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Fターム[5F049MA03]の内容

受光素子−フォトダイオード・Tr (21,418) | 素子の種類 (2,342) | フォトダイオード(PD) (2,089) | PN接合型 (901) | PNヘテロ接合型 (134)

Fターム[5F049MA03]に分類される特許

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【課題】十分な感度と耐熱性が得られ、高速応答性を示す光電変換素子及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】一対の電極と、前記一対の電極に挟持された光電変換層を有する光電変換素子であって、該光電変換層が少なくとも1つの有機材料を含み、
該一対の電極の一方の電極と、該光電変換層との間に少なくとも1層の電子ブロッキング層を備え、該電子ブロッキング層の少なくとも1層が、フラーレン又はフラーレン誘導体を含む混合層である光電変換素子。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子に適用した場合に光電変換素子として機能し、高光電変換効率、低暗電流性、高速応答性を示し、かつ蒸着時に分解が起こらない化合物を提供すること。
【解決手段】紫外可視吸収スペクトルにおいて400nm以上720nm未満に吸収極大を有し、その吸収極大波長のモル吸光係数が10000mol-1・l・cm-1以上で、融点と蒸着温度の差(融点−蒸着温度)の差が31℃以上である特定構造の化合物。 (もっと読む)


【課題】オン抵抗が比較的低く大電流にも対応可能という特性を持ちながら、光照射強度に応じて電流を変化させることができる半導体素子および半導体デバイスを提供する。
【解決手段】電子走行層14における電子供給層15との界面には動作時にチャネルとなる2次元電子ガス領域16が形成される。2次元電子ガス領域16におけるドレイン電極11とソース電極12との間の一部には、空乏化部18により空乏化された空乏領域17が形成されている。半導体素子1は、空乏領域17に光を照射しない状態で、2次元電子ガス領域16の空乏領域17が空乏化しているため、ドレイン電極11・ソース電極12間が非導通となる。一方、半導体素子1は、電子走行層14のバンドギャップよりも大きなエネルギを持つ光を空乏領域17に受けた状態で、空乏領域17に電子20と正孔とが生成されることでドレイン電極11・ソース電極12間が導通する。 (もっと読む)


【課題】高い曲線因子を提供しうるフラーレン誘導体を含有する有機光電変換素子、太陽電池及び光センサアレイを提供する。
【解決手段】対極と透明電極の間に、少なくとも下記一般式(1)で表される化合物を含有する有機層を有することを特徴とする有機光電変換素子。(式中、FLNはフラーレンを表す。Aは芳香族環を形成するに必要な原子群を表す。Rは水素原子または置換基を表す。)
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【課題】短絡電流密度と曲線因子の両立が可能な、光電変換効率の高い有機光電変換素子、この有機光電変換素子を用いた太陽電池及び光アレイセンサを提供することにある。
【解決手段】透明電極、対電極、及びp型半導体材料とn型半導体材料が混合されたバルクヘテロジャンクション層を有する有機光電変換素子において、前記バルクヘテロジャンクション層のn型有機半導体材料が、結晶性のフラーレン誘導体と、非晶性のフラーレン誘導体とを、1:99〜99:1の比率で混合した組成物であることを特徴とする有機光電変換素子。 (もっと読む)


【課題】高感度かつ広ダイナミックレンジを実現することのできる固体撮像素子を提供する。
【解決手段】基板101上方に形成された光電変換層と、光電変換層で発生した正孔に応じた信号を読み出す読出し回路116とを有する。読出し回路116は、光電変換層と電気的に接続されたフローティングディフュージョンFDと、FDの電位をリセット電位にリセットするリセットトランジスタ204と、FDの電位に応じた信号を出力する出力トランジスタ205とを含む。トランジスタ204,205はnMOS型である。全ての電位の基準となる電位をGNDとし、MOSトランジスタ回路の電源電圧をVddとし、リセット電位をVsとし、リセットトランジスタ204がオン状態でのFD電位とリセットトランジスタ204がオン状態からオフ状態になった直後のFD電位との差をΔV2としたとき、GND<Vs<GND+ΔV2+(Vdd/5)の関係が成り立つ。 (もっと読む)


【課題】応答歪を低減し、かつ受光感度の低下を抑えることができる半導体受光素子を得る。
【解決手段】n型InP基板10上に、n型の光吸収再結合層12、n型の多層反射膜14、光吸収層16、及び窓層18が順に積載されている。窓層18の一部にp型ドーピング領域20が形成されている。p型ドーピング領域20にp側電極22が接続されている。n型InP基板10の下面にn側電極26が接続されている。窓層18のバンドギャップエネルギーは、光吸収層16のバンドギャップエネルギーよりも大きい。光吸収再結合層12のバンドギャップエネルギーは、n型InP基板10のバンドギャップエネルギーよりも小さい。 (もっと読む)


【課題】戻り光不良を防ぐことができる半導体受光素子を得る。
【解決手段】n型InP基板32は、互いに対向する表面と裏面を有する。n型InP基板32の表面上にn型InGaAs層34が設けられている。このn型InGaAs層34は、n型InP基板32のバンドギャップよりも小さいバンドギャップを持つ。n型InGaAs層34上にn型InP層36が設けられている。n型InP層36の一部にp型領域40が設けられている。n型InP層36にカソード電極42が接続され、p型領域40にアノード電極44が接続されている。n型InP基板32の裏面上に低反射膜46が設けられている。n型InP基板32の裏面が入射光の受光面である。n型InP基板32の裏面には、低反射膜46よりも入射光に対する反射率が高い物質又は構造が設けられていない。 (もっと読む)


【課題】光電変換効率が高い光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子は、陽極と、陰極と、該陽極と該陰極との間に設けられる有機活性層とを有し、有機活性層中に電子供与性化合物と電子受容性化合物とを有し、透過型電子顕微鏡で観察した有機活性層の画像であって明暗を2値化した有機活性層の画像において、電子供与性化合物と電子受容性化合物との接合長さが、有機活性層の画像1μmあたり、100μm以上である。 (もっと読む)


【課題】暗電流の増大、歩留まりの悪化、素子性能のばらつきを改善した光電変換素子を提供する。
【解決手段】
基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が150nm以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が5nm以上10nm以下とした。 (もっと読む)


【課題】白傷欠陥の発生を確実に抑制することができる撮像素子を提供する。
【解決手段】基板上方に二次元状に配列された複数の下部電極と、複数の下部電極の上方に、各下部電極と対向して配置された上部電極と、複数の下部電極と上部電極との間に配置された有機光電変換層と、上部電極の上方に配置され、該上部電極を覆う封止膜と、を備え、下部電極の端部側面と、該下部電極を支持する下方の層の表面とのなす角度が45度以上であり、且つ、封止膜が複数の層で構成され、該封止膜全体の膜応力が−200MPa〜250MPaである。 (もっと読む)


【課題】波長600nm以上の赤色領域の吸光度を制御することができる光電変換素子、及び該光電変換素子を用いて色再現性が向上した撮像素子を提供すること。
【解決手段】一対の電極と、前記一対の電極間に配置された光電変換層とを含む光電変換素子であって、前記光電変換層がp型半導体化合物と二種類以上の異なる無置換フラーレンを含む光電変換素子。該光電変換素子を含む撮像素子。 (もっと読む)


【課題】有機光電変換層を備える光電変換素子で、光照射による感度劣化を抑制する。
【解決手段】基板101上に第1電極層104と有機材料を含む光電変換層15と第2電極層108とが積層されてなる光電変換素子100であって、光電変換層15がP型有機半導体とN型有機半導体のバルクへテロ構造体を備え、該P型有機半導体のイオン化ポテンシャルと前記バルクへテロ構造体の見かけのイオン化ポテンシャルとの差が0.50eV以下とする。これにより、光照射による感度劣化を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】十分な感度と耐熱性が得られ、高速応答性を示す光電変換素子及び固体撮像素子に適した光電変換素子材料として有用な新規化合物の中間体を提供する。
【解決手段】下記一般式(V)で表される化合物。


(式中、R、R、R、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表す。RとR、RとR、RとR、RとRは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
好ましくは、R21及びR22の少なくとも一方が、置換又は無置換のアリール基であって、単結合又は置換基を介してR又はRと連結して環を形成する基。R21及びR22の一方が前記環を形成する基の場合、他方は置換又は無置換のアリール基又はヘテロアリール基である。 (もっと読む)


【課題】光電流及び素子抵抗をともに大きくできるようにすること。
【解決手段】本発明の赤外線センサ100は、第1の光吸収層103及び第2の光吸収層106によって吸収された赤外線を光電流に変換するPNダイオードをトンネル接合によって直列接合させた構造である。半導体基板101上に設けられた第1のn型化合物半導体層102と、その上に設けられた第1の光吸収層103と、その上に設けられた第1のp型ワイドバンドギャップ層104と、その上に設けられた第2のn型化合物半導体層105と、その上に設けられた第2の光吸収層106と、その上に設けられた第2のp型ワイドバンドギャップ層107と、その上に設けられたp型キャップ層108と、第1のn型化合物半導体層102上及びp型キャップ層108上に電極110,109を備えている。 (もっと読む)


【課題】光電変換効率を向上させることが可能な有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】電極21、電極21に対向する電極22、及び電極21と電極22の間に設けられた有機材料を含む光電変換層23を有し、電極21及び電極22間に電界を加えた状態において光電変換層23で発生した電荷を電極21及び電極22で捕集して、電極21で捕集された電荷又は電極22で捕集された電荷に応じた信号を取り出す有機光電変換素子であって、光電変換層23が、それぞれフェルミ準位の異なる層23a,23bを含み、層23a,23bの各々が、p型材料とn型材料の混合層であり、層23a,23bうち、電極21及び電極22のうちの正孔を捕集する電極に近い位置にある一方の層のフェルミ準位をF1とし、他方の層のフェルミ準位をF2としたとき、(F1)≧(F2)となっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い感度を有し、撮像画像に滲みが発生するのを抑制することが可能な撮像素子を提供する。
【解決手段】複数の光電変換素子Pと、複数の光電変換素子Pの各々で発生した電荷に応じた信号を読み出す読み出し部3とを有する撮像素子であって、光電変換素子Pが、前記電荷を捕集する画素電極6と、画素電極6と対向する対向電極10と、画素電極6及び対向電極10の間に設けられ、入射光に応じて前記電荷を発生する光電変換層9と、画素電極6と光電変換層9との間に設けられた電子ブロッキング層7とを含み、画素電極6同士の間隔が250nm以下であり、電子ブロッキング層7の各々の画素電極6側の面から対向電極10側の面までの表面電位の変化量が−1eV以上、3eV以下となっている撮像素子。 (もっと読む)


【課題】暗電流を低減することが可能な有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】画素電極6、画素電極6に対向する対向電極10、及び画素電極6と対向電極10の間に設けられた有機材料を含む光電変換層9を有する有機光電変換素子Pであって、光電変換層9の電子スピン数が1.0×1015/cm以下となっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温熱処理後における性能劣化を防止し、かつ、高い性能を得ることのできる光電変換素子を提供する。
【解決手段】一対の電極(画素電極6、対向電極10)と、画素電極6及び対向電極10の間に設けられた有機化合物を含む光電変換層9と、光電変換層9と画素電極6との間に設けられた電荷ブロッキング層7とを有する有機光電変換素子Pであって、光電変換層9と電荷ブロッキング層7との間に設けられ、ガラス転移温度が200℃以上の有機化合物で構成された中間層8を備える。 (もっと読む)



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