【課題】ダイシングの際にクラック発生を抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板の上に形成された複数の配線層と、前記複数の配線層の間に配置されたビア層と、前記複数の配線層に形成された導電膜と、前記ビア層の上下の前記配線層の前記導電膜と接続するビアプラグＶ５とを有し、スクライブ領域３１は、チップ領域の外周であって前記半導体基板の縁に接して位置し、前記スクライブ領域３１は前記縁に接するパッド領域３３を有し、前記パッド領域３３は、前記複数の配線層の各々に、平面視において相互に重なって配置され、前記複数の配線層は、第１の配線層と第２の配線層を有し、前記第１の配線層の前記導電膜は、前記パッド領域３３の全面に形成された第１の導電パターン５５を有し、前記第２の配線層の前記導電膜は、前記パッド領域の一部に形成された第２の導電パターン５０を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路において消費電力を低減するとともに、ノイズの発生を低減する。
【解決手段】半導体集積回路は、複数のＤＦＦを有し、その少なくとも１つが冗長回路とされる。半導体集積回路が通常動作モードである際に、ＡＮＤゲート１によって冗長回路であるＤＦＦ３−３に印加されるクロック信号を停止する。冗長回路へのクロック信号が停止されると、当該冗長回路においてクロック信号が停止された状態における冗長回路のドレイン−グランド間容量よりもその容量を増加させる。 （もっと読む）

【課題】半導体チップを積層して半導体装置を製造する際に、当該半導体チップの回路の不良電子素子を救済し、半導体装置の歩留まりを向上させる。
【解決手段】ウェハ１０を厚み方向に貫通する一対の貫通電極５０〜５２を形成し、デバイス層１１に一対の貫通電極５０〜５２を短絡する共有配線２４、２６、２８を形成し、デバイス層１１の表面１１ａにおいて異なる場所につながる一対のフロントバンプ２０〜２２を形成する。一対の貫通電極５０〜５２に対して異なる極性で電圧を印加し、一対の貫通電極５０〜５２のうちの一の貫通電極５０〜５２上にバックバンプ８０〜８２を形成する。ウェハ１０を積層し、一のウェハ１０上のバックバンプ８０〜８２と、他のデバイス層１１上のフロントバンプ２０〜２２とを接続する。 （もっと読む）

【課題】 より簡易な設計手法で作製可能なテスト回路を提供する。
【解決手段】 テスト回路１００は、基板と、基板上に形成された配線部及び被試験デバイス部１０とを備える構成とする。テスト回路１００では、被試験デバイス本体のパターン形成面内における回転中心位置Ｏと複数の接続電極１３ａ〜１３ｄのそれぞれとを結ぶ直線Ｌ１の延在方向が、配線２１の延在方向に対して所定の角度で傾いている。さらに、被試験デバイス本体及び複数の接続電極１３ａ〜１３ｄをパターン形成面内で９０度回転させた際にも、複数の接続電極１３ａ〜１３ｄ及び複数の配線２１〜２４間の接続が維持されるような位置に複数の接続電極１３ａ〜１３ｄが配置される。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ開口部の端部に必ず切断すべきヒューズを配設することにより、レーザー照射後のその切断／未切断をもって、端部のポリイミド膜の膜厚の良否を容易に判定する。
【解決手段】ヒューズ回路は、ヒューズ開口部ＦＡの、ポリイミド膜の厚さが不本意に厚く残りやすい端部に配設された２つの切断確認用ヒューズ１ａ，１ｂと、ポリイミド膜の厚さ変動が端部に比べ少ない領域ＲＡに配設された複数の実使用ヒューズ７ａ〜７ｄと、２つの切断確認用ヒューズ１ａ，１ｂからの信号を入力して当該ヒューズ１ａ，１ｂが確実に切断されているかを判定するヒューズ未切断判定回路２と、を備えている。なお、ヒューズ未切断判定回路２は、更にテストモード信号を入力すると共に、出力回路（例えばＤＱ回路）に判定結果を出力している。 （もっと読む）

【課題】より小さな単位に切り離しも可能なマルチコア半導装置において、前記より小さな単位に切り離した場合に相互接続配線を伝って生じる可能性のある水の侵入を阻止する。
【解決手段】半導体装置は、素子領域を有する半導体基板と、前記素子領域に形成され、第１の開口部を有する内側シールリングと、前記素子領域に形成され、第２の開口部を有する外側シールリングと、前記半導体基板上に形成された、各々配線層を含む複数の層間絶縁膜を積層した積層体よりなる多層配線構造と、前記多層配線構造に含まれる第１の層間絶縁膜とその上の第２の層間絶縁膜の間に形成された耐湿膜と、前記耐湿膜の下側および上側のいずれか一方である第１の側を延在し、前記第１の開口部を通過する第１の部分と、前記耐湿膜の下側および上側の他方である第２の側を延在し、前記第２の開口部を通過する第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分とを、前記耐湿膜を貫通して接続するビアプラグとを含む配線パターンと、を有する。 （もっと読む）

【課題】故障検査のために観測用フリップフロップ回路を配置することなく，故障検査を可能とする半導体集積回路，その検査方法を提供する。
【解決手段】第2の論理回路51の試験の際に試験モードを示す制御信号TSMが，故障検査用回路41に入力され，この試験モードに対応するテスト値が，論理回路51に入力されると，故障検査用回路41により，論理回路51の出力論理が，論理回路13に対応するフリップフロップ回路14に入力される。さらに，通常モード時に，論理回路13の出力論理が，故障検査用回路41により，論理回路13に対応するフリップフロップ回路14にそのまま入力される。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路の面積を増大させることなく、配線性のよいテスト専用回路の電源遮断を実現する半導体集積回路を提供する。
【解決手段】テスト実行時のみ動作するテスト専用回路を有する半導体集積回路１であって、当該半導体集積回路１の内部回路領域（内部制御回路部１００）に電源を供給する通常電源（通常動作用電源）１０４と、当該内部回路領域の全面にメッシュ状に配線され、テスト専用回路に電源供給するテスト用電源１０３と、テスト用電源１０３と通常電源１０４とを接続及び遮断して、通常電源１０４からテスト用電源１０３への電源供給を制御する電源遮断スイッチ１０９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗に起因した電圧降下を抑制し、検査工程での誤判定を受けにくい半導体チップおよび半導体ウェハを提供する。更に、配線抵抗に起因した電圧降下を抑制し、検査工程で誤判定を受けにくい半導体チップの検査方法を提供する。
【解決手段】電極パッド領域は、絶縁膜（７）上で一列に配列されたｎ個（ｎ≧３）の電極パッド（４_ｍ−４から４_ｍ＋４）を備える。内部セル領域は、電極パッド領域側に配列されている半導体回路（３_ｌ−３から３_ｌ＋３）にそれぞれ接続された配線（ＶＤＤＬ）をｎ個の電極パッドの配列方向に備える。ｎ個の電極パッドの内、第１の電極パッド（４_ｍ−１）と、第１の電極パッドから１個の電極パッドを隔てた第２の電極パッド（４_ｍ＋１）とが、絶縁膜中で互いに接続され、かつ、配線Ｌ_ｍ−１およびＬ_ｍ＋１によって、配線（ＶＤＤＬ）にそれぞれ接続されている。 （もっと読む）

【課題】精度よく簡便にチップサイズを見積もることができる、半導体集積回路のチップサイズ見積もり装置、及び半導体集積回路のチップ見積もり方法を提供する。
【解決手段】回路の機能の実現に最小限必要なゲート数である最小機能ゲート数を入力する入力部１と、セルライブラリごとに所定の動作速度の達成に必要となるゲート数と前記最小機能ゲート数との比率である性能考慮ゲート数係数が予め設定された設定値保持部２１と、前記最小機能ゲート数と前記性能考慮ゲート数係数とから算出されるゲート数を用いて前記回路の総面積を見積もる計算部２２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ドライバの故障による出力異常を救済することが可能な故障検出救済回路を含んだ半導体装置を提供すること。
【解決手段】故障検知部１は、ドライバ１０の出力の期待電位の逆電位となるようにドライバ１０の出力にプルアップ抵抗１５またはプルダウン抵抗１８を接続し、ドライバ１０の入力電位と出力電位とを比較することによりドライバ１０の故障を検出する。故障救済部２は、故障検知部１によってドライバ１０の故障が検出された場合に、期待電位と同電位となるようにドライバ１０の出力にプルアップ抵抗２６またはプルダウン抵抗２９を接続してドライバ１０の故障を救済する。したがって、ドライバ１０の故障による出力異常を救済することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ヒューズメモリを利用したトリミングを行う半導体ウェハにおける各半導体チップの回路面積を小さくする。
【解決手段】半導体ウェハ１０におけるシリコン基板上は、複数個のチップ領域ＴＡＲとこの領域ＴＡＲを囲むスクライブ領域ＳＡＲとに区画されている。チップ領域ＴＡＲには、トリミング対象回路１１と、ヒューズ素子Ｆｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）と、ヒューズ素子Ｆｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）が断線状態であるか否かを検出する検出回路としての役割を果たす定電流源ＩＰｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）及びインバータＩＮｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）とが形成されている。スクライブ領域ＳＡＲには、制御信号に応じてＯＮ／ＯＦＦが切り換わり、ＯＮとなることによりヒューズ素子Ｆｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）を断線させる電流を発生するＮチャネル電界効果トランジスタＴＳｍ（ｍ＝１〜２Ｍ）がある。 （もっと読む）

【課題】被測定素子の配置密度を高めることが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】異なる層に設けられた列配線Ｍ１および行配線Ｍ２からなる単位アレイ配線２１と、異なる層に設けられた列配線Ｍ３および行配線Ｍ４からなる単位アレイ配線２２とを、互いに異なる層に設ける。複数の単位アレイ配線２１，２２には、それぞれ、複数の被測定素子１１，１２のいずれか一つを接続する。複数の単位アレイ配線２１，２２どうしを部分的に重ね合わせて（オーバーラップさせて）配置することにより、被測定素子１１，１２の配置密度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ（ＦＵＳＥ）を備えた半導体装置の信頼性を向上する。
【解決手段】半導体基板１１の主面上に形成にされた多層配線を構成する層Ｍ１〜Ｍ６のうちの層Ｍ４に設けられた電気溶断型の救済用のヒューズ４ａおよび試験用のヒューズ４ｂと、ヒューズ４ａの近傍であって層Ｍ２および層Ｍ６に設けられた一対の導電板１０ａと、ヒューズ４ｂの近傍であって層Ｍ３および層Ｍ５に設けられた一対の導電板１０ｂとから構成する。ヒューズ４ｂと導電板１０ｂとの間が、ヒューズ４ａと導電板１０ａとの間より近いものとする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハテスト後のウェーハ状態において所望の回路を印刷処理により容易に形成することが可能な半導体製造方法および半導体装置を提供することを課題する。
【解決手段】本発明に係る半導体製造方法は、ウェーハの被描画パターン形成領域に所定の深さを有する溝部を形成する工程、ウェーハに対してトリミング要否の検査を行う工程、前記ウェーハにおけるトリミング必要なウェーハの前記溝部に導電性溶剤を射出し描画パターンを描画する工程、描画パターンを描画した後、脱気および低温アニールする工程、脱気および低温アニールした成膜後、当該成膜表面を平坦化する工程、および平坦化した後、高温アニールする工程、を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子単体の駆動力にはバラツキがあっても、搭載回路の駆動力のウェーハ間のバラツキを抑制することのできる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態の製造方法は、複数の半導体素子が並列に配置された回路を有する半導体装置の製造方法であって、上層配線形成工程用に、複数の半導体素子の並列接続数がそれぞれ異なる複数のマスクを製作しておき（工程Ｓ０１）、半導体基板上に半導体素子を形成し（工程Ｓ０２）、上層配線を形成する工程の前に、半導体基板上に形成された半導体素子のオン電流の測定を行い（工程Ｓ０３）、その測定の結果にもとづいて、上層配線形成工程用の複数のマスクから１枚のマスクを選択し（工程Ｓ０４）、選択したマスクを用いて上層配線を形成する（工程Ｓ０５）。 （もっと読む）

【課題】ボンディングパッドの直下の酸化膜を壊すことなくウエハテストを行う。
【解決手段】半導体基板９と、半導体基板９上に形成された５層の配線層と、前記５層の配線層のうち、最上層の第５配線層５に形成され、それぞれ一部が露出した複数のボンディングパッド５ｅと、半導体基板９上に形成され、かつボンディングパッド５ｅの下において平面視でボンディングパッド５ｅと重なる位置に配置され、さらにボンディングパッド５ｅと電気的に接続されたトランジスタ素子等の能動素子と、を有しており、ボンディングパッド５ｅの直下には、５層の配線層のうちのいずれの配線層も設けられていない緩衝膜７が形成されている。 （もっと読む）

【課題】回路規模の増大を抑制しつつスキャンテスト時の消費電力を削減する半導体集積回路の設計装置および設計方法を提供する。
【解決手段】対象抽出部１０２は、組み合せ回路のうちの活性化状態が評価される対象となる回路部分を抽出する。削減量算出部１０４は、組み合せ回路に入力されるスキャンフリップフロップのそれぞれの出力信号を１個ずつ固定化してスキャンフリップフロップ毎の消費電力の削減量を算出し、評価部１０８は、その結果に基づいて、スキャンフリップフロップの出力信号を固定化したときの消費電力の削減量が最も多いスキャンフリップフロップを選択する。固定化情報蓄積部１０６は固定化情報を保持し、対象抽出部１０２はその固定化情報に基づいて、評価対象となる回路部分を抽出する。評価部１０８は、抽出された回路部分毎に１つのスキャンフリップフロップを選択し、削減できる消費電力値の合計が所定の値になるまで上記を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】ダイシング処理に起因する、チップ用パッド同士のショートを抑制することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板と複数の第１のパッドと、複数の第２のパッドとを備える半導体装置であり、第１のパッドは素子形成領域ＩＭＣ内に、第２のパッドは素子形成領域ＩＭＣを取り囲むダイシングライン領域ＤＬＲ内に形成される。ダイシングライン領域ＤＬＲには、第２のパッド同士が電気的短絡を生じさせやすい第１の領域ＳＬＲと、第２のパッド同士が電気的短絡を生じさせにくい第２の領域ＳＵＲとを有している。第１の領域ＳＬＲに対向する位置に配置された一部の第１のパッドは、第２の領域ＳＵＲに対向する位置に配置された残りの第１のパッドよりも、素子形成領域ＩＭＣの外縁の１辺ＢＤＬから離れて配置されている。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の検査において、電極パッドの配列、スクライブ領域の幅に影響されることなくプローブカードを共有化し、プローブカードの製作費用を低減する。
【解決手段】基板２０はチップ領域１００、スクライブ領域２００および電極パッド３００を備えている。チップ領域１００は基板２０上の第１の方向に沿って、スクライブ領域２００により互いに分離されるように並んでいる。電極パッド３００は第１の方向に沿って周期性をもって配列している。接続用電極パッド３２０はチップ領域１００に形成され、ダミー電極パッド３４０は少なくともスクライブ領域２００に形成されている。電極パッド３００の間隔はスクライブ領域２００の幅よりも狭い。電極パッド３００の配列と平行な方向における、チップ領域１００とスクライブ領域２００を合わせた幅は、電極パッド３００間隔の整数倍である。 （もっと読む）