【課題】大型化及び高コスト化を招くことなく、高出力で変調可能なレーザ光を出力する。
【解決手段】励起用の半導体レーザ１１１と、該半導体レーザ１１１によって励起され、レーザ基本波を発振する固体レーザ結晶１１３と、固体レーザ結晶１１３からのレーザ基本波の光路上に配置され、周期的な分極反転構造を有し、レーザ基本波の入射角に応じた変換効率でレーザ基本波の第２高調波を生成する非線形光学結晶１１４と、非線形光学結晶１１４を駆動してレーザ基本波の入射角を変更する駆動機構１１５とを備える。これにより、変調された第２高調波を非線形光学結晶１１４から出力することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光出力を安定に維持し且つ総消費電流を抑制する。
【解決手段】半導体レーザなどの温度を制御するためのペルチェ電流Ｉｐを制限し、光出力を安定に維持できる温度範囲内に収まるような範囲で半導体レーザなどの温度が制御温度から外れることを許容する。
【効果】半導体レーザの駆動電流が最小になる制御温度から実温度が外れることがあり、半導体レーザの駆動電流は増えてしまうが、それより大きくペルチェ電流を減らすことが出来るため、総消費電流を抑制することが出来る。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数が可変の複数の超短光パルスを備えるパルスレーザビームを生じさせるレーザ光源を提供する。
【解決手段】このレーザ光源は、光パルスを出力するファイバ発振器と、光パルスを受け取るために配置されるパルスストレッチャとを備える。光パルスは光パルス幅を有する。パルスストレッチャは、光パルス幅を拡大し、引き伸ばされた光パルスを生じさせる分散を有する。レーザ光源は、引き伸ばされた光パルスを受け取るように配置されるファイバ増幅器を更に含む。ファイバ光増幅器は、引き伸ばされた光パルスを増幅するための利得を有する。レーザ光源は、光パルス幅を減少させる分散を有する自動的に調整可能なグレーティングコンプレッサを含む。グレーティングコンプレッサは、異なった繰り返し周波数についてこの分散を自動的に調整する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、小型，低コストであるとともに、射出される光の干渉性を抑えることが可能な光源装置及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】外部共振器１４において反射された光のうち、レーザ光源１１の方へ向かう光路において、波長変換素子１３を通過することによって所定の波長に変換された光を反射させてレーザ光源１１とは異なる位置へ導くとともに、所定の波長に変換されなかった光をレーザ光源１１の方へ透過させる分離部１２と、該分離部１２において反射された光を光学素子１５に向けて反射させる反射部１７とを備え、外部共振器を透過して前記光学素子に向かう光の光路である第１光路、あるいは、前記分離部において反射され前記反射部を介して前記光学素子に向かう光の光路である第２光路上に、前記第１光路あるいは前記第２光路を進行する光に１／２波長の位相差を付与可能な偏光変換手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させる。
【課題手段】レーザ装置１００を用いて生成されるレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させる方法であって、光源部１０を用いてレーザパルスを生成する工程と、増幅器２０を用いてレーザパルスを増幅させる工程と、増幅器２０を用いて増幅されたレーザパルスから得られた増幅器出力信号を生成する工程と、増幅器出力信号に基づき増幅器のループ５０を用いてレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を制御する工程とを含む。該制御工程は増幅器出力信号に従って増幅部２０の光路を調整する工程を含む。該調整工程は増幅部２０の光路内に分散性物質を位置させることを含む。さらにレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させるための安定化装置と共に、少なくとも一の安定化装置からなるレーザ装置についても記述されている。 （もっと読む）

【課題】スペクトル幅（波長幅）が狭帯域化された、十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光を得る。
【解決手段】固体レーザ装置１６から射出された所定波長のパルスレーザ光ＬＢの波長幅が、調整器１７によって実質的に狭められる。この結果、そのパルスレーザ光の波長幅は、スペクトル狭帯域化といった点から、満足しなければならない波長幅に近づく。そして、そのパルスレーザ光がシード光としてガスレーザチャンバ１８に入射され、増幅される。この結果、要求されるレベルにスペクトル幅（波長幅）が狭帯域化された、十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光が、ガスレーザチャンバ１８から射出される。 （もっと読む）

【課題】十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光を得る。
【解決手段】固体レーザ光源１６から射出された所定波長のパルスレーザ光ＬＢの時間的な幅が、調整器１７によって実質的に拡張される。この拡張後のパルスレーザ光は、光出力増幅器１８の放電時間との整合性、パルスエネルギ、スペクトル狭帯域化といった点から、満足しなければならないパルスの時間的な幅に近づく。そして、その拡張後のパルスレーザ光がシード光として光出力増幅器１８に入射され、増幅される。この結果、要求されるレベルにパルスの時間的な幅が拡張され、これに応じてスペクトル幅（波長幅）が狭帯域化された、十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光が、光出力増幅器１８から射出されることとなる。 （もっと読む）

【課題】構成部品を全て組み合わせる前に固体レーザに入射するレーザ光の波長を容易に確認，調整可能にする。
【解決手段】レーザ発振装置は、半導体レーザ４から出射されたレーザ光の一部をコート面１０において反射することによってレーザ光を半導体レーザ４に戻すことにより固体レーザ発振器２に入射するレーザ光の波長を固定する。 （もっと読む）

【課題】微小出力付近での安定したレーザ出力を行うことが可能なレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】レーザ発振器１１から出射されたレーザビームＬ１をビームエクスパンダ１３．１４や集光レンズ１６を配した光路を通してワークＷに照射して加工するものであって、レーザ発振器１１からのレーザ光Ｌ１を、透過率を調整してワーク側へ出射するレーザ光Ｌ２と反射により光路から外して出射するレーザ光Ｌ３とに分割可能な光変調器１２と、その光変調器１２によって反射されたレーザ光Ｌ３を吸収するダンパ１７と、非加工時にレーザ発振器１１から一定の微小出力でレーザ光Ｌ１を出射させておき、その微小出力より小さい出力でワークにレーザ光Ｌ２を照射する場合には光変調器１２の透過率を制御し、その微小出力以上の出力でワークにレーザ光Ｌ２を照射する場合にはレーザ発振器１１を制御するようにしたコントローラ２０とを有するレーザ加工装置１。 （もっと読む）

【課題】 加工対象物上の加工面が相対的に傾いている場合であっても、加工パターンを正しく加工することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザ光Ｌの出射点に基づいて予め定められる加工基準面上に設けられる３以上の基準点の位置座標を記憶する基準点記憶部４０１と、レーザ光Ｌを加工基準面上で走査させ、各基準点のいずれか２つを加工対象物上に表示する走査制御部４０７と、表示された基準点及び当該基準点に対応する加工基準面上の基準点間における位置の差分情報に基づいて、各基準点の位置座標を加工基準面内で変更する基準位置変更処理部４０２と、基準位置変更処理部４０２による変更後の基準点の位置座標及び変更前の基準点の位置座標に基づいて、加工基準面上の照射位置が規定された加工パターン情報の位置座標を変換する座標変換処理部４０４により構成される。 （もっと読む）

【課題】第２高調波を発生する波長変換素子を、プロジェクタ装置の光源として用いる場合に、高い周波数帯域における第２高調波の出力を精度よく制御すること。
【解決手段】第１の波長のレーザ光を出力するレーザ光源部３９ｇと、第２の波長のレーザ光を出力するレーザ励起部４０と、第２高調波を透過させる波長変換素子４１とを備えて、その第２高調波を表示用のレーザ光とする。そして、第２高調波を検出し、サーボ信号に変換する検出器４４ｇと、サーボ信号を電圧変換するＩ／Ｖアンプ４５ｇと、画像信号に基づいて生成された駆動信号に、反転したサーボ信号を加算して、所定の基準値内でレーザ光の駆動信号を生成する加算器３６ｇと、駆動信号の周波数の増加に伴い、振幅特性と位相特性を維持して、駆動信号をレーザ光源部３９ｇに供給する制御部３８ｇとを備えた。 （もっと読む）

【課題】出射される基本波の発振波長を切り替えることができるファイバ装置、このファイバ装置と波長変換素子を組み合わせた波長変換装置及び、この波長変換装置を光源として用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】出射されるレーザの基本波５の発振波長を切り替え可能なファイバ装置である。レーザ活性物質を含み、少なくとも１つのファイバグレーティング２、４が形成されたファイバ３を有するレーザ共振器と、ファイバ３に励起光を入射するレーザ光源１とを備え、レーザ共振器から出射されるレーザの基本波５の発振波長が切り替え可能となるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 基本周期を形成する層数が少なく、完全フォトニックバンドギャップを呈する周波数帯域が広い３次元フォトニック結晶を用いた、単一モード動作する共振器及びそれを有するデバイスを得ること。
【解決手段】 ３次元フォトニック結晶中に周期欠陥部を有する共振器であって、該３次元フォトニック結晶は、屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した周期構造部を有し、複数の層は所定の周期構造より成る第１〜第４の層が積層された４つの層を有し、該周期欠陥部は該第２の層または該第４の層内に形成される柱状構造が有する軸上且つ該第２の層または該第４の層に配置される柱状構造であること。 （もっと読む）

【課題】更に小型化する際に問題を生じない半導体ウェーハを提供する。
【解決手段】欠陥が減少した領域を有する単結晶半導体ウェーハであり、この欠陥が減少した領域は０／ｃｍ^２〜０.１／ｃｍ^２の範囲のＧＯＩ関係欠陥の密度を有し、全体として半導体ウェーハの平坦な平面の１０〜１００％の単位面積割合を占めており、その際半導体ウェーハの残りの領域は欠陥が減少した領域より明らかに高い欠陥密度を有する。 （もっと読む）

【課題】光の形状や伝搬特性の再現性を維持しつつ転写後の大きさや拡がり角を独立に制御することができる伝送光学系を提供する。
【解決手段】本発明の伝送光学系１０は、像転写光学系と、光形状等加工手段１６を備える。像転写光学系は、光路上の所定の焦点位置を基準点として、基準点の光の像を基準点から所定距離を隔てた投影点に転写する。光形状等加工手段１６は、基準点に配置されており、入射する光の形状又は大きさを限定すること及び当該光の拡がり角を変化させることのうち、少なくともいずれかを行なう。光形状等加工手段は、アパーチャ、レンズまたはこれらの組み合わせからなる。 （もっと読む）

【課題】複数の波長を切り替えて発生することが可能で、Ｗクラスの大きな光出力を持つ高信頼性のレーザ光源装置及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】励起光を出射するレーザ光源２８と、レーザ光源２８からの励起光が入射されるファイバ２６と、複数の反射ピークを持つ第１及び第２のファイバグレーティング２９、３０と、を有するファイバレーザ２２と、ファイバレーザ２２から出射される基本波を高調波に変換する波長変換部２３と、第２のファイバグレーティング３０の反射ピークの反射波長をシフト可能な反射波長可変部３３と、反射波長可変部３３によりファイバレーザ２２の発振波長を制御すると共に、波長変換部３２の位相整合条件を制御する制御部３４と、を備え、第１のファイバグレーティング２９の隣接する反射ピークの間隔と第２のファイバグレーティング３０の隣接する反射ピークの間隔とは異なる。 （もっと読む）

【課題】高出力な高調波レーザを安定して得ることができる波長変換装置を提供する。
【解決手段】波長変換装置は、レーザ活性物質を含み、片側端部に反射面を設け、反射面近傍にファイバグレーティングを配置したエンドポンプ型のレーザファイバ３と、励起レーザを出力する励起光源１と、励起レーザをレーザファイバに取り込む励起レーザ取り込み部４と、レーザファイバから発生した基本波を高調波に変換する波長変換素子５と、レーザファイバの外部に配置され、ファイバグレーティング２とレーザ共振器を構成する後ろ側反射面６とを備える。 （もっと読む）

レーザシステムの実施形態では、パルス光ファイバレーザ光源（１２）の出力を使用するので有利であり、レーザ光源の出力のパルス時間プロファイルをプログラムすることにより或る範囲のパルス形状を用意することができる。パルスファイバレーザをピークパワー限界まで上げて、不所望の非線形現象の発現を防止する；従って、これらの装置のレーザ出力パワーは次に、ダイオード励起固体光パワーアンプ（ＤＰＳＳ−ＰＡ）１６において増幅される。ＤＰＳＳ−ＰＡ１６は、パルスマスター発振器高出力ファイバアンプ（１４）の所望の低ピークパワー出力をずっと大きいピークパワーレベルに増幅することができるので、利用可能なエネルギー／パルスを特定のパルス繰り返し周波数において効果的に大きくすることもできる。パルスマスター発振器高出力ファイバアンプ及びダイオード励起固体パワーアンプの組み合わせは、タンデム固体光アンプ（１０）と表記される。 （もっと読む）

【課題】大型化を招くことなく、良好なビーム品質のレーザ光を出射する。
【解決手段】励起用の半導体レーザからの励起用レーザ光によって励起されるＮｄが添加され、レーザ発振方向（Ｚ軸方向）に垂直な方向に関するＮｄの濃度プロファイルにおける濃度０近傍からの立ち上がり形状がゆるやかに増加するスロープ状であるガドリニウムバナデイト（ＧｄＶＯ_４）の一軸性単結晶を含む固体レーザ結晶１０を備える。これにより、固体レーザ結晶１０では中央にピークを持つ所望の吸収量分布を容易に得ることができる。 （もっと読む）

平均波長変換出力またはパルスエネルギの制御。シードパルスが生成、増幅および波長変換され得る。波長変換出力またはパルスエネルギは、増幅出力またはパルスエネルギを実質的に変化させずに、変換効率を調整することによって制御され得る。平均波長変換出力は、増幅パルス周期と比較可能な時間にわたって平均増幅パルス出力を調整せずに当該時間にわたって制御され得る。光学システムは、光増幅器に結合されたシード源；光増幅器に結合された波長変換器；および制御装置を含む。制御装置はシード源、光増幅器、または波長変換器に結合される。制御装置は、増幅パルス周期と比較可能な時間にわたって平均増幅パルス出力を調整せずに当該時間にわたって平均波長変換出力を制御できる。択一的に制御装置は、増幅パルスエネルギを実質的に変化させずに変換効率を調整することによって波長変換パルスエネルギを制御できる。
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