【課題】アライメント誤差又はフォーカス誤差を低減し、目標とするパターン形状、線幅を達成する露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板ステージと、露光室内の空間の雰囲気を空気雰囲気に維持する雰囲気維持部と、前記空間のうち前記投影光学系の最終面と前記基板ステージに保持された基板との間の局所空間に、空気と不活性ガスとの混合ガス及び空気のいずれかを供給するガス供給部と、アライメントマークの位置と前記基板ステージに形成された基準マークの位置とを検出する第１検出器と、制御部と、を備える。前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、転写性を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリント方法を提供する。
【解決手段】基体の表面に被転写層を形成する形成部と、前記被転写層にパターンを転写するインプリント部と、前記形成部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも低い第１の気体を供給する第１の気体供給部と、前記インプリント部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも高い第２の気体を供給する第２の気体供給部と、前記第１の気体の供給と、前記第２の気体の供給と、を制御する制御部と、を備えることを特徴とするインプリントシステムが提供される。 （もっと読む）

【課題】基板および／または基板テーブルの表面からの液体の除去を改善する液浸リソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】投影システムと基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムと、空間を少なくとも部分的に取り囲むように配置された第１のガスナイフ４１０と、ガスナイフの一部分に隣接し且つこれに沿って位置付けられた液体除去デバイス４２０と、を備えるリソグラフィ装置であって、基板が、基板の面上のいずれかの方向であって、装置の光軸を通る方向に、少なくとも３６°の弧状に移動する際、基板の面に対して垂直な面であって、方向を含む面内の基板上の液体が、ガスナイフと、方向での基板のさらなる移動との複合効果によって、ガスナイフに沿って液体除去デバイスへ移されるように、ガスナイフが形成されている。 （もっと読む）

【課題】移動体に追従させてケーブルなどを低振動、低発塵で案内する。
【解決手段】ケーブル５６は、水平面に沿ってＸ軸方向に移動するＸ粗動ステージ２３Ｘに一端が、Ｘ粗動ステージ２３Ｘの移動範囲外に配置された固定部材６６に他端が接続されている。ケーブル５６は、直列に接続された４節のリンク６８，７０，７２，７４を含むリンク機構６０に沿うように、そのリンク機構６０に固定されている。Ｘ粗動ステージ２３Ｘが移動すると、リンク機構６０の変形に伴って、ケーブル５６がＺ軸方向に案内され、これにより固定部材６６側から見たケーブル５６の繰り出し量が調整されるので、ケーブル５６と他の部材との摺動が抑制され、同時に振動の発生も抑制される。 （もっと読む）

【課題】基板載置部の摺動部で発生した塵埃がマスクや基板へ付着するのを低減、或いは防止することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置台５と、載置台５を搭載するステージ１と、ステージ１上で載置台５を移動するための移動機構２，３，４とを有する露光装置において、ステージ１は、内部がリブで格子状の構造を有し、更に、その上面に複数の吸気口と、その側面に複数の排気口とを有する。これにより、移動機構で発生した塵埃を速やかに排気することができる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】基板を保持するように構成された基板テーブルＷＴと、パターン付き放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、表面を洗浄するように構成されたメガソニックトランスデューサ２０と、メガソニックトランスデューサ２０と洗浄しなければならない表面の間に液体を供給するように構成されている液体供給システムと、を備え、表面を洗浄するように構成されたメガソニックトランスデューサ２０から発生するメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置の表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面から射出される露光光の光路に第１液体を供給する第１供給口と、光路の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光時に、第１ギャップを介して対向する基板の表面との間で第１液体を保持する第１面と、基板の露光時に、第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、光路に対して第１回収口の外側に配置された第２回収口と、基板の非露光時に、第１ギャップよりも小さい第２ギャップを介して第１面と物体の表面とを対向させた状態で、第２ギャップに供給された液体を、第２回収口から回収するように制御して、第１面の少なくとも一部をクリーニングする制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】液浸流体を封じ込める空間と流体ハンドリング構造の外部領域との間の境界に、第１の列に配置された複数の開口と、第２の列のアパーチャを有する第１のガスナイフデバイスと、第３の列の１つ又は複数の開口と、第４の列のアパーチャを有する第２のガスナイフデバイスとを有するリソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造が提供される。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。露光装置は、マスクを照明するための露光光を射出する光学部材と、ミストを供給可能なミスト供給口を有し、マスクにミストを供給して、マスクの温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】良好にパターンを形成することが可能なパターン形成方法及び原板管理方法を提供する。
【解決手段】転写パターンを有する原板３を洗浄する工程と、原板３を洗浄した後の原板３の許容放置時間が経過する前に、転写パターンを被転写基板１に形成されたパターン形成材料２に転写する工程と、を備える． （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のスループットの低下を抑える。
【解決手段】 液浸剤１７０を介してマスク１２０のパターンの像を基板１５０に露光する露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系１３０と、液浸剤の供給及び回収を行う手段と、洗浄液を供給する供給口と洗浄液を回収する回収口とを有し、投影光学系との間に洗浄液を保持して最終光学素子を洗浄するための洗浄台とを有する。洗浄台上に液浸剤を保持したまま最終光学素子の表面に洗浄液を供給することにより、液浸剤を最終光学素子の表面から離して最終光学素子を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。
【解決手段】電磁放射で基板１０１を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有しており、投影光学系１００と基板１０１との間に液体流１０７を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル４１６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介してパターンを基板に露光する際、パターン像の劣化を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって基板を露光する露光装置であって、投影光学系の終端近傍に配置され、液体を供給する液体供給機構１０を備え、液体供給機構の側面２Ｔと投影光学系の液体と接する終端の光学部材の側面３０Ｔとの間には微小間隙１００が形成されており、液体供給機構の側面３０Ｔと終端の光学部材の側面２Ｔとのうち少なくとも一方が撥液処理１０１Ａ,１０１Ｂされる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの倒壊を抑制する基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理方法は、基板上にレジスト膜を形成するレジスト形成工程と、レジスト膜を露光する露光工程と、露光工程の後、基板を処理室２０内に収容し、処理室２０の外部で生成したイオンを含むガスを処理室２０内に導入し、イオンを含む雰囲気中でレジスト膜に現像液を供給しレジスト膜を現像する現像工程と、現像工程の後、イオンを含む雰囲気に維持された処理室２０内でレジスト膜にリンス液を供給しレジスト膜を洗浄するリンス工程と、リンス工程の後、レジスト膜を乾燥する乾燥工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 複数の反射光学素子のうちの１つを光路中に位置決めする装置であって、各反射光学素子を容易に交換することのできる素子切換装置。
【解決手段】 複数の反射光学素子（３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ）のうちの１つを光路中に位置決めする素子切換装置（３０）は、光路側とは反対の側から複数の反射光学素子を着脱自在に取り付け可能な本体部（３０ａ）と、本体部に取り付けられた複数の反射光学素子から選択された１つの反射光学素子を光路中に位置決めするために本体部を駆動する駆動部（３０ｃ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】露光工程において異物の発生を抑制する。
【解決手段】半導体装置製造用マスクは、透光性基板と、前記透光性基板上の一部に形成された半遮光パターンおよび遮光パターンと、を具備する。前記透光性基板の露出した表面、半遮光パターンおよび遮光パターンの表面から１ｎｍまでの範囲において、Ｓ含有物の濃度が０．４％以下である。 （もっと読む）

【課題】コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる反射型フォトマスクの露光量制御方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】反射型フォトマスクの吸収膜が反射率測定領域を有して、複数の波長を反射率測定領域に照射する露光量制御方法であって、反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光前の初期反射率Ｒ０（λ）と反射型フォトマスクを用いて、露光を繰り返した後の反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光後の反射率Ｒ（λ）との少なくとも２つの波長について取得する反射率取得工程を備えることを特徴とする露光量制御方法。 （もっと読む）

【課題】波長変化の検出精度を向上させる波長検出装置、圧力検出装置、除振装置、および露光装置を提供する。
【解決手段】前記光源部から射出される光を複数の光に分離し、当該分離した複数の光のうち少なくとも２つの光を干渉させる光学部と、前記干渉によって得られた干渉光を受光する受光部と、前記受光部によって受光された干渉光の干渉強度を検出する検出部とを備え、前記光学部は、前記干渉させる２つの光のうちいずれか一方の光を測定対象となる媒質に透過させる測定媒質部を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる、ステージ装置、露光装置、洗浄方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
基板ステージ２の基板保持部５は、液体供給装置７に接続可能な液体供給口３を備える。液体供給装置７は、液体供給口３を介して、チャック面５ａに液体を供給することが可能である。 （もっと読む）

【課題】大型のマスクの交換を効率良く実施し、かつ、次の露光処理に使用されるマスクに対する異物の付着を防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】複数の原版Ｍ、ＭＰを保管するストッカと、原版Ｍを原版ステージ３に向けて搬送する搬送路７とを有し、原版ステージ３に載置する原版Ｍを交換するための原版交換装置６を備える露光装置１であって、搬送路７は、原版ステージ３上に向けて設置された直線路であり、原版交換装置６は、搬送路７に吊設された、原版Ｍを保持するハンド１１を有する台車９と、搬送路７の直下に設置された待機室８とを備え、第１の原版Ｍを使用した第１回目の露光処理の間に、第２回目の露光処理で使用される第２の原版ＭＰを、予めストッカから待機室８に搬送し、待機室８で待機させる。 （もっと読む）