【課題】密度が十分に高く、比抵抗も十分に低い酸化亜鉛系スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ドーパント材料としてγ−Ａｌ₂ Ｏ₃ を用いて酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを製造し、この酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により酸化亜鉛系透明導電膜を成膜する。γ−Ａｌ₂ Ｏ₃ は１〜３重量％含有させる。酸化亜鉛系スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛粉末とγ−Ａｌ₂ Ｏ₃ 粉末とを混合し、この混合粉末を１１５０〜１３００℃で焼結することにより製造する。γ−Ａｌ₂ Ｏ₃ の粒子サイズは好ましくは０．５μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】
基板の加熱温度の低い成膜条件下においても、従来の積層構造よりも低抵抗であり、かつ耐熱性・耐湿性に優れた積層型透明導電膜を提供する。
【解決手段】
基板上に、酸化インジウムを主成分とする透明導電膜層（Ａ）と亜鉛、アルミニウム、インジウムおよび酸素からなり、アルミニウムがＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で２％を超え６％未満の割合で含有され、かつインジウムがＩｎ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で０．１％を超え１％未満の割合で含有されている酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜層（Ｂ）とをこの順に積層してなり、透明導電膜層（Ａ）の膜厚を１０ｎｍ以上とする積層型透明導電膜であり、低抵抗であり、耐湿性・耐薬品性・均等性に優れた透明導電膜となる。 （もっと読む）

本発明は、プラスチックフィルム上に有機電極層が形成された透明電極を開示するところ、フィルム厚さ５０〜１００μｍを基準に熱機械分析法によって５０乃至２５０℃範囲で測定した平均線膨脹係数(ＣＴＥ)が５０．０ｐｐｍ/℃以下であり、黄色度が１５以下であるポリイミドフィルムと、及びフィルム厚さ５０〜１００μｍを基準で熱機械分析法によって５０乃至２５０℃範囲で測定した平均線膨脹係数(ＣＴＥ)が５０．０ｐｐｍ/℃以下で黄色度が１５以下であるポリイミド樹脂上に、伝導性物質が分散された電極層を含むことで耐熱性が優秀で、これを含む機器が過熱されるか、または高温である場合にも短絡されるなどの問題を起こさないで透明で電気伝導度が高い透明電極を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】湿熱耐久性、透明性及び導電性に優れた導電性膜、導電性膜を形成し得る導電性ポリマー組成物、導電性ポリマー材料、及びデバイスの提供。
【解決手段】導電性ポリマーと、下記一般式（１）で表される化合物と、を含む導電性膜。一般式（１）中、Ｙは、水素原子、炭素原子、ヘテロ原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基に由来する基、アルキル基に由来する基、アシル基に由来する基、アリール基に由来する基、アルコキシ基に由来する基、アリールオキシ基に由来する基、又はヘテロアリール基に由来する基を表す。Ｌは単結合、２価の炭化水素基、２価のヘテロ原子、又はイミノ基を表す。ｍは、１以上の整数を表す。
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【課題】高導電性、高耐久性、高透明性、易成型性などを有する透明高分子導電膜を提供する。
【解決手段】電気泳動法により測定した重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸、およびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）を含有する透明高分子導電膜。および、重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸の水溶液と、ポリスチレンスルホン酸を含有したポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）の水分散液とを混合し、その混合液をキャストして形成する透明高分子導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化物透明導電層のみの場合と比較して表面抵抗が小さく、また、外部からの力学的応力に対して高い耐久性を有するとともに高い耐熱性を有し、かつ、パターニング精度の高い導電性積層体を提供すること。
【解決手段】透明高分子フィルム（Ｓ）の少なくとも一方の面に導電層が積層された導電性積層体において、前記導電層を、透明導電層（Ｅ）の表面に金属薄膜層（Ｍ）を有するものとし、前記透明導電層（Ｅ）を、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｆ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｔｅ、ＧｅおよびＷからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む非晶質の酸化物とし、前記金属薄膜層（Ｍ）を、Ａｌ、Ｔｉ、およびＮｄからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む層（Ｍ−１）を含むものとする。 （もっと読む）

【課題】導電性が良好であるとともに、耐熱性に優れた導電体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｗ、Ｎ、Ｆ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｐ及びＢｉからなる群から選ばれる１又は２以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層（Ｚ）が２層以上設けられており、該２層以上のうち少なくとも１層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が０．０１〜４原子％である第２層（Ｚ２）１２であり、該第２層（Ｚ２）１２と基板１０との間に、該第２層（Ｚ２）よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第１層（Ｚ１）１１が設けられていることを特徴とする導電体。 （もっと読む）

【課題】透明性および導電性に優れるだけでなく、特に基材フィルムと透明導電塗膜層との密着性、および耐湿熱性に優れた導電性フィルム、それを用いた耐湿熱性に優れたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】導電性フィルムにおける透明導電塗膜層として、カチオン性のポリチオフェンとポリアニオンとを含む導電性高分子、特定量のエポキシシクロ炭化水素基を有するシラン化合物、および特定量の水溶性ポリエステルを構成成分として含む透明度電塗膜層を用いる。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐食性に優れたフレキシブル透明膜を簡易に形成することができる多層膜の形成方法及び多層膜を提供すること。
【解決手段】一つのスパッタリング用電極上に、異種成分からなる複数の素材を張り合わせて取り付け、前記複数の素材同士の境界の上方に分離板を設けておき、放電行いながら基板を前記ターゲット上を移動させて該基板上に多層膜を形成すること特徴とする多層膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜厚が極めて薄く耐熱性に優れた透明電極、透明導電性基板および透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】基板（Ｃ）上に、酸化インジウムを主成分とする結晶性透明導電膜（Ａ）と酸化インジウムを主成分とする非晶質性透明導電膜（Ｂ）がスパッタリング法によって順次形成された積層構造の透明電極であって、結晶性透明導電膜（Ａ）は膜厚が５〜４０ｎｍであり、非晶質透明導電膜（Ｂ）は膜厚が２〜１０ｎｍであり、表面抵抗が７０〜３０００Ω／□であることを特徴とする透明電極；前記透明電極が、透明基板の表面に形成されてなる透明導電性基板；前記透明導電性基板を用いて得られた透明タッチパネルなどによって提供する。 （もっと読む）

【課題】
ＩＴＯを積層した透明導電性基材に比して、低いシート抵抗値を有すると同時に外部からの熱に対して耐熱性を備えてなるような、長期間にわたり安定した性能を発揮できる耐性を備えた透明導電性基材を提供する。
【解決手段】
高分子樹脂フィルムよりなる透明基板と、導電性を備えた物質を積層してなる導電性層と、導電性を備えると同時に耐熱性をも備えた物質を積層してなる耐熱導電性層と、をこの順に積層してなるものであり、前記導電性層と前記耐熱導電性層とは共に物理的蒸着法（ＰＶＤ）により積層されてなり、前記導電性層を積層する際の第１成膜雰囲気における酸化度よりも前記耐熱導電性層を積層する際の第２成膜雰囲気における酸化度の方が高くなるようにしてなる、透明導電性基材とした。 （もっと読む）

【課題】透明性および導電性に優れるだけでなく、特に耐湿熱性に優れた導電性フィルム、およびそれを用いた耐湿熱性に優れたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】導電性フィルムにおける透明導電塗膜層として、カチオン性のポリチオフェンとポリアニオンとを含む導電性高分子、および特定量のエポキシシクロ炭化水素基を有するシラン化合物を構成成分として含む透明導電塗膜層を用いる。耐湿熱性に優れた導電性フィルムとすることができる。また、導電性高分子を用いつつも、ＩＴＯを積層した導電性フィルムと同等の優れた導電性を有し、かつ透明性にも優れる。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便なインク塗布法によって、優れた光拡散性と導電性、及び高い膜強度と耐熱性を兼ね備え、かつ可視光線吸収が少ない無機成分からなる透光性導電膜を形成できる透光性導電膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】透光性導電膜形成用塗布液は、基板１上に透光性導電膜を形成するための、少なくとも有機インジウム化合物、ドーパント用有機金属化合物、及び溶剤を含有する透光性導電膜形成用塗布液であって、前記有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物との合計含有量が５〜２０重量％であり、前記塗布液中には、更に平均粒径０．５〜５μｍの導電性酸化物微粒子３が前記有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物との合計含有量１００重量部に対し１０〜３０重量部の範囲内で含有されており、且つ前記導電性酸化物微粒子は前記透光性導電膜２ａの平坦な領域内に点在する凸部となす。 （もっと読む）

【課題】線膨張率が小さく、ディスプレイ用基板に好適に使用することができる耐熱性、透明性、柔軟性、電気特性（低抵抗値）の優れた透明導電性基板を提供すること。
【解決手段】特定の性状を有する平板状の無機物質が分散しているラジカル反応性３次元架橋型樹脂組成物、特に好適にはアリルエステル樹脂組成物の硬化物表面に１５０℃以上で酸化インジウムスズなどの透明導電膜を成膜して得られた透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】 ＺｎＯを主成分とする透明導電膜は温度が高くなると酸化され抵抗値が高くなり、導電性が低下してしまう。また、ＺｎＯを主成分とする透明導電膜を表示装置の透明電極に用いた場合、表示装置を製造する様々な工程において高温環境下での工程を経ることで透明電極の導電性が低下してしまう。
【解決手段】 ＺｎＯを主成分とする透明導電膜の上にＳｎＯを含む透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】無機酸化物系導電性粒子の使用量が少なくても高い導電性を有するとともにヘーズに優れ、基材との密着性に優れるとともに帯電防止性能に優れた透明導電性被膜付基材および該透明導電性被膜の形成に用いる塗布液を提供する。
【解決手段】基材と、基材上に設けられた透明導電性被膜とからなり、該透明導電性被膜が無機酸化物系導電性粒子とＯＨ基を有する紫外線硬化樹脂マトリックス成分とを含んでなり、透明導電性被膜中の無機酸化物系導電性粒子の含有量が３〜３０重量％の範囲にある透明導電性被膜付基材。無機酸化物系導電性粒子とＯＨ基を有する紫外線硬化樹脂マトリックス形成成分と溶媒とからなる透明導電性被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 低複屈折、低吸湿、高透明性、高耐熱性等の特性を有するとともに、抵抗値が安定しており、リニアリティに優れる導電性透明シート、およびこの導電性透明シートを用いたタッチパネルを提供することを課題としている。
【解決手段】 厚みが０．５〜１．５ｍｍであり、表面の最大粗さが０．１μｍ以下であり、かつ残留位相差が５０ｎｍ以下である環状オレフィン系重合体シートに、透明導電層が積層されてなることを特徴とする導電性透明シートおよび該導電性透明シートを少なくとも一方の透明電極として有することを特徴とするタッチパネルを提供する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイやタッチパネルの作製工程等の熱が負荷される工程を経ても、導電特性や光学特性の変化しがたい、耐熱性に優れた導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面に、下記（ａ）〜（ｂ）をこの順で積層して、１３０℃で３時間熱処理した後の表面抵抗変化率が３０％以下、かつヘイズ値の変化率が３０％以下である導電性フィルムを得る。
（ａ）（メタ）アクリレート系の電磁波硬化性成分を含有する皮膜を硬化してなる膜厚１．０〜７．０μｍのアンカー層、および、
（ｂ）下記一般式で表される単位を主たる繰返し単位とするポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を主たる構成成分として含む導電層、
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
【化１】
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【課題】フラットパネルディスプレイ、太陽電池などの電子デバイス用のフレキシブル基板材として有用な、熱安定性が高く、しかも、柔軟性及びガスバリア性に優れた透明導電膜つき粘土薄膜基板、その製造方法及び有機ＥＬ素子などを提供する。
【解決手段】透明導電膜が粘土膜上に形成されたフレキシブルな導電性フィルムであって、３５０℃までの耐熱性、導電性、５００ｎｍにおける光透過度が８０％以上の透明性及び柔軟性を有する導電性フィルム、該導電性フィルムからなる電子デバイス用材料及び該材料を含む有機ＥＬ素子。
【効果】優れた耐熱性、ガスバリア性、透明性、フレキシブル性を有する粘土薄膜上に、高温、例えば、２５０℃以上で透明導電膜を形成することを可能とする透明導電膜つき粘土膜及びその製品を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】高度の耐熱性、耐久性を備えた透明導電膜付きフィルムの提供。
【解決手段】基材の厚みが５０〜５００μｍである高分子基材10および透明導電膜11からなり、この透明導電膜が、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物およびアルミナ添加酸化亜鉛の少なくとも一種からなり、１０〜７００回の薄膜形成工程を経ることから形成されたものであって、２５℃３５ＲＨ環境下での上記透明導電膜の膜応力が５０ＭＰａ以下であり、１５０℃１時間の耐熱試験後における上記透明導電膜の膜応力が５０ＭＰａ以下であることを特徴とする、透明導電膜付きフィルム。 （もっと読む）