【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ投影装置の液浸液内の泡の封入を最小化または防止する流体ハンドリング構造を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の流体ハンドリング構造である。流体ハンドリング構造は、流体ハンドリング構造の外部領域に液浸流体を備えるように構成された空間の境界に、使用時に基板および／またはテーブルの方に向けられる第１ラインに配置される少なくとも一つの開口を備える抽出器と、使用時に基板および／またはテーブルと対向する表面上にあり、表面上の液滴が合体する可能性を低下させる液体マニピュレータと、を連続的に備える。 （もっと読む）

【課題】異物の付着した面が被検物の２面のうちのいずれの面であるかを検出することが可能な異物検査装置を提供する。
【解決手段】異物検査装置は、被検物に検査光を投光する投光部と、検査光が投光されることによって被検物から生じる散乱光の強度を検出する検出器を含む受光部と、制御部とを備える。検出器は、偏光方向が第１の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第１の散乱光の強度と、偏光方向が第２の方向である検査光が投光されることによって被検物から生じる第２の散乱光の強度とを検出する。制御部は、検出器により検出された第１の散乱光の強度および第２の散乱光の強度の比が基準値より大きいか小さいかによって異物が付着した面が第１面および第２面のいずれであるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の洗浄に有利な露光装置の提供。
【解決手段】光源２０と、複数の光学素子１５ａ、１５ｂを収容する真空容器３４、３５とを有する露光装置は、複数の光学素子のうち予め決められた値未満の照度で光が照射されている光学素子に酸素ガスＡ２を供給する酸素ガス供給手段と、記複数の光学素子のうち前記値以上の照度で光が照射されている光学素子に水蒸気Ａ１を供給する水蒸気供給手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】温度制御対象領域の近傍に設ける設備を大型化することなく、効率的に局所的な温度制御を行う。
【解決手段】露光光ＥＬでレチクルＲを介してウエハＷを露光する露光装置において、ウエハＷを移動するウエハステージＷＳＴと、ウエハステージＷＳＴに光ビームＬＢＹを照射して、ウエハステージＷＳＴの位置情報を計測するレーザ干渉計２１ＷＹと、光ビームＬＢＹの光路の第１部分を横切るように温度制御された第１空気ＡＷを供給する第１局所空調装置３２Ｗと、その光路の第１部分に近接した第２部分にほぼ平行に第２空気ＡＴを送風する第２局所空調装置３２Ｔと、を備える。 （もっと読む）

【課題】トリメチルシラノール等のシラノール化合物を効率的に除去可能なケミカルフィルタを提供する。
【解決手段】内部ケミカルフィルタ１５は、三次元網状骨格構造を有するフィルタ基材５０に、無数の吸着剤５１を固着したものである。吸着剤５１は、活性炭等の粉末ないし粒子状の多孔質体の表面に白金、パラジウム等の金属触媒を担持したものである。吸着剤５１は、空気中に含まれるシラノール化合物を、金属触媒で二量化して吸着する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、室温における熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１１００℃以下であり、水素分子濃度が５×１０^１７分子／ｃｍ^３以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１２〜４０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】イメージング中に泡が投影ビームに入ることが防止されるリソグラフィ装置を提供することが望まれる。
【解決手段】液浸リソグラフィ投影装置の流体ハンドリング構造体の下側のプレート１２ａが形成するメニスカス固定デバイスは、同心円リングの複数の開口５０を有し、その複数の開口５０を通じて環境から液体および気体が抽出される。複数の開口５０は中間のサイズを有し、約７５μｍから約１５０μｍの範囲の直径を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光において射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように基板との間に第１液浸空間を形成する液浸部材と、光路に対する放射方向に関して液浸部材の外側に配置され、基板の露光において第１吸引力で気体を吸引し、液浸部材のクリーニングの少なくとも一部において第１吸引力よりも小さい第２吸引力で気体を吸引する吸引口とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。
【解決手段】液浸部材は、物体に照射される露光光の光路が第１液体で満たされるように、物体との間で第１液体を保持して液浸空間を形成する。液浸部材は、物体上の第１液体の少なくとも一部を回収する回収口と、光路に対して回収口の外側に配置され、第１液体に面するときに第２液体を供給し、第１液体に面しないときに第２液体を供給しない供給口と、回収口から回収される第１液体の少なくとも一部が流れる回収流路と、供給口に供給される第２液体の少なくとも一部が流れる供給流路と、回収流路の少なくとも一部と供給流路とを結ぶ接続流路とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出可能な射出面を有する光学部材と、射出面に対向する第１面上又は第２面上に形成される液浸空間の液体の界面の周囲の少なくとも一部に第１流量で気体を供給し、第１面と第２面との境界上に形成される液浸空間の液体の界面の周囲の少なくとも一部に第１流量よりも少ない第２流量で気体を供給する給気口と、を備え、射出面と基板との間に形成される液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することを防止する。
【解決手段】液体１を介して露光される基板Ｐを保持して移動するステージ装置であって、前記基板Ｐを支持する複数の支持部３４と、前記複数の支持部３４の周囲に設けられ、該複数の支持部３４が支持する前記基板Ｐの側面との間にギャップを形成する周囲部材３０と、を備え、前記周囲部材３０は、該周囲部材の側面部に開口する流路６２と、前記ギャップから前記流路６２に向かって傾斜する傾斜面５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸液中の洗浄液の濃度を確実に規定値以下とすることが可能な液浸露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、露光対象膜を有する半導体基板を載置し、退避可能な基板ステージ１７、投影光学１４系下端部と露光対象膜との間に液浸液を満たすように供給する液浸液供給部３２及び液浸液を排出する液浸液排出部３６と液浸液排出管３７、基板ステージ１７を置き換えて、投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、供給口から排出口へ流れる洗浄液２５または液浸液を保持し、退避可能な洗浄ステージ１５、洗浄ステージ１５中に、液浸液と接した接触領域を含むように洗浄液２５を供給する洗浄液供給部２１及び洗浄液を排出する洗浄液排出管２８、並びに、液浸液排出管３７に配設され、液浸液中の洗浄液２５の濃度を測定する濃度測定器３０を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、投影光学系（ＰＬ）の像面側に液体（ＬＱ）の液浸領域（ＡＲ２）を形成し、投影光学系（ＰＬ）と液浸領域（ＡＲ２）の液体（ＬＱ）とを介して基板（Ｐ）を露光するものであって、液浸領域（ＡＲ２）を形成するための液体（ＬＱ）の性質及び成分のうち少なくともいずれか一方を計測する計測装置（６０）を備えている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、硫化物や基板表面から発生する昇華物を起因とする汚れの付着を防止する場合に、光源の冷却は確実に行われ、かつ、人体への影響が問題とならないようにする。
【解決手段】空冷される光源１１を備えた光源側ユニット１００と、光源１１からの光を露光対象に導く光学素子を備えた光学系側ユニット２００とを含む露光装置において、窓材１０を介して光源側ユニット１００からの光を透過させる。光学系ユニット２００は略密閉され、その内部の圧力を、外部よりも高めておく。光源側ユニット１００にはノズル１４を設け、窓材１０に不活性ガスを吹き付ける。窓材１０表面に不活性ガスを局所的に連続的に吹き付け、窓材１０の表面雰囲気中の窒素ガスを高濃度に保持することにより、硫化物等の不純物や酸素を減少させ、窓材１０に発生する曇りを飛躍的に低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】コンタミナントがリソグラフィ装置の投影系に侵入するのを防ぐ効果を改善する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、パターン形成された放射ビームを基板上に投影するよう構成された投影系を備える。投影系は、パターン形成された放射ビームが通過可能な開口部を備える。開口部の少なくとも一部は、投影系の壁の傾斜面と、投影系のミラーの傾斜面とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を露光する工程において生産性の低下を招くことなくバブル欠陥の発生を防ぐ。
【解決手段】レジスト膜４ａを露光する工程では、液膜１７の中央を中心とした直径が異なる２種類の内側エアナイフ８及び外側エアナイフ９における、露光光の走査方向に対する前方側半周部分と後方側半周部分の一方側を用いて、レジスト膜４ａの上に液膜１７を保持しながら、露光光の走査方向に対する前方側半周部分に生じさせる内側エアナイフ８の直径を、後方側半周部分に生じさせる外側エアナイフ９の直径よりも小さくした状態で露光を行う。 （もっと読む）