支持部６４に、露光装置１４のうち上側の領域１２に設置される投影光学系２２を支持させる。投影光学系２２を支持する支持部６４を重力方向に沿って下方に移動させる。すると、投影光学系２２は、支持部６４によって、上側の領域１２から第１開口部４０を介して下側の領域１３に移動する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１箇所の加力機構で光学素子を所望の形状に変形させ、光学素子の非回転対称な収差を、より簡便に、低コストで補正する光学素子の保持装置を提供する。
【解決手段】第１の支持部材３ａと、装置外部の高剛性構造体に固定される第２の支持部材３ｂとを有し、複数の保持部４ａ〜４ｄは、支持部材４の円周上において均等に配置され、かつ、第１の支持部材３ａに固定される保持部４ｃ、４ｄと、第２の支持部材３ｂに固定される保持部４ａ、４ｂとからなり、更に、第１の支持部材３ａと第２の支持部材３ｂとに対して、光軸方向に相対的に圧力を加える加力機構５と、微小回転が可能なガイド部材６と備え、加力機構５は、支持部材３に対して少なくとも１箇所に設置され、第１の支持部材３ａと第２の支持部材３ｂとの相対位置を変化させ、複数の保持部４ａ〜４ｄで保持された光学素子２を変形させることにより、光学素子２の収差を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板および液体保持部の上に液体が残留することを低減するために有利な技術を提供する。
【解決手段】原版２のパターンを投影光学系４および液体１７を介して基板５に投影し該基板を露光する液浸露光装置は、基板５を保持するステージ６が、該基板５を取り囲むように配置される第１液体保持部８と、該基板と前記第１液体保持部との間に配置される第２液体保持部２３とを含む。前記第２液体保持部２３の表面に対する前記液体１７の接触角は、前記第１液体保持部８の表面に対する前記液体１７の接触角よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板Ｐを保持して移動する基板ステージ２であって、保持された基板Ｐの周囲に設けられて液体ＬＱを回収する第２溝部４２と、第２溝部４２の底部４２ａに設けられ、第２溝部４２で回収した液体ＬＱを、第２溝部４２の外部に排出する排出孔４５と、液体ＬＱよりも比重の小さい材料で形成され、第２溝部４２に配置されて第２溝部４２に貯溜した液体ＬＱの液位に応じて浮沈することにより排出孔４５を開閉するフロート弁５１とを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光、及び露光光とほぼ同じ波長の照射光の少なくとも一方を射出可能な射出面を有する光学部材と、射出面と、射出面と対向する位置に配置される基板及び所定部材の少なくとも一方の表面との間の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する液浸部材と、液浸空間の液体に溶存する気体濃度を調整可能な調整装置とを備えている。所定部材の表面は、液体に対して撥液性の膜の表面を含む。露光装置は、基板に対する露光光の照射時よりも気体濃度が高められた液浸空間の液体と所定部材の表面とが接触された状態で、射出面から射出される露光光及び照射光の少なくとも一方を所定部材に照射する。 （もっと読む）

【課題】液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置において、液浸液により誘起される欠点を緩和する。
【解決手段】液体除去システム１００は液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）に対して運動可能であり、運動する基板テーブルに対して実質的にゼロの相対的速度を有するように制御される。液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）と液体除去システム１００の間のギャップは覆うことができ、両者間で基板テーブルの上の雰囲気は、液体蒸気圧が比較的高くなるように維持することができる。 （もっと読む）

【課題】液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置において、液浸液により誘起される欠点を緩和する。
【解決手段】液体除去システム１００は液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）に対して運動可能であり、運動する基板テーブルに対して実質的にゼロの相対的速度を有するように制御される。液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）と液体除去システム１００の間のギャップは覆うことができ、両者間で基板テーブルの上の雰囲気は、液体蒸気圧が比較的高くなるように維持することができる。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板ステージ２であって、接触した液体ＬＱを回収して液体ＬＱを保持する多孔体から形成された多孔体流路５０を備え、多孔体流路５０は、鉛直成分を含む方向に延在する延在部Ｌを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、基板との間で第１液体を保持可能な下面を有する液浸部材と、下面と対向する位置に移動可能であり、超音波振動が付与された第２液体を下面との間で保持可能な上面を有する可動部材と、可動部材に設けられ、下面と上面の所定領域との間に保持された第２液体の漏出を抑制するシール機構とを備え、第２液体で下面の少なくとも一部をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置において、液浸液により誘起される欠点を緩和する。
【解決手段】液体除去システム１００は液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）に対して運動可能であり、運動する基板テーブルに対して実質的にゼロの相対的速度を有するように制御される。液体供給システム（一部がバリア部材１２として示される）と液体除去システム１００の間のギャップは覆うことができ、両者間で基板テーブルの上の雰囲気は、液体蒸気圧が比較的高くなるように維持することができる。 （もっと読む）

【課題】高ＮＡ化のための液浸露光において、操作の煩雑性、露光光通過過程での光学的性質のみだれが生じる可能性、液浸用液体と露光レンズとの相互作用等の問題があった。又Ｆ_２エキシマレーザー光に対する液浸用液体は、現在実用化されていない。
【解決手段】露光対物レンズ内面の使用露光光源の一部の光の露光を受ける最表面側の露光対物レンズ表面の反射光量の測定でもって、又露光を受ける最表面側の露光対物レンズ表面の汚れ付着防止のため、露光対物レンズと露光を受ける最表面間に気体を吹きこみ、そのことによって生じるウエハにかかる圧力で、露光対物レンズと露光を受ける最表面間の距離を計測し、露光対物レンズ表面と露光最表面間の距離を使用露光光の波長以下に保つ。 （もっと読む）

【課題】バリア部材と投影システムの最終要素と基板との間のスペースにある液浸液のレベルを制御することができる、液浸液を除去するシステムを提供する。
【解決手段】
液浸液を除去してチャンバに入れるために、複数の抽出導管が設けられる。抽出導管は、基板のターゲット部分から様々な距離に配置される。チャンバからは、吸引力が加えられる通路が設けられる。全ての導管が液浸液で充填されると、１本または複数の導管がガスを含む場合より抽出容量が大きくなる。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を良好に形成して高い露光精度及び計測精度を得ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱと投影光学系ＰＬとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱの圧力を調整する圧力調整機構９０を備えている。 （もっと読む）

【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第１位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第１位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第２位置決め部材と、前記第１位置決め部材の周囲に第１密閉空間を形成する弾性を有する第１密閉部材と、前記第２位置決め部材の周囲に第２密閉空間を形成する弾性を有する第２密閉部材と、前記第１密閉空間と前記第２密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第１密閉空間及び前記第２密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第１吸引機構及び第２吸引機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、第１液体を供給する第１供給口と、基板の露光時に、第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、露光光の光路に対して第１回収口の外側に配置された第２回収口とを備えている。露光装置は、所定部材のクリーニング時に、第１供給口から第１液体を供給し、第１回収口から第２液体を供給し、第２回収口から第１液体及び第２液体の少なくとも一方を回収する。 （もっと読む）