【課題】絶縁崩壊が減少または除去される、低圧で高電圧電気接続を行うために適した電気コネクタを備えるリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置が開示される。リソグラフィ装置は、電源と電気コネクタとを含む。電気コネクタは、電源をリソグラフィ装置の別の構成要素に電気的に接続する。電気コネクタは、順番に、第１導電層３７と、第１可撓性絶縁層３６と、電流を運ぶように構成された導体３３と、第２可撓性絶縁層３６と、第２導電層３７とを含む積層物を含む。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、第１液体を供給する第１供給口と、基板の露光時に、第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、露光光の光路に対して第１回収口の外側に配置された第２回収口とを備えている。露光装置は、所定部材のクリーニング時に、第１供給口から第１液体を供給し、第１回収口から第２液体を供給し、第２回収口から第１液体及び第２液体の少なくとも一方を回収する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、且つ、光学系の光軸とほぼ平行な所定方向に関して、第１面より露光光が進行する第１方向側に配置された第２面と、第２面の周囲の少なくとも一部に、且つ、所定方向に関して第２面より第１方向とは逆向きの第２方向側に配置された第３面と、第３面で規定される空間に存在する液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備える。基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】ハンドリング構造体によって空間に供給される液浸液の、流体ハンドリング構造体内にある間の温度変化を低減させ、これにより、空間内での液体の温度変動に起因する屈折率の変化および結像エラーを軽減することができる流体ハンドリング構造体を提供する。
【解決手段】投影システムと流体ハンドリング構造体に面する接面との間に画定された空間に、液浸液を供給して閉じ込めるように構成された、流体ハンドリング構造体が開示される。流体ハンドリング構造体は、流体ハンドリング構造体内に形成された、流体ハンドリング構造体の外側から空間に流体を通過させるための供給通路と、供給通路内の流体を流体ハンドリング構造体内に誘発される熱負荷から絶縁するために、供給通路に少なくとも部分的に隣接して配置された断熱器とを含む。 （もっと読む）

【課題】
投影光学系内の環境条件の変化に起因する投影光学系の結像特性の変化を精度良く補正する。
【解決手段】
露光方法は、照明光学系の開口数及び有効光源、投影光学系の開口数、並びに、マスクのパターンの寸法及びピッチから選択された少なくとも一つのパラメータと、前記投影光学系内の環境条件の変化量とに基づいて、前記投影光学系の結像特性の変化を補正する補正部の補正量を算出する算出工程と、前記算出工程で算出された補正量に従って前記補正部を動作させる補正工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸＳは、投影光学系ＰＬの像面側に液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものであって、液浸領域ＡＲ２を形成するための液体ＬＱに接触する基板ステージＰＳＴの上面３１などに対して、光洗浄効果を有する所定の照射光Ｌｕを照射する光洗浄装置８０を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光精度の低下を抑制する露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、所定状態に設定された気体を収容する第１空間と、前記第１空間内を移動可能に配置された移動体と、前記第１空間に接続され、前記移動体の移動に応じて前記第１空間内との間で前記気体の移動が可能に設けられた第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に流入する前記気体を前記所定状態となるように調整する調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、所定部材と、所定部材の表面にクリーニング用の第２液体を供給可能な供給口と、所定部材の表面から第２液体を回収する回収口と、供給口からの第２液体の非供給時に、供給口と対向する位置に配置されるシャッタ部材とを備え、供給口と回収口とは異なる。 （もっと読む）

【課題】装置全体のスループットを維持しつつ、マスクに設けられたペリクルが破損することを抑制することができるマスク搬送装置、露光装置、マスク搬送方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】圧力が調整可能なロードロック室２１内に、所定のパターンが形成されたパターン面を有するレチクルを搬送するレチクル搬送装置１２であって、ロードロック室２１内を減圧する真空ポンプ２４と、パターン面を保護するペリクルがレチクルに設けられているか否かを判別し、レチクルにペリクルが設けられていないと判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度で減圧し、レチクルにペリクルが設けられていると判別される場合には、ロードロック室２１内を第１の速度よりも遅い第２の速度で減圧するように真空ポンプ２４を制御する制御部４１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に用いられる、液体と接触する部材の洗浄方法および該部材の洗浄に用いる洗浄液を提供する。
【解決手段】洗浄方法は、液浸液体と接する部材をアルカリ溶液で洗浄し、次いで、バッファードフッ酸および過酸化水素を含む溶液で洗浄することを含む。 （もっと読む）

【課題】 統一した基準でかつ1番目のショットからモールドによる成形の良否を判定できるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド10によって成形された樹脂を撮像する撮像部40と、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、前記撮像部による撮像に先立って予め設定された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する判定部である制御部100と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は同面板の交換頻度を減らすことで、スループットの向上を図ることが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 基板２０と前記基板に対向する光学部材３との間を液体で満たした状態で前記液体１０を介して露光光ＥＬを照射して原版２のパターンを前記基板２０へ投影する液浸露光装置において、前記基板２０を保持して移動する基板ステージ２３と、前記基板２０を囲む撥液性の同面板２１と、前記同面板２１を回転させる回転機構１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液体を除去するためのオーバーフロー構造を有するノズル部材において、液体の蒸発に起因して発生する気化熱による温度低下の影響を抑え、転写精度の良い露光装置を提供する。
【解決手段】原版を照明する照明光学系と、原版のパターンを基板５に投影する投影光学系と、更に、投影光学系の最終光学素子２４の周囲に配置され、最終光学素子２４と基板５との間隙に液体ｆを供給するための液体供給部３１、間隙から液体ｆを回収するための液体回収部２６、３２、及び、間隙から液体ｆを溢れさせるためのオーバーフロー部３３を備えたノズル部材２０とを有し、間隙に液体ｆを満たして基板５を露光する露光装置１であって、ノズル部材２０は、オーバーフロー部３３から溢れた液体ｆを受け止める環状流路３９と、該環状流路３９から半径方向外側に向かって液体ｆを導く流路３４とを有し、流路３４は、オーバーフロー部３３から離間した位置に、少なくとも１つの液体吸引口３６を連設する。 （もっと読む）

【課題】
例えば、基板の搬入・搬出に伴う気圧の変化を低減することを目的とする。
【解決手段】
チャンバ（１０）を有し、前記チャンバ（１０）内で基板（３０）を露光する露光装置であって、前記チャンバ（１０）内の気圧を調節する調節手段と、前記チャンバに設けられて前記基板（３０）が出入する開口部（１）を開閉する開閉手段（２）と、を有し、前記調節手段は、前記チャンバ（１０）からの気体の流出量を前記開閉に応じて調節する、ことを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】光学系に悪影響を与えることなく、その光学系の近傍の雰囲気中の汚染物質を排除可能な光学装置を提供する。
【解決手段】照明光で投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光装置において、投影光学系ＰＬのウエハ側の光学素子Ｌ１１とウエハＷとの間に設けられ、光学素子Ｌ１１とウエハＷとの間の照明光ＩＬＥの光路の一部を囲む環状部材４０と、照明光ＩＬＥの光路から外側に向かう方向に気体を吹き出すように環状部材４０に設けられた複数の送風口４０ｅと、送風口４０ｅから気体を吹き出させ、その気体の吹き出しに伴って、環状部材４０の内部に負圧を生じさせる送風装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の空気を恒温チャンバ内に導入する導入口近傍の温度変動を抑制すると共に、導入空気の不純物濃度を制御することにより、露光装置に送り込む空気の均一化を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる露光装置は、露光系本体と、この露光系本体を内部に設置し、露光系の設置環境を所定の雰囲気に保持する恒温チャンバと、クリーンルーム内の空気を前記恒温チャンバ内に導入する外気導入手段とを備えた露光装置であって、前記外気導入手段は、複数の導入口が開口され、各導入口の開口面積を可変自在に変更する機構により、外気導入量を調整する外気導入量調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用の液体が基板の下に比較的深く侵入すること防止する方法を提供する。
【解決手段】基板の下に液体が浸入することを防止するために役立つ方法が開示されており、その方法は、基板端部にバッファを形成するため基板端部の下に気体を導入するステップと、基板の上面と端部とに存在している液浸露光用の液体を基板の下面から離れた状態に保持するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１液体を供給する第１供給口と、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され露光光の光路が第１液体で満たされるように第１液体の液浸空間を形成する液浸部材と、液浸部材の下面をクリーニングする第２液体を供給可能な第２供給口を有し下面の下方に配置された第２供給口から下面に第２液体を供給して下面の少なくとも一部をクリーニングするクリーニング部材とを備える。基板の露光の少なくとも一部において、液浸部材及びクリーニング部材の下方で基板が移動され、基板の露光の少なくとも一部において、液浸空間は、射出面と基板の表面との間及び下面の少なくとも一部と基板の表面との間に形成される。露光装置は、射出面と基板の表面との間の第１液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】冷却される部品が光学要素である光学要素を冷却する冷却システムを改良する。
【解決手段】 本発明は、パターンをパターニングデバイスから基板に転写するように配置構成されたリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置の部品を冷却し、小滴を形成して小滴をリソグラフィ装置の部品の冷却表面に向かって発射し、小滴の蒸発によって部品を冷却する小滴エジェクタを含む冷却システムを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】配管の柔軟性を維持しつつ、チャンバ内の真空度を信頼性よく確保することができる配管、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】冷媒が内部を流動する第１配管３４と、該第１配管３４の外周面に対して内周面が所定間隔離れた状態で前記第１配管３４の外側を覆う第２配管３５と、前記第１配管３４の外周面と前記第２配管３５の内周面との間に充填される液体状の水銀と、を備えた。 （もっと読む）