【課題】この発明は半導体ウエハをスポンジブラシによって所定の洗浄度合に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】回転テーブル１１に保持された半導体ウエハ２２を回転駆動されるスポンジブラシ３８によって洗浄するブラシ洗浄装置において、上記回転テーブルを回転駆動するモータ１６と、上記洗浄ブラシを回転駆動するモータ３４と、上記スポンジブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動機構３２と、上記スポンジブラシを半導体ウエハの径方向中心部から外方へ揺動させたときに上記スポンジブラシの上記半導体ウエハに接触する端面と上記半導体ウエハの上記端面が接触する部分との相対速度が所定値以上になるよう上記角モータを制御する制御装置６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置において、熱応力で誘電体等が損傷するのを防止し、かつ漏洩ガスによる電極等の腐食を防止する。
【解決手段】第１方向に並べられた複数の電極２１を含む電極群２０を骨組み状のフレーム３０で囲んで保持する。フレーム３０は、電極群２０の第１方向の外側において第１方向と直交する第２方向に延びるフレーム部材３３を含む。フレーム部材３３の長手方向の少なくとも一箇所が支持系４２に連結されて変位が拘束される被拘束部３３ａとなり、その他の箇所が第１方向へ弾性変位可能な変位可能部３３ｂとなっている。フレーム部材３３の変位可能部３３ｂと電極群２０との間には、これら変位可能部３３ｂと電極群２０とを第１方向に沿って互いに離間する向きに押圧する押圧手段５０を設ける。 （もっと読む）

【課題】処理プロセスの途中にある基板の保持状態を正確に検出することができる基板検出装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板検出装置が、保持された基板の撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、撮像画像が基板の保持状態の検出に十分な検出力を有する画像であるか否かを判定する検出力判定手段と、撮像画像に基づいて、保持手段における基板の保持位置を特定する保持位置特定手段と、特定された基板の保持位置と想定保持位置とを比較し、両者が合致するか否かに応じて基板の保持状態が正常であるか否かという検出結果を生成する保持状態判定手段と、を備えており、検出力を有すると判定された撮像画像を表現する撮像画像データあるいは同一の基板保持状況のもとで当該撮像画像データとともに連続的に取得された撮像画像データのみを保持位置特定手段による保持位置の特定に用いる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の適切な回転数による処理を最適にし、膜厚の均一化を図り、膜質の低下を抑制し、かつ、ミストの基板への再付着を防止すること。
【解決手段】ウエハＷを保持するスピンチャック４０と、スピンチャック４０を回転駆動するモータ４１と、ウエハにレジスト液を供給するレジストノズル４２と、スピンチャックを収容する上端が開口した処理容器４３と、処理容器の底部から排気する排気手段４４と、を具備する基板処理装置において、処理容器の内周側に配設され、ウエハの表面側の気流を排気手段側に流す多翼遠心ファン５０と、モータと多翼遠心ファンの駆動電源５１ａとに接続され、ウエハの回転数に対応して多翼遠心ファンの回転数を制御するコントローラと、を具備する。コントローラからの制御信号により多翼遠心ファンを回転して、ウエハの回転により生ずるウエハ表面上の周方向に流れる乱気流を、放射方向に流れる層気流に補正する。 （もっと読む）

【課題】処理プロセスの途中にある基板の保持状態を正確に検出することができる基板検出装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板検出装置が、保持された基板を撮像して撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、基板像を構成する画素の画素値を基板の円周方向について積算する操作を基板の配列方向に沿って行って生成したピークプロファイルデータに表れるピーク位置を特定したうえで保持手段の基板保持枚数の違いに起因して生じるピーク位置のずれを補正し、補正されたピーク位置に基づいて基板の保持位置を特定する保持位置特定手段と、特定された基板の保持位置と想定保持位置とを比較し、両者が合致する場合に基板の保持状態が正常であるという検出結果を生成し、両者が合致するか否かに応じて基板の保持状態が正常であるか否かという検出結果を生成する保持状態判定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】処理プロセスの途中にある基板の保持状態を正確に検出することができる基板検出装置を提供する。
【解決手段】基板検出装置が、保持された基板を相異なる露光条件で複数回撮像することにより複数の撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、複数の撮像画像データを合成して合成画像データを生成する画像合成手段と、合成画像に基づいて、保持手段における基板の保持位置を特定する保持位置特定手段と、特定された基板の保持位置と想定保持位置とを比較し、両者が合致する否かに応じて基板の保持状態が正常か否かという検出結果を生成する保持状態判定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】輸送や組み立て、メンテナンスを容易とした液処理装置を提供すること。
【解決手段】洗浄処理装置１は、基板が収納された容器の搬入出を行う容器搬入出部２と、基板に所定の液処理を施す液処理部３と、容器搬入出部２と液処理部３との間で基板を搬送する基板搬送部４と、液処理部３に供給する処理液の貯蔵および送液ならびに回収を行う処理液貯留部５と、基板搬送部４と液処理部３と処理液貯留部５をそれぞれ個別に制御する複数の制御部７ａ，７ｂ，１０と、基板搬送部４と液処理部３と処理液貯留部５に配設された電動駆動機構１６，２７および複数の制御部７ａ，７ｂ，１０を動作させるための電源部６と、複数の制御部７ａ，７ｂ，１０と電源部６からの排気を１箇所に集中させた後に外部に排気する排気システム８とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマ発生ノズルの導波管への電気的な接触（接合）を安定させる。
【解決手段】ノズル本体３３と導波管の下面板１３Ｂとの接合部分に、導電性を有する弾性部材３７を介在する。前記弾性部材３７は、コイルばねが環状に連結されたＯリングによって形成されている。一方、前記下面板１３Ｂには、中心導電体（内側電極）が遊挿する開口１３１が形成されており、その開口１３１の回りに環状の突条１３３を形成しておく。また、ノズル本体３３には、前記中心導電体が遊挿する開口３４５が形成されており、その開口３４５の回りに環状の凹溝３４７を形成しておく。したがって、ノズル本体３３を下面板１３Ｂにねじ止めすると、前記Ｏリングが凹溝３４７と突条１３３とに挟み込まれて弾性変形し、前記電気的な接触（接合）を安定させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、マイクロ波の伝搬に導波管を用いるにあたって、マイクロ波発生手段の交換を容易に行うことができるとともに、前記マイクロ波発生手段の導波管への取付けの信頼性を向上する。
【解決手段】マグネトロンから成るマイクロ波発生装置２０を、その一方側に形成したフック２１１をＵ字状の係合片１１２に引掛け、他方側に取付けたばね式キャッチクリップ２１２をフック１１３に引掛けることで、第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕに、脱着自在に取付ける。したがって、工具を使わないで容易にマイクロ波発生装置２０の交換（脱着）を行うことができる。また、温度によるストレスなどに対しても、前記ばね式キャッチクリップ２１２の弾発力によって、マイクロ波発生装置２０は上面板１１Ｕに押圧して取付けられ、接合部分にガタを生じることはなく、取付けの信頼性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマ発生ノズルにマイクロ波発生手段からのマイクロ波が導波管を介して伝搬され、前記プラズマ発生ノズルが内側電極と外側電極とが同心状に配置されて構成される場合、消耗する前記内側電極の交換を容易に行えるようにする。
【解決手段】内側電極となり、アンテナとなる中心導電体３２を外側電極の中心に保持する絶縁性の保持部材３５において、前記中心導電体３２を内部に収容して筒状に延長し、把持部３５１とする。一方、前記導波管（１３）のプラズマ発生ノズルが取付けられる壁面とは反対側の壁面（１３Ｂ）には、前記保持部材３５に保持された中心導電体３２が遊挿可能な大きさの点検口１３５を形成しておき、キャップ部材１３６を締付けることで固定する。したがって、ワーク側から交換を行う場合に比べて、容易に交換を行える。 （もっと読む）

【課題】誘電部材に凹条及び凸条が設けられたプラズマ処理装置において、組み立て作業の容易化及びパーティクルの発生防止を図る。
【解決手段】プラズマ処理装置１の第１電極２１の第２電極２２を向く面２１ａを第１誘電部材３１で覆い、第２電極２２の第１電極２１を向く面２２ａを第２誘電部材３２で覆う。第１誘電部材３１の第２誘電部材３２との対向面に凸条３１ａ及び凹条３１ｂを形成する一方、第２誘電部材３２の第１誘電部材３１との対向面における少なくとも凸条３１ａ及び凹条３１ｂと対応する部分３２４を平坦にする。この平坦部分３２４を凸条３１ａに当接させるとともに凹条３１ｂの第２誘電部材３２側の開口を塞ぐ。 （もっと読む）

【課題】クリーニング時に基板回転をモニタリングするシステム、方法及び装置を開示する。
【解決手段】本発明は基板の支持、クリーニングに用いられる基板クリーニング装置と、基板クリーニング装置内で光路を有する光ビームの提供に用いられる光源と、光源からの光ビームを受光するため光路に沿って配置され、基板の配向フィーチャが光路を横切る場合、配向フィーチャ検出に用いられる光センサを含むことができる。光センサは光検出器のアレイを含む。多くの追加の様態が開示されている。 （もっと読む）

【課題】ウェハの電解加工工程、洗浄工程及び乾燥工程を１つのモジュールに集約し、各工程でトラブルが生じても、他のモジュールにて加工処理されるウェハの搬送を停滞させないようにする。
【解決手段】ウェハＷの電解加工を行う電解加工部２と、該加工後のウェハを洗浄する洗浄部３と、前記ウェハＷを乾燥させる乾燥部４とを備え、該電解加工部２、洗浄部３及び乾燥部４は同一の加工処理室５に設けて１つにモジュール化する。これにより、ウェハＷの電解加工程、洗浄及び乾燥は１箇所にて連続的に実施される。 （もっと読む）

本発明は、薄いウェハ（６）を洗浄する装置で、ウェハ（６）が各々の一辺で担持装置（２）に固定されており、２つの隣接する基板間に空隙（７）が形成されている。本装置は、流体を各空隙（７）内に注入するシャワー装置（１５）と、流体を満たすことができ且つ担持装置（２）を収容できる寸法を有する槽（１４）とから実質上構成される。本発明によれば、任意選択的に、シャワー装置（１５）が移動不能な担持装置（２）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）が移動不能なシャワー装置（１５）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）とシャワー装置（１５）が相対的に移動可能である。本発明による方法は、好ましい洗浄処理において、担持装置（２）を槽内で移動しながらまず温流体でシャワー洗浄を行った後、冷流体で超音波洗浄を行い、さらに温流体でシャワー洗浄を再度行うことを特徴とする。
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洗浄液で円盤状物品の表面を覆い、これにより閉じられた液体層（Ｌ）が形成され、更に前記洗浄液を除去することを含んだ前記表面の乾燥方法であって、前記洗浄液が少なくも５０重量％の水と少なくも５重量％の物質とを含み、この物質は水の表面エネルギーを低下させ、前記液体の除去が前記液体層の上への気体の吹き付けにより開始され、これにより閉じられた液体層が孤立した区域（Ａ）において開かれる前記方法が開示される。
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