【課題】温度変化による補正を容易に行うことができるファイバレーザ発振器を提供する。
【解決手段】発熱部品である励起用レーザダイオード１１ａを当接配置するベース部３１ａと該ベース部３１ａから延設されて筐体１７外部に取り出される放熱部３１ｂとを備えて筐体１７よりも熱伝導率の高い材質からなる熱交換部３１と、熱交換部３１に取り付けられる温度センサと、温度センサからの温度情報に基づいて励起用レーザダイオード１１ａの駆動電流を補正する温度出力補正部とを備える。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】波長変換装置は、入射する第１のレーザ光を第２のレーザ光に波長変換して出力する波長変換部と、前記波長変換部を当該波長変換部の少なくとも１つの面側から冷却する冷却機構と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】低コスト化及び小型化を図りながら、レーザ光の波長及び光強度を安定化できるレーザ光源装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源装置１は、電流が供給されることで励起光Ｌ１を出射する励起用光源１０と、励起用光源１０からの励起光Ｌ１を受けてレーザ光Ｌ２を生成する共振器２０と、レーザ光源装置１から出射されるレーザ光の光強度を可変とする光学素子８１を有する光強度変更装置８０と、当該レーザ光源装置１から出射されるレーザ光の光強度を検出する光強度検出装置７０と、励起用光源１０及び光学素子８１を制御する制御装置６０とを備える。制御装置６０は、光強度検出装置７０の検出結果に基づいて、励起用光源１０に供給する電流値を制御する光源制御手段と、光強度検出装置７０の検出結果に基づいて、光学素子８１を制御する素子制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】温度／出力補正を精度よく行って、安定したレーザ出力を得ることができるファイバレーザ発振器及びファイバレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ電源のオフ→オン時の筐体温度の変化による出力変動と、周囲温度の変化による出力変動とが、それぞれ同じ温度特性となるような位置に温度センサ２２を配置し、この配置状態下において温度センサ２２の値をモニタして温度補正テーブルを作成する。温度センサ２２の配置例としては、例えばレーザ媒質やその周辺、励起半導体レーザ１１やその周辺、ベース１９の面などがある。そして、レーザマーキング装置の動作時、この温度補正テーブルを用いて励起半導体レーザ１１を制御することにより、実レーザ出力を温度変動によらず目標レーザ出力に近づける。 （もっと読む）

【課題】レーザー照射時のレーザー安定性とレーザー遮光時のフラッシュランプ消耗軽減を兼ね備えたレーザー装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】レーザーの照射手段と、フラッシュランプを含む励起手段と、レーザーの遮光手段と、遮光手段による遮光とその解除を制御するとともに、フラッシュランプの設定条件を制御する制御手段を有し、制御手段が、レーザーの照射を停止する際に遮光手段によりレーザーを遮光する工程に続いて、フラッシュランプの消耗を軽減するように設定条件を制御する工程を行い、照射を再開する際に、レーザーが安定して照射されるように設定条件を制御する工程に続いて、遮光を解除する工程を行うレーザー装置の制御方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】メーカ側でのメンテナンス性をより向上させることができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】種光源２３、予備増幅器３０及び主増幅器５０のそれぞれの駆動状態のデータである光出力情報、電力情報及び温度情報を検出する各フォトダイオード２５，３９，５８、各駆動回路２２，３４，５２ｂ，５３ｂ及び各サーミスタ３６，５４を備える。そして、駆動情報のデータと、その検出時における日時データとをＣＰＵ２１ａにて対応付けて記憶するメモリ２１ｂと、メモリ２１ｂに記憶される日時データ及び駆動状態のデータを出力可能なＣＰＵ２１ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】発光素子を最も発光効率のよい温度に制御するとともに、省電力性に優れた発光素子の温度制御装置及びこれを用いたディスプレイ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】固体レーザ１の温度を計測する温度センサ８と、固体レーザ１が載置されるベースプレート２と、このベースプレート２の固体レーザ１が載置された面と同一面に取り付けられ、固体レーザ１を加熱するヒータ７と、放熱フィン４が取り付けられたＵ字状ヒートパイプ５と、放熱フィン４に冷却風を送る冷却ファン６と、温度センサ８により固体レーザ１の温度が所定の温度範囲に収まるように、冷却ファン６の回転数あるいはヒータ７の出力を制御する制御ユニット１０とから構成され、発光素子を最も発光効率のよい温度で制御することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の光強度を向上させる。
【解決手段】一実施の形態によるレーザ装置は、少なくとも１つの半導体レーザを含み、所定波長のパルスレーザ光を出力するように構成されたマスタオシレータと、少なくとも１つの増幅波長領域を有し、前記マスタオシレータから出力されるパルスレーザ光を増幅するように構成された少なくとも１つの増幅器と、前記マスタオシレータから出力されるパルスレーザ光の波長のチャーピング範囲が前記少なくとも１つの増幅波長領域の少なくとも一部と重なるように、前記マスタオシレータから出力されるパルスレーザ光の出力波長に影響するパラメータを制御するための制御部と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】禁水が必要な場所で使用可能であるＹＡＧレーザー発振装置を提供する。
【解決手段】 筐体と、前記筐体の内部に設置されたレーザー本体と、前記筐体の内部の空気の温度を略一定に調整する温度調整機構と、前記筐体の内部の空気を前記レーザー本体の前記カバーによって囲まれた内部に送り込む第１送風機構と、前記筐体の外部に設置され、前記筐体の内部の空気を前記レーザーポンプチャンバーの内部に送り込む第２送風機構と、を備えたことを特徴とするＹＡＧレーザー発振装置。 （もっと読む）

【課題】中心波長の制御に影響を与えることなくスペクトル純度幅（スペクトル指標値）の安定化制御が行える狭帯域化レーザ装置を提供する。
【解決手段】増幅用レーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル純度幅Ｅ９５をスペクトル純度幅計測手段で計測し、計測されたスペクトル純度幅Ｅ９５が、目標スペクトル純度幅Ｅ９５_０の許容幅Ｅ９５_０±ｄＥ９５内に収まるように、発振用レーザ装置で放電を開始してから増幅用レーザ装置で放電を開始するまでの放電タイミングを制御する。 （もっと読む）

【課題】中心波長の制御に影響を与えることなくスペクトル純度幅（スペクトル指標値）の安定化制御を行えるようにして、見かけ上のスペクトル純度幅の制御を行うことで発生する上記諸問題点を解消する。
【解決手段】増幅用レーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル純度幅E95をスペクトル純度幅計測手段で計測し、計測されたスペクトル純度幅E95が、目標スペクトル純度幅E950の許容幅E950±ｄE95内に収まるように、発振用レーザ装置で放電を開始してから増幅用レーザ装置で放電を開始するまでの放電タイミングを制御することで、スペクトル純度幅E95を安定化制御する。 （もっと読む）

【課題】シード用のレーザダイオードよりパルス波形のシード光を増幅用光ファイバに注入するＭＯＰＡ方式において、アンプの利得を十分高くしてもスバイクノイズの発生を確実に防止または抑制すること。
【解決手段】このＭＯＰＡ方式ファイバレーザ加工装置は、シード光発生部１０、第１および第２の増幅用光ファイバ１２，１４および光ビーム照射部１６をアイソレータ１８，２０，２２および光結合器２４，２６を介して光学的に縦続接続している。ここで、シード光発生部１０より出力されるパルス波形のシード光のスペクトル中心波長は１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にあり、ひいては被加工物Ｗの表面に照射される増幅パルスの光ビームＬＢのスペクトル中心波長も１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 共振器を備えた高出力ガスレーザ発振器・増幅器において、共振器を構成するミラーで表面損傷及び歪みが発生しないように照射するピークエネルギ密度を減少させ、レーザの中心波長が変化したとしてもレーザ出力が減少しないようにする。
【解決手段】 リア側ミラー１と出力側ミラー２とからなる共振器と、その共振器中に配置されレーザガスが封入されたレーザチャンバー３と、レーザチャンバー３内のレーザガスを励起する励起手段４、５とを備えたガスレーザ装置において、レーザチャンバー３とリア側ミラー１の間、及び、レーザチャンバー３と出力側ミラー２の間の少なくとも一方に、ミラー側のレーザビームの径あるいは幅を広げるビーム拡大光学系６１、６１’を介在させた高出力ガスレーザ装置。 （もっと読む）

【課題】温度変動が生じても高い効率で安定したパワー出力を実現できるレーザ光源装置を得ること。
【解決手段】レーザ素子１１と、前記レーザ素子１１の温度を計測するレーザ素子用温度測定手段１２と、前記レーザ素子１１が出力するレーザ光の波長変換を行う高調波発生素子１５と、前記高調波発生素子１５の温度を計測する高調波発生素子温度測定手段１３と、前記高調波発生素子１５の温度を調節する高調波発生素子温度調節手段１４と、前記レーザ素子１１の温度と前記高調波発生素子１５が出力するレーザ光のパワーが最大となる前記高調波発生素子１５の目標温度との関係を保持する記憶手段と、前記レーザ素子用温度測定手段１３によって計測された前記レーザ素子１１の温度から前記関係に従って求めた目標温度に前記高調波発生素子１５の温度が調節されるように、前記高調波発生素子温度調節手段１４を制御する制御手段２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の励起用レーザダイオードの負荷を均一化すること。
【解決手段】光ファイバを用いてレーザ光を発生または増幅するファイバレーザ装置１において、光ファイバ１１，２１に対して励起光を供給する複数のレーザダイオード１６，１７，２４，２５と、複数のレーザダイオードを駆動する駆動手段（駆動部１８，１９，２６，２７）と、光ファイバから出射されるレーザ光が所望の強度になり、かつ、複数のレーザダイオードのそれぞれの負荷が等しくなるように駆動手段を制御する制御手段（制御部３０）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平面型光導波路のコア層における温度分布の不均一性を軽減し、発生する熱レンズ効果を抑制することで、励起光パワーの増減に伴う、出力光パワーの低下およびビーム品質の劣化の少ない平面光導波路型レーザ装置を得る。
【解決手段】平板状をなし、励起光の光軸７に対し垂直な断面の厚さ方向に導波路構造を有するコア層２と、コア層２の一面に接合されたクラッド３と、クラッド３の一面側に接合剤を介して接合され、励起光の光軸７に垂直な断面の幅方向の、励起光照射位置８近傍では小さい熱抵抗を有し、励起光照射位置遠方では大きい熱抵抗を有する導波路内温度調整部４と、導波路内で発生した熱をクラッドと導波路内温度調整部を介して排熱する冷却装置５とを備える。 （もっと読む）

【課題】ガス冷却式のＹＡＧレーザ発振装置において、チャンバー内の温度を制御して、レーザ発振装置の光学特性を向上させる。
【解決手段】ＹＡＧレーザ発振装置は、レーザ発振器１０、ガス給排装置６２、温度制御手段７０、および、応力吸収手段８０を備えている。レーザ発振器１０は、筐体１２内に、ＹＡＧロッド３０等を収納したチャンバー３６、および、出力ミラー４０等を有している。応力吸収手段８０は、筐体１２に設けられた開閉部１６が閉じられた状態で開閉部１６の内面とチャンバー３６の外面とに接触するように配置されて開閉部１６から受ける力を吸収する。温度制御手段７０は、チャンバー３６の温度を測定する温度センサ７２、開閉部１６に取り付けられていて発熱または吸熱するペルチェユニット７４、および、ペルチェユニット７４の発熱または吸熱を制御する温度制御部７６を有している。 （もっと読む）

【課題】 冷却水温度が上昇し続けることによるレーザ発振器の出力低下アラームによるレーザ発振停止や、負荷過大に伴う冷却装置異常停止等が回避され、加工を継続することが可能となるレーザ加工機システムを得る。
【解決手段】 レーザ加工機システムの有する冷却能力が、レーザ発振器を含むレーザ加工機を構成する機器を冷却するために必要な熱量と同程度あるいは少ない場合において、冷却能力を超える負荷により冷却水温度が上昇する時には、加工条件設定を高い負荷のかかる高出力加工条件から低出力加工条件へ変更する。 （もっと読む）

【課題】波長変換効率を高めると共に、レーザ光出力の安定化を図ることを目的とする。
【解決手段】位相整合温度を周囲温度より高い温度に設定し、さらに、ペルチェ素子１０４の放熱板側にファイバレーザ１０１と電源１１４を配置する。位相整合温度を周囲温度より高い高温に設定することにより、ペルチェ素子１０４が波長変換素子１０２を加熱する方向に作用し、ペルチェ素子１０４の放熱板側が吸熱方向に作用するため、その近傍に配置されたファイバレーザ１０１と電源１１４が冷却される方向に作用し、ファイバレーザ１０１が高温になることを抑制でき、波長変換効率を高めると共に、レーザ光出力の安定化を実現することができる。 （もっと読む）

【目的】活性層温度をほぼ一定に保つ。
【構成】半導体ゲインチップ11に駆動電流が供給されると，半導体ゲインチップ11の前方端面から光が出射する。半導体ゲインチップ11の後方端面および光ファイバ４中のＦＢＧ４ａによって光反射が繰返されてレーザ発振が生じる。ＴＥＣ15上に，半導体ゲインチップ11および温度を測定するサーミスタ13が設けられており，ＴＥＣ15はサーミスタ13の温度が所定温度に保たれるように制御される。半導体ゲインチップ11およびサーミスタ13は共通のサブマウント21上に配置されており，かつヒートパスワイヤ46によって接続されている。サブマウント21およびヒートパスワイヤ46を介して半導体ゲインチップ11の熱がサーミスタ13に伝達される。サーミスタ13を所定温度に保つと，半導体ゲインチップ11（その活性層）の温度も所定温度に保たれる。 （もっと読む）