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Fターム[5F092BC13]の内容

ホール/MR素子 (37,442) | MR素子の構造形状 (5,946) | 積層構造 (4,801) | 特定の層が積層構造を持つもの(積層フェリを除く) (1,931) | 自由層(感磁層を含む) (630)

Fターム[5F092BC13]に分類される特許

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【課題】少ない電流で高速に動作させることが可能な記憶素子・記憶装置を提供する。
【解決手段】記憶層14と磁化固定層12とこれらの間に配された非磁性体による中間層13とキャップ層15とを少なくとも含み、上記記憶層として、第1の強磁性層14iと第2の強磁性層14pとが結合層14cを介して磁気的に結合され、上記第1の強磁性層が上記中間層に接し、上記第2の強磁性層が上記キャップ層に接しており、上記第1の強磁性層と上記第2の強磁性層のうち一方が膜面内磁化が優位な面内磁化層とされ、他方が垂直磁化が優位な垂直磁化層とされ、上記第1の強磁性層及び上記第2の強磁性層の磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜しているものを用いる。記憶層の磁化の向きが傾斜しているので、記憶素子に対し膜面に垂直な方向の電流を流すと速やかに強磁性層の磁化の歳差運動の振幅増加が始り、短い時間の反転動作が可能になる。 (もっと読む)


【課題】環境温度によらず、熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。そして上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。この場合に、記憶層は正の磁歪定数を持つ磁性層を有するようにし、上記層構造に加えてさらに、負熱膨張材料層が設けられるようにする。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。その上で、上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。そして記憶層は、Co−Fe−B磁性層と、少なくとも1つの非磁性層を有し、酸化物層、Co−Fe−B磁性層、非磁性層が順に積層された積層構造が形成されているようにする。 (もっと読む)


【課題】書き込みエラーを生じることなく、短い時間で書き込み動作を行うことができる記憶素子を提供することを目的とする。
【解決手段】記憶素子は、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、非磁性体による中間層と、上記記憶層に対して、上記中間層を介して設けられ、磁化の向きが固定された磁化固定層とを有する層構造を備える。
そして、上記記憶層は、少なくとも2つの強磁性層が結合層を介して積層され、上記2つの強磁性層が上記結合層を介して磁気的に結合し、上記2つの強磁性層の磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜しており、上記層構造の積層方向に電流を流すことにより、上記記憶層の磁化状態が変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われる。 (もっと読む)


【課題】書き込みエラーを生じることなく、短い時間で書き込み動作を行うことができる記憶素子及び記憶装置を提供する。
【解決手段】情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層14と、磁化の向きが固定された磁化固定層12と、上記記憶層14と上記磁化固定層12との間に配された非磁性体による中間層13と、垂直磁気異方性誘起層15とを含む層構造を有する記憶素子3を構成する。そして、上記記憶層14が、第1の強磁性層14aと第1の結合層14bと第2の強磁性層14cと第2の結合層14dと第3の強磁性層14eとが同順に積層されて、上記第1の強磁性層14aが上記中間層13に接し、上記第3の強磁性層14eが上記垂直磁気異方性誘起層15に接し、上記結合層14b,14dを介して隣接する上記強磁性層14a,14c,14eの磁化の向きが膜面に垂直な方向から傾斜している。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。その上で、上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。記憶層は、少なくともCo−Fe−B磁性層を有する。また記憶層に接する中間層と、該中間層とは反対側で記憶層が接する他方の層は、少なくとも記憶層と接する界面が酸化物層とされており、さらに上記他方の層は、酸化物層が、Liを含むLi系酸化物層とされている。 (もっと読む)


【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。
そして、上記記憶層は非磁性体と酸化物が積層された積層構造層を含み、上記層構造の積層方向に電流を流すことにより、上記記憶層の磁化の向きが変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われる。 (もっと読む)


【課題】第1の磁性部分と、第2の磁性部分と、第1の磁性部分と第2の磁性部分の間の
バリア層とを有するセンサスタックを含む磁気センサを提供する。
【解決手段】第1の磁性部分及び第2の磁性部分のうち少なくとも一方が、バリア層に隣接する正の磁気ひずみを有する第1の磁性層と、第2の磁性層と、第1の磁性層と第2の磁性層の間の中間層とを有する多層構造を含む。この磁気センサは、その抵抗−面積(RA)積が約1.0Ω・μmであるとき、少なくとも約80%のMR比を有する。 (もっと読む)


【課題】低駆動電流値で電流誘起磁化反転を行うことのできる強磁性トンネル接合素子を提供する。
【解決手段】磁化固定層100と非磁性絶縁層110と磁化自由層120を有する強磁性トンネル接合素子10において、磁化自由層120は非磁性金属層221を挟んで強磁性層220、222を有し、2つの強磁性層220、222の磁化の方向が互いに平行である。2つの強磁性層の磁化の方向を互いに平行にすることにより、スピントランスファートルクが有効に働き、駆動電流を低減できる。 (もっと読む)


【課題】高出力、高Q値で且つ、膜厚が薄いSTOを備えた磁気ヘッド、磁気センサ、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】一実施形態の磁気ヘッドは、スピントルク発振素子を備え、スピントルク発振素子は、第1強磁性層と、第2強磁性層と、第2強磁性層に対して前記第1強磁性層と反対側に設けられた第3強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、第2強磁性層と第3強磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、第1強磁性層に対して第1非磁性層と反対側の面に設けられた第1電極と、第3強磁性層に対して第2非磁性層と反対側の面に設けられた第2電極と、を備え、第2強磁性層と第3強磁性層は、第2非磁性層を介して反強磁性結合をし、前記第1および第2電極間に電流を流さない場合に第1強磁性層と第2強磁性層の磁化の向きが反平行配置であり、第1および第2電極間に電流を流すと、第1乃至第3強磁性層においてそれぞれ、磁化の歳差運動が誘起される。 (もっと読む)


【課題】向上した磁気性能および堅牢性を有する磁気読み出しセンサを提供する。
【解決手段】磁気センサは、磁化自由層構造310と磁化固定層構造とを含む。磁化固定層構造は、非磁性結合層318によって互いに分離させた第1の磁性層314および第2の磁性層316を含む。磁化固定層構造の第2の磁性層はCoFeBTaの層を含んでおり、この層が原子の拡散を防止し、さらには所望のBCC結晶粒成長を促進する。磁化自由層構造は、原子拡散をさらに防止し、所望のBCC粒成長をさらに促進するためのかかるCoFeBTa層を含むこともできる。 (もっと読む)


【課題】微小領域で歪を高感度に検知することができる歪検知装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体回路部と、半導体回路部の上に設けられた検知部と、を含む歪検知装置が提供される。半導体回路部は、半導体基板上に設けられたトランジスタを有する。検知部は、トランジスタの上方に設けられた空洞部と、空洞部と並置された非空洞部と、を有する。検知部は、可動梁、歪検知素子部、第1、第2埋め込み配線を含む。可動梁は、固定部分及び可動部分を有し、第1、第2配線層を含む。固定部分は非空洞部に固定される。可動部分は、固定部分から空洞部に延びトランジスタと離間する。歪検知素子部は、可動部分に固定され、第1、第2配線層と電気的に接続され、第1磁性層を含む。第1、第2埋め込み配線は、非空洞部に設けられ、第1、第2配線層と半導体回路部とを電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】電流で書き込み動作を行うことができる大容量の磁気メモリ及び磁気メモリ装置を提供する。
【解決手段】磁化が固定された第1の磁性層10と、磁化が可変の第2の磁性層30と、第1の磁性層10と第2の磁性層30との間に設けられた第1の中間層20と、第1の磁性層10と第2の磁性層30とを結ぶ第1の方向に直交する第2の方向に延在し、第2の磁性層30に隣接し、スピン波を伝搬する第1の磁性細線40と、第1の磁性細線40の一端に設けられた第1のスピン波入力部と、第1の磁性細線40の他端に設けられた第1のスピン波検出部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高密度化が可能な磁気記憶素子及び不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、積層体を備えた磁気記憶素子が提供される。積層体は第1積層部と第2積層部とを含む。第1積層部は、膜面に対して垂直成分を有する第1の方向に磁化が固定された第1強磁性層と、磁化の方向が膜面垂直な方向に可変である第2強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間の第1非磁性層と、を含む。第2積層部は、積層方向に沿って第1積層部と積層される。第2積層部は、磁化の方向が膜面平行な方向に可変である第3強磁性層と、膜面に対して垂直成分を有する第2の方向に磁化が固定された第4強磁性層と、第3強磁性層と第4強磁性層との間の2非磁性層と、を含む。積層方向を法線とする平面で切断したとき、第3強磁性層の断面積は前記第1積層部よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子の特性劣化を抑制する。
【解決手段】本実施形態の磁気抵抗効果素子は、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と不変な磁化方向とを有する第1の磁性体30と、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と可変な磁化方向とを有する第2の磁性体10と、磁性層10,30の間の非磁性体20とを、含む。第1及び第2の磁性体のうち少なくとも一方は、ボロン(B)及び希土類金属及び遷移金属を含む磁性層301を備え、磁性層301において、希土類金属の含有量は、20at.%以上であり、遷移金属の含有量は、30at.%以上であり、ボロンの含有量が、1at.%以上、50at.%以下である。 (もっと読む)


【課題】この発明のさまざまな実施例は、第1の強磁性自由層138と第2の強磁性自由層140との間に配置されたスペーサ層142とともに構築されてもよい、磁気応答積層132に一般的に向けられる。
【解決手段】少なくとも1つの強磁性自由層は、磁気応答積層の磁気抵抗比(MR)を向上させる結合サブ層186,196を有することができる。 (もっと読む)


【課題】磁気メモリの動作不良を抑制する。
【解決手段】本実施形態の磁気メモリは、第1領域内の第1の磁気抵抗効果素子1Aと、第2の領域の磁気抵抗効果素子1Xとを含む。第1の磁気抵抗効果素子1Aは、磁化の向きが可変な第1の記憶層10と、磁化の向きが不変な第1の参照層12と、非磁性層11と、第1のシフト調整層13と、を含む。第2の磁気抵抗効果素子1Xは、磁化の向きが可変な第2の記憶層10と、磁化の向きが不変な第2の参照層12と、第2の非磁性層11と、第2のシフト調整層13Xと、を含む。第2のシフト調整層13Xの膜厚t2は、第1のシフト調整層13の膜厚t1以下である。 (もっと読む)


【課題】安定した動作が可能な不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、磁気記憶素子と制御部とを備えた不揮発性記憶装置が提供される。磁気記憶素子は積層体を含む。積層体は第1積層部と第2積層部とを含む。第1積層部は、磁化が固定された第1強磁性層と、磁化の方向が可変の第2強磁性層と、第1強磁性層と第2強磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、を含む。第2積層部は、積層方向に沿って第1積層部と積層される。第2積層部は、通電される電流によって磁化が回転して発振が生じる第3強磁性層と、磁化が固定された第4強磁性層と、第3強磁性層と第4強磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、を含む。制御部は、第2強磁性層の磁化の向きに応じた第3強磁性層の発振の周波数の変化を検出することで、第2強磁性層の磁化の向きを読み出す読み出し部を含む。 (もっと読む)


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