説明

Fターム[5F058AD09]の内容

絶縁膜の形成 (41,121) | 有機積層絶縁膜の構造、材料 (1,322) | 少なくとも一層がその他の有機物層 (284)

Fターム[5F058AD09]に分類される特許

281 - 284 / 284


本発明は、有機半導体、特に誘電層を有する有機電界効果トランジスタ(OFET)を備えた集積回路に関する。この集積回路は、a)少なくとも1つの架橋可能なベースポリマーを100部と、b)求電子性の架橋剤としての少なくとも1つのジベンジルアルコール化合物またはトリベンジルアルコール化合物を10〜20部と、c)少なくとも1つの光酸発生剤を0.2〜10部と、d)a)〜c)が溶解されている少なくとも1つの溶媒とからなるポリマー組成物により製造可能である。本発明は、さらに、集積回路の製造方法、特にOFET用の、誘電層を有する集積回路を低温で作ることができる方法にも関する。
(もっと読む)


【課題】 調整可能な光学的性質およびエッチング特性を有する材料を堆積させる方法と装置の提供。
【解決手段】 プラズマ増強化学蒸着によって基板に調整可能な光学的およびエッチング耐性特性を有する膜を堆積させる方法およびシステムに関するものである。チャンバは、プラズマソースと、RF電源に結合された基板ホルダとを有する。基板は、基板ホルダに配置される。TERA層は、基板に堆積される。TERA層の少なくとも一部分の堆積速度が、ホルダの基板にRF電力が印加されていないときより早くなるように、RF電源によって提供されるRF電力は、選択される。 (もっと読む)


電子デバイスに使用する有機高分子であって、この高分子は、式(a)および(b)の反復単位を含む。式中、高分子内の少なくとも1個の反復単位がR4を含むことを条件として、各R1が、独立してH、アリール基、Cl、Br、I、または架橋可能な基を含む有機基であり、各R2が、独立してH、アリール基、またはR4であり、各R3が、独立してHまたはメチルであり、各R5が、独立してアルキル基、ハロゲン、またはR4であり、各R4が、独立して、少なくとも1個のCN基を含み、CN基あたり約30〜約200の分子量を有する有機基であり、n=0〜3である。これらの高分子は、有機薄膜トランジスタなどの電子デバイスに有用である。

(もっと読む)


【課題】 有機樹脂系絶縁膜を層間絶縁膜等に用いた際の、コンタクトプラグの埋め込み形状不良やコンタクト抵抗の上昇を防止する。
【解決手段】 原料ガスとして、芳香族化合物あるいは複素環式化合物を含む原料ガスを採用し、プラズマCVD法により有機樹脂系絶縁膜4を形成する。
【効果】 有機樹脂系絶縁膜中の低分子量の揮発性成分が充分除去され、コンタクトプラグ形成時の脱ガスが防止される。このため、埋め込み形状に優れた低抵抗の層間接続を達成することができる。 (もっと読む)


281 - 284 / 284