【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、第１面を有する液浸部材を含み、露光光の光路が第１液体で満たされるように第１面の少なくとも一部と物体の表面との間で第１液体を保持して第１液浸空間を形成可能な第１液浸機構と、第１面の少なくとも一部と対向可能な第２面を有する可動部材を含み、第２面上の少なくとも一部に第２液体で第２液浸空間を形成可能な第２液浸機構と、記基板の非露光時に、第１面の少なくとも一部と第２面の少なくとも一部との間に第２液浸空間が形成されるように、第２液浸機構を制御する制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、所定部材と、露光光が照射可能な位置に移動可能な物体の表面を所定部材の下面と対向させつつ物体を所定の移動軌跡で移動させる駆動装置と、移動後の物体の表面の汚染状態に基づいて、所定部材の汚染領域を特定する特定装置と、所定部材をクリーニングするクリーニング装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】液浸液が基板に及ぼす力を予測し、かつポジショナによって及ぼされる外乱力などの打ち消す力を制御するための改良配置を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置は、基板と投影システムとの間の空間内の液浸液の圧力を測定するように構成された圧力センサを有する。制御システムは、圧力センサによって生成された圧力信号に応答し、液浸液によって基板テーブルに及ぼされる力を補償するように基板テーブルに力を及ぼすポジショナを制御する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】クリーニング装置は、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置内の所定部材をクリーニングする。クリーニング装置は、所定部材にパルス光を照射して、所定部材の異物を溶融又は気化させて、所定部材から前記異物を除去する照射装置を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、露光光が照射可能な位置に配置される物体との間で液体を保持可能な第１面と、所定軸周りに配置された第２面を有し、第２面の少なくとも一部が第１面の周囲の少なくとも一部に配置される回転部材と、物体の移動と同期して第２面が移動するように回転部材を回転させる駆動機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を抑制しつつ、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、第２面の周囲の少なくとも一部に配置された第３面と、第１面の周囲の少なくとも一部において、光学系の光軸に対する放射方向に関して外側を向くように配置され、第２面に第１液体を供給する第１供給口と、第２面の周囲の少なくとも一部において、光軸に対する放射方向に関して外側を向くように配置され、第３面に第２液体を供給する第２供給口とを備えている。基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の第３液体を介して射出面からの露光光で基板が露光される。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填する液体を有する装置の描画性能を向上させること。
【解決手段】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法が、投影レンズの最終要素と基板の間の描画領域の少なくとも一部を充填する、液溜め１３の中に閉じ込められた大きな屈折率の液体を利用する。溶解した大気ガスに由来するか又は液体に曝された装置要素からのガス放出に由来する、液体中で発生する気泡が、露光に干渉して基板上の焼き付け欠陥を招かないように検出されかつ除去される。検出は液体中の超音波減衰の周波数依存を測定することによって実行可能であり、気泡除去は、液体の脱気及び加圧を行い、液体を大気から隔離し、低表面張力の液体を使用し、描画領域を通過する連続的な液流を供給し、さらに超音波定常波形の節を移相することによって実施可能である。 （もっと読む）

【課題】不要な液滴を基板及び／又は基板テーブルの表面からより有効かつ効率的に除去することができる装置を提供する。
【解決手段】液浸空間から液浸液を除去する流体除去デバイスと、液浸液の液滴を除去する液滴除去デバイスとを有する液浸リソグラフィ装置用の流体ハンドリングシステムであって、液滴除去デバイスが、流体除去デバイスよりも光軸から遠い位置にあり、液滴除去デバイスが、例えば、露光中の基板及び／又は基板テーブルに向かい合う多孔質部材を備える流体ハンドリングシステム。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を良好に形成して高い露光精度及び計測精度を得ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱと投影光学系ＰＬとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱの圧力を調整する圧力調整機構９０を備えている。 （もっと読む）

【課題】 製造時と異なる使用時の圧力環境下で目標形状を有する光学素子を効率よく製造する。
【解決手段】 本発明は、光学部材を第１気圧のもとで加工して、前記第１気圧とは異なる第２気圧のもとで使用される光学素子を製造する方法であって、前記光学部材の表面形状を前記第１気圧のもとで測定する測定工程と、前記第１気圧と前記第２気圧との気圧差により発生する前記光学部材の変形量を算出する算出工程と、前記測定工程で測定された表面形状と前記算出工程で算出された変形量とに基づいて、前記光学部材の表面形状が前記第２気圧のもとで目標形状となるように前記光学部材を前記第１気圧のもとで加工する加工工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】光照射装置内のエアー浄化し、レンズやミラーといった光学部品の汚染を防ぐことができるエアー浄化装置つき光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線を含む光を放射する光源１と、光源１からの光を反射または透過する光学部品と、光源１および上記光学部品を内部に収納する光照射装置に、光照射装置内のエアーを浄化するエアー浄化装置２０を設け、浄化されたエアーを光照射装置内に導入する。エアー浄化装置２０は、紫外線照射部２１と、紫外線照射部２１からの紫外線を照射したエアー（ガス）を水に接触させる水槽２４を備え、紫外線を照射した後のエアーを水に接触させ、エアーの中から光学部品の汚染の原因となるジメチルスルフィド（以下ＤＭＳ）等を除去する。これにより、光照射装置内の光学部品の硫酸アンモニウム等による汚染を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。
【解決手段】液浸露光装置において、対象物と基板テーブル上の間隙の大きさまたは間隙領域を低減することにより、及び／または、間隙を覆い隠すカバープレートを備えることにより、液浸用液体中での気泡の形成を最小化または防止される。また、前記対象物の端部と前記支持テーブルの穴部の側部との間隙を、液体に接触しているときに縮小するために前記穴部において横方向に前記対象物を移動させるアクチュエータをさらに備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージに位置検出用の光を照射する照射装置と、前記ステージの移動に応じて前記ステージの移動経路上の気体を前記光の光路から外れた位置に移動させる気体移動装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動に応じて前記所定空間を移動する移動体と、前記移動体に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【目的】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、空気揺らぎと気圧、温度、湿度を含めた環境の変化による測長誤差を補正できるＸＹステージ装置を提供する。
【構成】ＸＹ方向に移動するステージと、このステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、このステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、を有することを特徴とするＸＹステージ装置。そして、測長光路筒機構が、レーザー干渉計に固定される固定筒と、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備えることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填する液体を有する装置の描画性能を向上させること。
【解決手段】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法が、投影レンズの最終要素と基板の間の描画領域の少なくとも一部を充填する、液溜め１３の中に閉じ込められた大きな屈折率の液体を利用する。溶解した大気ガスに由来するか又は液体に曝された装置要素からのガス放出に由来する、液体中で発生する気泡が、露光に干渉して基板上の焼き付け欠陥を招かないように検出されかつ除去される。検出は液体中の超音波減衰の周波数依存を測定することによって実行可能であり、気泡除去は、液体の脱気及び加圧を行い、液体を大気から隔離し、低表面張力の液体を使用し、描画領域を通過する連続的な液流を供給し、さらに超音波定常波形の節を移相することによって実施可能である。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間の所定面上を、前記基板を保持して移動するステージと、前記所定面に対して前記ステージを浮上させる浮上装置と、前記浮上装置に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定面上を少なくとも一方向に沿って移動可能な移動体と、移動体の移動により生じた圧力変動を小さくするように加圧空気を噴射する圧力調整装置と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる露光量制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光量制御方法は、マスク上に形成されたパターンの反射像を基板上に露光する際の露光量を制御する方法であって、前記パターンの開口部の初期反射率Ｒ０と、前記マスク使用後の前記パターンの開口部の実測反射率Ｒとを取得する反射率取得工程と、マスク表面状態の変化による反射特性の変化に基づいて決定される比例定数Ａを用いて、
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に基づき露光量補正係数Ｘを算出する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学素子と、該光学素子を保持する保持装置の固有値を高く保ちつつ、光学素子の自重変形を高精度に補償する光学素子の保持装置及び測定装置を提供する。
【解決手段】光学素子Ｒを保持する光学素子の保持装置であって、光学素子Ｒに対して複数の位置で荷重を付加する荷重付加部３を有し、荷重付加部３は、荷重を付加する弾性部材４を備えてなり、光学素子Ｒの任意の位置に単位荷重を加えたとき、該単位荷重に対する光学素子Ｒの変形量を曲げ特性として定義し、該曲げ特性に基づいて、複数の荷重付加部３において弾性部材４の固有値をそれぞれ異なる値に設定する。 （もっと読む）