固体レーザ（１０ａ）は、２つの個別のレーザ微細機械加工ビームを提供すべく両端に出力ポート（２２ａ_１、２２ｂ_１）を有するレーザ共振器（２０ａ）を備える。レーザ微細機械加工ビームをマイクロハーモニック波長出力に変換するために一組の波長変換器（２６ａ_１、２６ｂ_１）を使用することができ、これにより波長変換器への損傷のリスクを低減し、より高い総平均の調波（ハーモニック）パワーが単一のレーザから得られる。両レーザ微細機械加工ビームは、独立的に異なるレーザ作業をなすために異ならせることができ、あるいは実質的に同一のワークピース（５４）に同時に平行な高品質のレーザの作業を可能とすべく実質的に等しいパラメータを持つように適用することができ、また両レーザ微細機械加工ビームは単一のレーザシステム出力（４２ｅ）を得るべく結合することができる。２つのレーザ微細機械加工ビームは、特定の応用に適するように、さらに分割または多重化することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザビームによるターゲットの照射により開始されたプラズマによって生成されるＥＵＶ光源を提供する。
【解決手段】初期ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出する放出領域を有するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマの放出領域に向けてプラズマ内の放出材料を圧縮するために初期ターゲット照射パルス後にプラズマをプラズマ照射パルスで照射するレーザプラズマ照射パルス発生機構とを含むことができる、ＬＰＰのＥＵＶ光源においてプラズマ照射レーザ光パルスを有効かつ効率的に供給するための機器及び方法。プラズマ照射パルスは、関連のより低い臨海密度を有して放出材料の圧縮を達成するために初期ターゲット照射サイトから十分に分離されたプラズマ照射パルスの波長によって形成されたプラズマの領域におけるプラズマ内で発生する吸収をもたらすように、初期ターゲット照射パルスの波長よりも十分に長い波長を有するレーザパルスを含むことができ、かつ放出領域を圧縮することができる。レーザプラズマ照射パルスは、変換効率増大のために好都合に放出されるプラズマを閉じ込めるのに十分なプラズマの融除雲内の空中質量密度を生成することができる。プラズマ照射パルスに対する堆積領域は、好都合に放出されるプラズマの圧縮を保証するために初期ターゲット表面から十分に除去することができる。高変換効率レーザ生成プラズマ極紫外線（ＥＵＶ）光源は、ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマを実質的に取り囲んでプラズマの膨張を抑制するプラズマタンパーとを含むことができる。 （もっと読む）

出射される波長の制限が緩和されたコヒーレント光源を提供することを課題とする。本発明のコヒーレント光源は、第１の光（３）と、第１の光（３）より波長の短い第２の光（４）を同時に出射するコヒーレント光源であり、少なくとも第１の光（３）を出射する光源本体と、第１の光（３）を透過又は反射するミラー（５）と、ミラー（５）の少なくとも一部に設けられた機能性膜（６）と、を備えている。機能性膜（６）は、第２の光（４）により光触媒効果を発現する。 （もっと読む）

フルカラーイメージを表示するのに適したレーザ投影機器（ＬＰＤ）が開示される。このＬＰＤは、改変されたラスタ走査を使って、イメージを制御可能なように生成するために、イメージデータを用いて、１つ以上のレーザによって生成されるレーザビームを変調する様々な技術を含む。本発明の一つの側面で提供されるレーザビームを変調する方法は、レーザビームを音響光学結晶に送達すること、および、レーザビームからの光学エネルギの少なくとも一部を少なくとも１つの副ビームに転換して、音響光学結晶の中に音響波を生成することを包含する。
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【課題】
【解決手段】
ターゲット材料を囲む少なくとも１つの材料の電気的または物理的な特徴に望ましくない変化を起こすことなく、微視的な領域内においてターゲット材料を処理するためのレーザに基づくシステムにおいて、システムが、シードレーザと、光学増幅器と、ビーム発射装置とを具える。シードレーザは、第１の予め定められた波長を有する連続するレーザパルスを発生するためのシードレーザである。光学増幅器は、増幅された連続する出力パルスを得るために、連続するパルスの少なくとも一部を増幅するための光学増幅器である。ビーム発射装置は、増幅された連続する出力パルスの少なくとも１つのパルスをターゲット材料に発射して焦点を合わせるためのビーム発射装置である。少なくとも１つの出力パルスが約１０ピコ秒から１ナノ秒未満の範囲のパルス持続時間を有する。パルス持続時間が熱処理範囲内である。少なくとも１つの焦点を合わせられた出力パルスがターゲット材料内の位置で十分なパワー密度を有し、ターゲット材料の反射力を減少して、ターゲット材料を除くために焦点を合わされた出力をターゲット材料内に効果的に結びつける。 （もっと読む）

本発明は、ポンピング用レーザダイオードと、前記レーザダイオードから発射された基本波長のレーザ光によって励起されるNd:YAG増幅用媒質（この増幅用媒質の出力面は前記基本波長に対するBrewster角でカットしてある）と、周波数二逓倍用の複屈折性のKNbO₃結晶とを備えた、イントラキャビティー二逓倍されたレーザ装置に関する。このレーザ装置は、更に、前記複屈折性結晶の入力面（８）と増幅用媒質（２）と複屈折性結晶（４）（これらは１つのモノリシック共鳴キャビティーを構成するべく互いに一体化されている）との間に挿入された、等方性媒質（３）を備えている。更に、複屈折性結晶の結晶軸“ｃ”は、Brewster表面によって画定される基本波の偏光の直交方向に対して、ゼロでない角度θ_ｃを成す。 （もっと読む）

本発明の一実施形態に係る金属加熱装置は、中心波長が波長範囲２００ｎｍ〜６００ｎｍ内にある光を出力する光出力部を備える。 （もっと読む）

ダイオードレーザによってポンプされる固体マイクロチップアセンブリを受け入れるように変更された標準半導体レーザパッケージを含む小型化レーザパッケージが提供される。本発明に記載される標準パッケージは、小さな寸法、十分に封止されたハウジング、頑丈な取り付け構造物、半導体プロセス加工産業の既知の特徴を有する材料ならびに経済的な製造および組み立て技法特性を特徴とするＴＯおよびＨＨＬパッケージを含む。詳しくは、これらのマイクロチップレーザは、大量生産に有用である高密度技法を用いて製造され、その結果、非常に低い単位コストとなる。同時に、これらのコンパクトなレーザ素子は、いまだに主としてダイオードレーザ製造に共通の標準化された設計、材料および技法に立脚するダイオードレーザからは得られないさまざまな波長および動作特性、ならびに低いノイズ雑音特徴で、高いビーム品質および良好な信頼性特徴のレーザ放射を提供するという課題に解決法を提供する。従って、本発明が教示する方法によって構築されたデバイスは、パワー、信頼性および性能は高度であるが低いコストが不可欠である多数の用途に容易に集積化され、最終的には多数の既存のシステムのダイオードレーザを置き換えるばかりか、多数の新しい商業、生物医学、科学および軍事システムを可能にする。 （もっと読む）

高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源が記載される。ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。

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光学的にポンピングされる、殊にダイオードポンピングされる安定した固体レーザが一次レーザビームを形成し、この一次レーザビームの周波数は、後置接続されており非線形の結晶を備えている１つまたは複数の受動的な共振器を用いて可視スペクトル領域または紫外線スペクトル領域に変換される。比較的僅かな手間でもって、ほぼ等しい振幅を有するちょうど２つの縦方向のレーザモードがレーザ共振器において発振される。これによって全体システムの高い効率、また結果として生じる周波数変換されたレーザビームの非常に低いノイズレベルが達成される。本発明の実施形態にとっては周波数変換されたビームが３つまたはそれ以上の隣接する周波数を有する。本発明の別の実施形態においては、周波数変換されたレーザビームがただ１つの周波数のみを有し、したがって単一モードレーザのビームに相当する。
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