【課題】撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】パターン特徴の画像が走査型電子顕微鏡法により取得される（７００）。画像内のパターン化層に対するパターン特徴の位置を使用してパターン化層の位置が決定される（７０４）。他のパターン特徴またはパターン化層に関するパターン化層の相対的位置が、決定されたパターン位置に基づいてベクトル形式で決定される（７０８）。相対的位置とデザインまたはシミュレーションからの基準値との比較に基づいてオーバレイ・エラーが決定される。オーバレイはパターン対称性を利用して高い精度および正確さで測定することができる（７１２）。 （もっと読む）

【課題】対向配置された対象物同士の相対的な傾きをを高精度にかつ容易に調整することができる傾き調整の技術を提供することを目的とする。
【解決手段】基板５５には第１検出部である電極が形成され、基板５６には第２検出部である電極が基板５５の電極と対を構成する位置に形成されている。そして、基板５５および基板５６をステージ部１５の保持部２９およびヘッド部３９の保持部４４にそれぞれ保持し、基板５５および基板５６の電極の対の間の静電容量を検出部５０により検出する。そして、検出された静電容量が所定の値になるように、Ｘ−Ｙテーブル制御部５２によってＸ−Ｙステージ機構１１を移動させ、基板５５および基板５６の相対的な傾きを調整する。 （もっと読む）

【課題】シュリンク処理によるパターンの変形量を高精度で効率よく評価して、シュリンク処理の条件評価を行うこと。
【解決手段】本発明は、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とが所定の間隔で配置された評価用パターンＰを複数備えており、各評価用パターンＰとして、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２との特定方向に沿った間隔が異なるよう設けられている露光用マスクである。また、この露光用マスクを用いて感光材料を露光、現像する工程と、感光材料の現像後の評価用パターンにおける第１のパターンと第２のパターンとの相対位置を計測して第１の計測結果を得る工程と、感光材料にシュリンク処理を施す工程と、シュリンク処理後の感光材料の評価用パターンにおける第１のパターンと第２のパターンとの相対位置を計測して第２の計測結果を得る工程と、第１の計測結果と第２の計測結果との差を得る工程とを有するプロセス評価方法である。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ダブルパターニングによって形成される第１パターンと第２パターン間のずれ、重なり領域の評価を適正に行い得る方法，装置の提供にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、第１パターンに関する情報と、ダブルパターニングの第２の露光によって形成される第２パターンの設計情報とを結合した結合情報と、第１パターンと第２パターンが表示された画像との間で、２段階のマッチングを行い、第２のパターンの設計情報の移動量に基づいて、第１パターンと第２パターンとの間のずれ量を求める方法、及び装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において、基部と浮上部との接触を防止あるいは最小限に止めることができる技術を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、ステージを主走査方向に移動させるための静圧軸受ガイド５１を有する。静圧軸受ガイド５１には、スライダ６２とレール６１との間隔の変動を計測するレーザ変位計６２１、あるいは、スライダ６２とレール６１とが接触したときに発生する振動を検出する振動センサが設けられている。パターン描画装置１の制御部は、レーザ変位計６２１あるいは振動センサから出力される信号を受信し、スライダ６２とレール６１との間隔が許容値未満になった、あるいは、スライダ６２とレール６１とが接触したと判断すると、駆動部の動作を非常停止させる。これにより、スライダ６２とレール６１との接触を防止あるいは最小限に止めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、露光マスクをマスクホルダに取り付けた状態で上下左右のマスクホルダ部に装備されたモータ駆動の調整機構によってモータあるいはネジ等を回転させることにより、露光マスクの平面度を自由に調整することができ、露光マスクと露光ステージ上の基板との隙間精度が向上するとともに、マスクホルダの調整作業も短時間で終了することができる。
【解決手段】本発明の露光装置は、露光マスクの複数の辺を固定するマスクホルダと、マスクホルダを複数の辺毎に移動させる調整機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティー露光方式における自重によるフォトマスクの撓みを、前記フォトマスクの対抗する長辺の縁部を上方から補正バーにより接圧することで、補正する方法においては、ワークステージのうねり及びフォトマスク短辺中央部に過重を加えられないため、フォトマスクとワークの平行性が十分達成できるないという問題がある。
【解決手段】撓み補正バー１３は、フォトマスクに接圧可能な複数に分割された分割補正バー１２及び前記分割補正バーを個別に可動固定するための調節ネジ１４を備える。また、前記補正バー１３は、前記調整ネジ１４の先端部周辺にロードセル１５を具備し、前記調整ネジが差動ネジであることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】基板への外乱力の重大な伝達を伴うことなく、投影システムと基板の間の空間に液浸液を提供する。
【解決手段】基板Ｗと投影システムの間の空間に液浸液５を提供するようになされた液体供給システムであって、上記空間の境界の少なくとも一部に沿って展開し、且つ、基板テーブル上の対象に対して正しい位置に置かれた障壁部材１０を備え、それにより障壁部材１０と基板Ｗの間の液浸液によって生成されるあらゆる毛管圧が、上記空間に液浸液を拘束するほど高くなることのない液体供給システムとを備える。液浸液５が空間及び障壁部材１０と基板Ｗの間から流出することができるよう、障壁部材１０は密閉されない。 （もっと読む）

【課題】グリッド誤差データの管理を高効率化する。
【解決手段】マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちの特定の露光装置である特定号機（号機Ａ）を基準として、該特定号機以外の露光装置である一般号機（号機Ｂ〜Ｆ）のそれぞれに係るグリッド誤差に関する誤差データを管理し、前記誤差データに基づいて、前記複数の露光装置のうちのグリッドマッチングさせるべき任意の二つの露光装置間の相対誤差を算出して、対応する露光装置に出力する。 （もっと読む）

透過性光学素子は、マグネシウムスピネルＭｇＡｌ_２Ｏ_４またはルテチウム-アルミニウムガーネットＬｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２の晶子を含む多結晶材料からなり、多結晶材料は、５０ｐｐｍ未満、好ましくは２０ｐｐｍ未満、より好ましくは１５ｐｐｍ未満のＹ、Ｓｃ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｍｏ、ＳｎおよびＮｂによる異種元素不純物の平均総濃度を有する。
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【課題】ベストフォーカス付近において適切なフォーカス計測を行うこと。
【解決手段】計測装置は、投影露光装置のフォーカス位置に対してエッジ間隔が極値を持つ検査マークが形成された基板を計測するための計測装置であって、前記検査マークのエッジ間隔が異なるフォーカス位置で極値を持つように計測条件を変更し、各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報を取得する取得手段と、前記各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報に基づいて、デフォーカス量を算出する算出手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】近接露光においてウエハとマスクとの相対位置関係を変化させる移動装置であって、ウエハとマスクとの接触事故を防止することができる移動装置を提供する。
【解決手段】移動装置は、近接露光で転写すべきパタンが形成されたマスク面を有するマスクを保持するマスク保持機構２３と、マスクを介して露光される露光面を有するウエハを保持するウエハ保持機構１２と、マスクに対するウエハの相対位置が移動するように、マスク保持機構及びウエハ保持機構の少なくとも一方を移動させる移動機構１１と、マスク及びウエハの一方に対する相対位置が固定された磁石と、マスク及びウエハの他方に対する相対位置が固定された磁気センサ１７と、磁気センサの出力に対応する信号が入力され、該出力が許容範囲内にあるかどうかを判定する制御装置１００とを有する。 （もっと読む）

【課題】容易且つ確実に１回の露光で合焦位置、即ちベストフォーカス位置を精度良く求めることができ、極めて短時間で高精度の焦点計測を可能として、信頼性の高いパターニングを迅速に行う。
【解決手段】試験用フォトマスク１１は、第１のマスクパターン２１と、第１のマスクパターン２１の中心部位に設けられた第２のマスクパターン２２とが形成されている。第１のマスクパターン２１は、集光作用を有し、被転写体に対する露光照射量が焦点変動に依存して変化する性質を有するパターンであり、ここでは２次元のフレネル輪帯パターンとされている。 （もっと読む）

【課題】基準面スタンドオフと測定面スタンドオフとの差を感知するためのバキューム駆動ガスゲージ近接センサが開示されている。
【解決手段】バキューム駆動ガスゲージ近接センサは、バキュームを用いて、近接センサを通るガスフローを反転させ、ガスが測定スタンドオフおよび基準スタンドオフをわたって測定ノズルおよび基準ノズルを介して内部に流入するようにする。基準ノズルおよび測定ノズルに吸引された調整済み周囲ガスは、基準チャネルと測定チャネルを通って流れ、当該基準チャネルと測定チャネルは接合点にて１本のチャネルに連結される。この１本のチャネルは、近接センサを通して調整済み周囲ガスを排気するために使われるバキュームに連結されている。ブリッジチャネルが、基準チャネルと測定チャネルとを連結する。ブリッジチャネルに沿ったマスフローセンサが流量をモニターし、制御動作を開始するために用いられる測定スタンドオフを検出する。 （もっと読む）

可動物体に対する距離計測値を与えるための干渉計測装置を提供する。温度の変動に起因する空気乱流は、空気の屈折率を変化させるので干渉計測にノイズを誘起する。この温度誘起ノイズを補償するために補償値が生成される。この目的のために、計測装置は、可動物体と基準物体の間で音波パルスを伝送し、伝送されたパルスを受信して飛行時間値を出力する音響システムを含む。各々の飛行時間値に関連する経路長が、複数の補間された干渉距離計測値に基づいて推定される。補償システムは、少なくとも１つの飛行時間値とそれに関連する複数の干渉距離計測値とから導出された補償値を生成する。
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【課題】 電磁アクチュエータを用いて高速、高精度、高効率かつ低発熱でステージ制御又は除振制御を可能とし、高い生産性と超微細化露光を実現する露光装置を提供すること。
【解決手段】 駆動装置は、第１のコイル７２と第１のコイル７２により発生する磁束変化を検出する第２のコイル７４とを有する電磁アクチュエータ７０と、電磁アクチュエータ７０をフィードバック制御する電磁アクチュエータ制御部２０と、を備える。電磁アクチュエータ制御部２０は、第１のコイル７２に変調信号を与える変調部２８と、第２のコイル７４からの出力信号を復調する復調部５２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】エアゲージが常に有利な離隔距離で作動し、そのパフォーマンス及び有益な測定範囲を最大にするように、測定を行える方法及びシステムを提供すること。
【解決手段】対象の表面までの距離を検知するように構成されたエアゲージと、エアゲージの相対位置、及び対象の表面の相対位置を含むグループのうち少なくとも１つを測定するように構成されたセンサとを有しており、エアゲージ及びセンサの各出力側は、結合されたエアゲージリーディングを形成するように結合されている。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ノズルからの気体流に対する気体交差流の影響を低減する装置に関する。当該装置は、ノズルに付設されたシュラウドを備える。プレナムはシュラウドの内部に設けられており、シュラウドガスを保持する。当該シュラウドガスは、１つ以上の取り入れ口を通じてプレナムへと供給される。シュラウドガスは、例えば穴部またはスロットなど、シュラウドの下部面に沿って設けられた一連の開口を通じてノズルから離れる方向へと放出される。放出されるシュラウドガスは、気体交差流がノズルからの気体の流れに影響を与えるのを抑制するためノズルの周囲にエアカーテンを形成する。１つの実施例として、本発明はリソグラフィのガスゲージ近接センサに用いられる。また当該装置は、例えば液浸リソグラフィの近接センサなどの、液体を放出するノズルにも使用できる。 （もっと読む）

【課題】 マスクの保持力を向上させることで、露光後に基板をマスクから離す速度を速くしてもマスクがずれるのを防止し、これにより、スループットの向上を図る。
【解決手段】 マスクＭを真空吸着する真空吸着枠２６の枠内に透明板ガラス４０を固定配置し、この透明板ガラス４０とマスクＭとの間の空気を真空吸引することにより、真空吸着枠２６及び透明板ガラス４０によってマスクＭを真空吸着する。 （もっと読む）

【課題】マスクパターンよりも微細なパターニングができる露光方法を提供すること。
【解決手段】パターン開口部２００ｃが形成されたクロム膜２００ｂを有するフォトマスク２００とフォトレジスト１００ｂとを、液体３００を介して近接させた状態で、上記フォトマスク２００に第１の光Ｌ１を照射して、上記クロム膜２００ｂのパターン開口部２００ｃの縁部２００ｄに近接場光Ｌｋを発生させ、この近接場光Ｌｋで、上記フォトレジスト１００ｂにおいて上記パターン開口部２００ｃの縁部２００ｄに対応する領域を露光する。 （もっと読む）