【課題】リソグラフィ装置の真空チャンバ内にコンポーネントを収容するためのシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内で使用されるコンテナが提供される。コンテナは、複数のガス気泡を含む充填材料で少なくとも部分的に満たされた内部空間に、リソグラフィ装置の少なくとも１つのコンポーネントを収容するように構成される。 （もっと読む）

【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、硫化物や基板表面から発生する昇華物を起因とする汚れの付着を防止する場合に、光源の冷却は確実に行われ、かつ、人体への影響が問題とならないようにする。
【解決手段】空冷される光源１１を備えた光源側ユニット１００と、光源１１からの光を露光対象に導く光学素子を備えた光学系側ユニット２００とを含む露光装置において、窓材１０を介して光源側ユニット１００からの光を透過させる。光学系ユニット２００は略密閉され、その内部の圧力を、外部よりも高めておく。光源側ユニット１００にはノズル１４を設け、窓材１０に不活性ガスを吹き付ける。窓材１０表面に不活性ガスを局所的に連続的に吹き付け、窓材１０の表面雰囲気中の窒素ガスを高濃度に保持することにより、硫化物等の不純物や酸素を減少させ、窓材１０に発生する曇りを飛躍的に低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置内の不要な粒子を効率よく吸着、除去する。
【解決手段】液浸露光装置は、露光処理を行う基板を戴置するステージと、基板の上方に位置する投影レンズと、ステージに戴置された基板と投影レンズとの間に液浸液を供給するシャワーヘッドと、ステージに戴置され、液浸液を洗浄するダミーウェハＷ１と、を有する。ダミーウェハＷ１は、シャワーヘッドが供給した液浸液中に分散した異物を吸着するウェハ１０と、ウェハ１０に形成された複数の凹部１１ａ、１１ｂを含む凹凸パターンＰ１、Ｐ２と、を有する。凹部１１ａ、１１ｂの幅は、異物の大きさよりも大きく形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有し、射出面側に液浸空間が形成される光学部材と、射出面との間に液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体に対して親液性の第１領域を含む上面を有する可動部材とを備える。露光装置は、基板の非露光期間において、第１領域と液浸空間の液体とが接触しない非接液状態が第１時間を経過するとき、射出面と第１領域との間に液浸空間を形成して第１領域と液浸空間の液体とが接触する接液状態に変化させる。 （もっと読む）

【課題】
露光不良を抑制できる監視装置、露光装置、監視方法、及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】
露光装置ＥＸは、マスクステージ１、投影光学系ＰＬ及び基板ステージ２を覆う、内部空間Ｎ１を形成するチャンバ装置Ｃを備える。内部空間Ｎ１に気体を供給する供給装置３には、内部空間Ｎ１に供給される気体を監視する監視装置1Ｋ、2Ｋを備える。内部空間Ｎ１の気体を回収する回収装置４には、内部空間Ｎ１の気体を監視する監視装置3Ｋを備える。 （もっと読む）

【課題】疎液性コーティングを表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】疎液性コーティングを酸化基を有する表面に形成する方法が開示される。この方法は、化学式SiX₄をもつシランまたはシロキサンを前記表面に接触させることを含み、ここでＸのそれぞれは同一または異なるものであり、少なくとも１つのＸは離脱基であり、少なくとも１つのＸは疎液性の基である。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク１８を光軸を回転中心として所定角度に亘り容易に回転できるようにする。
【解決手段】
感光性樹脂を塗布した被露光基板を保持する基板保持部１１と、保持された被露光基板２の表面の高さと略同一となるように、基板保持部１１の周囲に形成された載置棚１２と、中央に孔部が形成されてなるとともに載置棚１２上に端縁が載置され、パターン露光を行うためのフォトマスク１８が上面に載置され、被露光基板に対向させつつその上面側に微小間隔をあけて保持するためのスペーサー１５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第１、第２テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１、第２テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第１状態から、投影光学系と第１、第２テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第１、第２テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第１テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第１テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第１本体と、第１本体に対して移動可能である第２本体と、第１本体、第２本体、およびシールによって第２空間から第１空間が分離されるように第１本体と第２本体の間に配置されるシールであって、第１本体からある距離に位置するシールと、第１本体とシールの間に流体流を作り出し、第１空間と第２空間の間に非接触シールを生成して第１本体と第２本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第１本体と第２本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる洗浄部材を提供する。
【解決手段】洗浄部材は、第１液体と接触する射出面から射出される露光光で第１液体を介して基板を露光する露光装置の、第１液体と接触する接液部材の接触面を射出面から射出される露光光で光洗浄するために用いられる。洗浄部材は、射出面と対向する位置で、射出面から射出される露光光を反射して接触面の少なくとも一部に照射する楕円形の反射面を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光方法を提供する。
【解決手段】この露光方法は、基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して基板上に露光光を照射するとともに、露光光に対して基板を移動することによって、基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法である。基板の移動速度は、複数のショット領域のそれぞれの基板上での位置に応じて決定される。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】浮遊物が露光光照射装置の光学部品に付着するのを防止する。
【解決手段】露光光照射装置３０の光学部品（３２，３３，３４，３６，３７）の表面近くに、光学部品の表面全体に渡って、エアの流れの層を形成する。露光光照射装置の光学部品の表面近くに光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、露光光照射装置の光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の光学部品への付着が防止される。特に、露光光照射装置の光学部品が基板に塗布された感光樹脂材料から発生する昇華物から遮蔽されて、昇華物の光学部品への付着が防止されるので、露光光照射装置の光学部品に新たな処理を施すことなく、昇華物による光学部品の汚れが防止される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光に用いられる光学系およびマスクの反射率低下を防止する半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】レジスト膜が塗布された基板を搬入機構１３内に搬入して基板の周辺雰囲気を大気圧から減圧する減圧工程ＳＴ２と、基板からのアウトガス量に相関する基板温度を測定する温度測定工程ＳＴ３と、基板温度の測定結果に基づいて、基板へのＥＵＶ露光を行うか否かを判定する判定ステップと、を含み、ＥＵＶ露光を行なわないと判定した場合には、基板へのＥＵＶ露光を行なうことなく基板を搬出機構１４外に搬出する。 （もっと読む）

【課題】アライメント誤差又はフォーカス誤差を低減し、目標とするパターン形状、線幅を達成する露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板ステージと、露光室内の空間の雰囲気を空気雰囲気に維持する雰囲気維持部と、前記空間のうち前記投影光学系の最終面と前記基板ステージに保持された基板との間の局所空間に、空気と不活性ガスとの混合ガス及び空気のいずれかを供給するガス供給部と、アライメントマークの位置と前記基板ステージに形成された基準マークの位置とを検出する第１検出器と、制御部と、を備える。前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、転写性を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリント方法を提供する。
【解決手段】基体の表面に被転写層を形成する形成部と、前記被転写層にパターンを転写するインプリント部と、前記形成部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも低い第１の気体を供給する第１の気体供給部と、前記インプリント部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも高い第２の気体を供給する第２の気体供給部と、前記第１の気体の供給と、前記第２の気体の供給と、を制御する制御部と、を備えることを特徴とするインプリントシステムが提供される。 （もっと読む）