【課題】金属のマイグレーションによる絶縁破壊が生じず、製造時の寸法変化が防止され、絶縁パターンが視認不能な導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板１０は、画像に重ねられて使用されるものであって、透明絶縁基板の片面に、透明絶縁材料と該透明絶縁材料内に２次元ネットワーク状に配置された導電性繊維とを含む透明導電膜を備え、前記透明導電膜には、絶縁ラインＢから構成された絶縁パターン１３が形成されて所定の導電パターンが設けられ、絶縁ラインＢは、前記導電性繊維の少なくとも一部が除去されて絶縁化されており、前記導電パターンは、画像上に配置される表示領域αと、外部引き回し配線が直接接続される端子領域βとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１上の表示領域１３に、透明基体内に網状部材が配置される基礎膜ａを印刷する工程と、基礎膜ａにレーザ光Ｌを照射することにより、空隙を形成して、透明導電膜１２とする工程と、絶縁基板１１上の配線領域１５に、透明導電膜１２の導電部Ｃに電気的に接続する配線ライン１４を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線領域の形成に手間がかからず製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１上の表示領域１３及び配線領域１５に、透明基体内に網状部材が配置される基礎膜ａを形成する工程と、基礎膜ａ上の配線領域１５に、配線ライン１４を形成する工程と、基礎膜ａ上の表示領域１３に対応する部位にマスク手段５０を形成して、基礎膜ａのうち配線領域１５における配線ライン１４に対応する部位以外の部位をドライエッチングにより除去する工程と、基礎膜ａのうち表示領域１３に対応する部位にレーザ光Ｌを照射することにより、空隙を形成して、透明導電膜１２とする工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、汎用の表示装置の表示パネルに取り付けてもモアレが発生しにくく、しかも、高歩留まりで生産することができる導電性フイルム及びそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】導電性フイルム１０は、透明基体１２と、透明基体１２の一方の主面に形成された導電部１４とを有し、導電部１４は、メッシュパターン２０から構成されており、当該メッシュパターン２０の開口部１８はひし形状を有し、そのひし形状の頂角部（２θ）は６０°〜１２０°である。 （もっと読む）

【課題】配線領域の形成に手間がかからず製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１上の表示領域１３及び配線領域１５に、透明基体内に網状部材が配置される基礎膜ａを形成する工程と、基礎膜ａ上の表示領域１３に対応する部位にマスク手段を形成して、基礎膜ａのうち配線領域１５に対応する部位をエッチングにより除去する工程と、基礎膜ａのうち表示領域１３に対応する部位にレーザ光Ｌを照射することにより、空隙を形成して、透明導電膜１２とする工程と、配線領域１５の絶縁基板１１上に、透明導電膜１２の導電部Ｃに電気的に接続する配線ライン１４を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の透明導電性基板は、ガスバリア層と金属微粒子を含有する網目状のラインから有する構成からなり、このような構成にすることで、透明性、導電性、さらにはガスバリア性に優れた透明導電性基板を提供することにある。
【解決手段】
基板、ガスバリア層、及び金属微粒子を含有する網目状のラインを有する構成の透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】導電積層体をタッチパネル等に使用する電極部材に加工形成する際のアルカリ処理に対し耐性を有する導電積層体を提供する。
【解決手段】基材１の少なくとも片面に、金属系ナノワイヤーからなるネットワーク構造を有する導電成分を含む導電層２と、保護層３とを積層した導電積層体であって、該保護層３が下記（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす導電積層体。（ｉ）構造内に２個以上の重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を有する化合物が重合反応した構造を含む高分子からなる。（ｉｉ）保護層の全質量に対する前記炭素−炭素二重結合基由来の構造の炭素−炭素二重結合基の単位構造（＞Ｃ＝Ｃ＜：式量２４）部分の質量含有率が９質量％以上である。（ｉｉｉ）ＦＴ−ＩＲ法にて求めた前記炭素−炭素二重結合の伸縮振動のピーク強度ν１と炭素−水素単結合（Ｃ−Ｈ）の伸縮振動のピーク強度ν２の比ν１／ν２がν１／ν２≦０．３である。 （もっと読む）

本開示は、ナノ構造系透明導電体への修正に関し、この修正によって、様々な調節可能な散乱度、様々な材料、および様々なマイクロ構造およびナノ構造によって、ヘイズ／光散乱の増加を達成する。種々の実施形態は、様々な構成において、ナノ構造系透明導電体と組み合わせることができる様々な光散乱材料または媒体について説明する。散乱媒体は、多様な材料ならびに形態（マイクロ構造およびナノ構造を含む）であり得、したがって、透明導電体を組み込むデバイスの性能パラメータを満たすように、光散乱のカスタマイズおよび調節が可能である。
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【課題】透明性、導電性および平滑性に優れ、さらには、各種機能を有する機能層を積層した構成の透明導電性基板を提供する。
【解決手段】基板４、機能層５、及び金属粒子からなる網目状のライン１と樹脂２からなる透明導電層を含む構成とする透明導電性基板６であり、該透明導電層の金属微粒子は、網目状のラインを構成し、網目状のラインは、透明導電層の少なくとも一方の表層に存在し、面ＡのＲａ値が４００ｎｍ以下である透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】 繊維状導電性物質を使用し、特に静電容量式のタッチパネル用の透明電極等として使用する場合でも、異方性に由来する問題が生じずに、良好に使用できる透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 帯状に延びる支持体フィルム上に繊維状導電性物質を含有する透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電層中の前記繊維状導電性物質がランダムに配向しており、前記帯状に延びる支持体フィルムの長手方向に対して垂直に入射させた光による輝度ＬＸを、前記帯状に延びる支持体フィルムの短手方向に対して垂直に入射させた光による輝度ＬＹで除した値が１．３以下であることを特徴とする透明導電フィルム、その製造方法、及びタッチパネル。 （もっと読む）

【課題】混合ナノ粒子を利用した透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は基板部及び導電部を備える。前記基板部は少なくとも１つのプラスチック基板を備える。前記導電部は少なくとも１つの透明導電フィルム及び少なくとも１つの導電ナノ粒子群が同時に形成されたものであり、前記透明導電フィルムは前記プラスチック基板上に形成される。前記導電ナノ粒子群は前記透明導電フィルム内に複数混入或いは組み込まれる導電ナノファイバーである。 （もっと読む）

【課題】銀塩乳剤層を露光、現像処理することで透明導電膜を作製する場合において、金属銀部にキセノンランプからの光を照射しても、表示品質上の劣化等をもたらすことなく、金属銀部の低抵抗化を図ることができ、作製される透明導電膜の表面抵抗を低下させることができる透明導電膜の製造方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】支持体１２上に銀塩乳剤層２４を有する感光材料を露光処理する第１露光工程と、露光後の銀塩乳剤層２４を現像処理して、支持体１２上に金属銀部１４による導電パターン１６を形成する現像工程とを有する透明導電膜１０の製造方法において、さらに、現像処理後の金属銀部１４にキセノンフラッシュランプからのパルス光を照射する第２露光工程を有し、感光材料における銀塩乳剤層２４の銀／バインダーの体積比が０．５／１以上６／１以下である。 （もっと読む）

【課題】光線透過率が高く維持されるとともに、表面抵抗率が低く、導電性に優れた透明電極基板、その製造方法、該透明電極基板を有する電子デバイス及び太陽電池を提供すること。
【解決手段】透明基材の一方の面に、導電性金属メッシュ層を埋設した透明導電層が積層されてなる透明電極基板、透明基材の一方の面に第１の透明導電層を形成させ、同透明導電層上に導電性金属層を形成させ、同導電性金属層をフォットレジストパターニング処理することにより導電性金属メッシュ層を形成させ、同金属メッシュ層の面に第２の透明導電層を形成させて同導電性金属メッシュ層を同透明導電層により被覆することを特徴とする透明電極基板の製造方法、同透明電極基板を有する電子デバイスならびに太陽電池である。 （もっと読む）

【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第１のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第２のコーティングユニット、第３のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第１のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第１のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第１のコーティングに形成され、複数の第１の酸化層を有する第１の酸化ユニットと、複数の第２の酸化層を有する第２の酸化ユニットを備え、前記複数の第２の酸化層と前記複数の第１の酸化層とは交互に積層されている。第２のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第２のコーティングを有する。第３のコーティングは、第２のコーティングに形成された第３のコーティングを有する。導電ユニットは、第３のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低下させエネルギー変換効率を向上させる。
【解決手段】透明導電性基板２は、支持基板４上に金属細線補助電極６と透明導電層８とがこの順に形成されている。透明導電性基板２では、透明導電層８が、導電性ポリマーと水酸基含有非導電性ポリマーとを含有し、前記水酸基含有非導電性ポリマーが、分子中に特殊な構造を有する繰返し単位を含有する。 （もっと読む）

【課題】厚さ５〜２０ｎｍの銀を含む金属薄膜からなり、抵抗率が低く且つ透過率が高い透明導電薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板にイオンボンバード処理を施した後、この透明基板上にイオンプレーティングにより厚さ５〜２０ｎｍ、好ましくは厚さ５〜１０μｍの銀を含む金属薄膜を蒸着させて、抵抗率が１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、波長３００ｎｍおよび５００ｎｍの光の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である透明導電薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】銀を含む金属薄膜からなり、抵抗率が低く且つ透過率が高い透明導電薄膜を提供する。
【解決手段】厚さ５〜２０ｎｍの銀を含む金属薄膜からなり、体積抵抗率が１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、波長３００ｎｍと波長５００ｎｍとピーク波長のいずれかの光の透過率が７０％以上である。波長７００ｎｍおよび８００ｎｍの少なくとも一方の光の透過率が６０％以上であるのが好ましく、ピーク波長の光の透過率が８０％以上であるのが好ましい。金属薄膜は、銅、亜鉛およびインジウムからなる群から選ばれる１種以上を含むのが好ましく、金属薄膜中の銅、亜鉛およびインジウムからなる群から選ばれる１種以上の含有量が１０体積％以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】保存性に優れ、かつ高い導電性と良好な透明性および保存性に優れた透明導電膜を形成することができる銀ナノワイヤの製造方法、および導電性、透明性、保存性に優れた透明導電膜を提供する。
【解決手段】精製処理を経た銀ナノ粒子を核粒子として、還元性を有する化合物と形態制御剤とを含む溶液中で銀イオンを還元することを特徴とする銀ナノワイヤの製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性、耐久性、及び長波長の透過率を向上させることができる導電性組成物、並びにこれを用いた透明導電体、タッチパネル及び太陽電池の提供。
【解決手段】平均短軸径が５ｎｍ〜４５ｎｍの導電性繊維と、ＳＰ値が、１８ＭＰａ^１／２〜３０ＭＰａ^１／２である非水溶性ポリマーと、を含む導電性組成物、この導電性組成物を含んでなる透明導電体、タッチパネル、及び集積型太陽電池である。前記導電性繊維としては、金属ナノワイヤーが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低抵抗と透明性とを両立させ、かつ、透明導電層の剥がれを防止することができる透明電極層を備えた静電容量式タッチパネル用の透明導電フィルムを提供すること。
【解決手段】静電容量式タッチパネル用の透明導電フィルム１は、透明な樹脂からなる基材フィルム１１と、基材フィルム１１の表面に形成された透明電極層２とを備えている。透明電極層２は、互いに平行に形成された複数の金属細線２２と、複数の金属細線２２のいずれかと電気的に接続されるようにパターン形成された透明導電層２１とを有する。金属細線２２の厚みは、２０ｎｍ〜１μｍである。 （もっと読む）