【課題】 有機高分子フィルム基材上に、ＺｎＯ系薄膜を形成した透明導電フィルムであって、ＺｎＯ系薄膜の膜厚が薄くなった場合（特に膜厚が１５０ｎｍ程度以下の場合）にも、低抵抗値であり、かつ湿熱環境下においても抵抗値の変化率が小さい、透明導電フィルムを提供すること。
【解決手段】 有機高分子フィルム基材上に、Ａｌ_２０_３薄膜が形成されており、その上にＧａをドープしたＺｎＯであるＧＺＯ薄膜が形成されていることを特徴とする透明導電フィルム。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、カーボンナノチューブを含むコーティングが設けられた基材を含むグレージングを提供する。前記グレージングは、窓板間のスペースの境界を画す、空間を介して配置された二枚の窓板を含むＩＧユニットであり得る。前記ＩＧユニットは、カーボンナノチューブを含む透明導電体コーティングが設けられた少なくとも一つの外部表面を有する。また、前記グレージングは、二枚のガラスの窓板と、その間に挟持されたカーボンナノチューブを含む中間膜とを含む合わせガラスアセンブリであり得る。単体基材の実施形態も提示されている。いくつかの実施形態において、前記コーティングは、誘電体膜およびカーボンナノチューブの両方を含む。 （もっと読む）

【課題】導電性、耐熱水性及び耐高温高湿性のいずれもが優れた導電性塗膜を形成できる導電性高分子塗料を提供する。また、導電性、耐熱水性及び耐高温高湿性のいずれもが優れた導電性塗膜を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子塗料は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、（メタ）アクリルアミド基を１分子中に２つ以上有する多官能化合物と、溶媒とを含有する。本発明の導電性塗膜は、上述した導電性高分子塗料が塗布され、前記多官能化合物が重合されて形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】熱成形（二次成形）によって制電性が低下せず、むしろ制電性も透明性も実質的に向上する制電性樹脂成形品と、これを更に熱成形した二次成形品を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂の透明な基材の表面に、曲がりくねって絡み合う線径が１００ｎｍ以下、アスペクト比が５以上の極細の長炭素繊維を２〜１５重量％含んだ厚さ０．１５〜３．５μｍの熱可塑性樹脂の透明な制電層を有する成形品であって、３倍の成形倍率で更に熱成形したときの制電層の表面抵抗率が熱成形前の制電層の表面抵抗率以下となり、また、１．１〜１０倍の成形倍率で更に熱成形したときの全光線透過率が６０％以上、ヘーズが２０％以下、制電層の表面抵抗率が１０^１２Ω／□未満となる制電性樹脂成形品とする。二次成形品は、この制電性樹脂成形品を１．１〜１０倍の成形倍率で更に熱成形したものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さい耐熱性アクリル系透明樹脂基板にハードコート層ならびに無機バリア層を有する事により表面硬度を改良して表面硬度、光学特性、耐熱性が良好な無機バリア層を有した耐熱性アクリル系樹脂積層体にスズ添加酸化インジウムをはじめとした透明導電膜を形成した透明導電性積層体、すなわち光学特性、抵抗値の安定性、耐熱安定性に優れたディスプレイ用透明電極に使用できる透明導電性積層体を提供することにある。
【解決手段】メタクリル酸メチル単位４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位５〜２０質量％、及び芳香族ビニル化合物単位５〜４０質量％を共重合して得られる耐熱性アクリル系樹脂透明基板にハードコート層ならびに無機バリア層を有する事で得た耐熱性アクリル系樹脂積層体に透明導電膜を形成することにより光学特性、抵抗値の安定性、耐熱安定性に優れた透明導電性積層体が出来る。 （もっと読む）

【課題】光学透明性、耐熱性、耐液晶性、寸法安定性、接着性を持ち、液晶表示装置およびＥＬ表示装置における基板ガラスの代替品として、また、これらの装置の偏光フィルム、表面保護フィルム、位相差フィルム、透明導電性フィルム、光拡散フィルム、ＥＬ表示装置用フィルム、透明導電性複合材料、反射防止フィルムなどに用いることができる架橋樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】特定の反応性シリル基を有する環状オレフィン系付加型共重合体を含有し、さらに必要に応じて、オルガノシラン類や金属酸化物などを含有する組成物を成形してなる樹脂フィルムをシロキサン結合で架橋してなる架橋樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】全光線透過率が高くかつ着色が抑制された高度の透明性を有する透明導電膜付きフィルム、およびこれを用いたディスプレイ用基板ならびにディスプレイ。を提供する。
【解決手段】透明基材と透明導電性膜とからなり、５５０ｎｍの光線に対する消衰係数が０．０５以下でありかつ黄色度（ＹＩ）ＹＩが０．５〜３．０であることを特徴とする、透明導電膜付きフィルム、及びこの透明導電膜付きフィルムを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】 耐酸性に優れ、熱処理による抵抗変化が小さい、透明導電膜付き基板の提供を目的とする。
【解決手段】 基板上にスパッタリング法によりＳｎ含有酸化インジウム膜が形成され、プラズマ処理された透明導電膜付き基板において、前記Ｓｎ含有酸化インジウム膜は、ＪＩＳ Ｋ ７１９４(1994)で定義される４探針法により求められる比抵抗が４５０μΩ・ｃｍ以下であり、かつＪＩＳ Ｂ ０６０１(2001) で定義される表面粗さＲａが２ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電膜付き基板である。 （もっと読む）

【課題】低抵抗率で、かつ、耐熱・耐湿性に優れ、耐薬品性が良好な酸化亜鉛を母材とする透明導電膜を提供する。
【解決手段】アルミニウム添加酸化亜鉛（ＺＡＯ）にインジウムを添加した透明導電膜で、アルミニウムの含有量をＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ＋Ｇａ）の原子比で２％を超え６％未満、インジウムの含有量をＩｎ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ＋Ｇａ）の原子比で０．１％を超え１．０％未満、かつガリウムの含有量をＧａ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ＋Ｇａ）の原子比で０．１％を超え１．０％未満とすることにより、低抵抗率で、かつ、耐熱・耐湿性に優れ、耐薬品性が良好な透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐薬品性に優れ、平均線膨張係数が低く、かつ、透明性が高く、薄膜デバイス形成工程で反りや変形、配線の亀裂が生じにくいことを特徴とする表示素子用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】一般式（３）


（式中、Ａ³は明細書中の記載と同じ意味を表す。）で表される基を繰り返し単位として有する化合物を含むアリルエステル熱硬化性樹脂を用いた透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】低抵抗率で、かつ、耐熱性に優れ、耐薬品性が良好な酸化亜鉛を母材とする透明導電膜を提供する。
【解決手段】アルミニウム添加酸化亜鉛（ＺＡＯ）にガリウムを添加した透明導電膜で、アルミニウムの含有量をＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｇａ）の原子比で２％を超え６％未満、かつガリウムの含有量をＧａ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｇａ）の原子比で０．１％を超え１．０％未満とすることにより、低抵抗率で、かつ、耐熱性に優れ、耐薬品性が良好な透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗率で、かつ、耐熱・耐湿性に優れ、耐薬品性が良好な酸化亜鉛を母材とする透明導電膜を提供する。
【解決手段】アルミニウム添加酸化亜鉛（ＺＡＯ）にインジウムを添加した透明導電膜で、アルミニウムの含有量をＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で２％を超え６％未満、かつインジウムの含有量をＩｎ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で０．１％を超え１％未満とすることにより、低抵抗率で、かつ、耐熱・耐湿性に優れ、耐薬品性が良好な透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 高抵抗値を有し、かつ高温・高湿の環境下における信頼性の良好な結晶性透明導電性薄膜を提供すること。
【解決手段】 酸化インジウムと酸化スズの合計に対して酸化スズを９重量％以下の割合で含有する酸化インジウム・スズを主成分としてなる結晶性透明導電性薄膜であって、当該結晶性透明導電性薄膜は、窒素を０．４５原子％以下の割合で含有することを特徴とする結晶性透明導電性薄膜。 （もっと読む）

【課題】 厳しい環境下でも抵抗値の変動が少なく、摺動特性が良好なタッチパネル用導電性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 １５０℃で１時間過熱した場合の長手方向（ＭＤ）及び横手方向（ＴＤ）の収縮率がいずれも０．５％以下である基体に、導電膜を付着させることにより得られ、前記基体が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを少なくとも含み、前記導電膜が金属酸化物導電膜であり結晶化部分を５０重量％以上含むことを特徴とするタッチパネル用導電性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れ、９０℃の高温や８５℃８５％の高温高湿においても抵抗値の変化が小さく、耐摺動性に優れた透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 少なくともポリエチレンナフタレートフィルムを含む基体上に導電膜を形成してなる透明導電性フィルムであって、前記基体の全光線透過率が８８％以上であり、前記基体の透明導電性フィルムの１５０℃で３０分加熱した後における長手方向（ＭＤ）及び横手方向（ＴＤ）の収縮率がいずれも０．３％以下であることを特徴とする透明導電性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性に優れた酸化亜鉛系透明導電性基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】メタクリル酸メチル単位４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位５〜２０質量％、及び芳香族ビニル化合物単位５〜４０質量％を共重合して得られる耐熱アクリル系樹脂透明基板上に、直接酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層、無機バリア層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造法を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、
Ａ．ハードコート層 及び
Ｂ．無機バリア層
が形成されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】 抵抗が低く、理論相対密度が高く、強度が高く、インジウム含有量が低減されており、スパッタリング法を用いて透明導電膜を成膜する際に発生する異常放電を抑制し安定にスパッタリングを行うことができるターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 インジウム、錫及、亜鉛及び酸素を含有し、Ｘ線回折（ＸＲＤ）によってビックスバイト構造化合物のピークのみが実質的に観測されることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】高温で各種機能層を形成し得る優れた耐熱性と光学特性とを併有するおよびフィルムの製造方法、並びに、これを用いたガスバリア層付フィルム、透明導電層付フィルムおよび画像表示装置を提供する
【解決手段】 下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する樹脂からなり、かつ前記ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が２００℃以上であって、１００℃〜（Ｔｇ−２０)℃までの測定範囲での線熱膨張係数が−２０〜３０ｐｐｍ／℃であることを特徴とするフィルム。
【化１】


〔一般式（１）中、Ｘは単環式もしくは縮合多環式の脂肪族基を含有し、構成する炭素原子数が４〜３０である４価の連結基を表す。Ｙは単環式もしくは縮合多環式の芳香族基、または、単環式もしくは縮合多環式の脂肪族基を含有し、構成する炭素原子数が４〜３０である２価の連結基を表す。〕 （もっと読む）