【課題】装置全体の大型を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】供給された基板ＦＢに所定の処理を施し回収する基板処理方法であって、基板の一端を他端と接合して基板を無端状に形成する形成工程と、無端状の基板を搬送する搬送工程と、搬送された基板に所定の処理を施す処理工程と、所定の処理が施された基板を回収する回収工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高密度な保持容量及びＴＦＴに対する高い遮光性能を実現する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に画素毎に設けられた画素電極（９ａ）と、基板と画素電極との間に画素電極に対応して設けられたトランジスタ（３０）と、画素電極とトランジスタとの間に設けられ、画素電極及びトランジスタに電気的に接続された第１容量電極（７１）と、画素電極と第１容量電極との間に、容量絶縁膜（７５）を介して第１容量電極と対向配置されており、所定の電位が供給される第２容量電極（７２）と、画素電極と第２容量電極との間にトランジスタと少なくとも部分的に重なるように設けられ、第２容量電極との間に配置された絶縁膜に開孔されたコンタクトホールを介して第２容量電極に電気的に接続される遮光膜（２００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】電極ホール４６における有機ＥＬ材料の成膜不良によるＥＬ素子の発光不良を改善することを課題とする。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明では画素電極上の電極ホール４６に絶縁体を埋め込み、保護部４１ｂを形成させた後、有機ＥＬ材料を成膜することで、電極ホール４６における成膜不良を防ぐことができる。これにより、ＥＬ素子の陰極、陽極間の短絡により電流集中が生じるのを防ぎ、ＥＬ層の発光不良を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】効果的に不純物がドーピングされた多結晶シリコン膜をキャパシタの電極として使用した有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る有機発光表示装置は、基板本体と、前記基板本体上の同一層に形成され、それぞれ不純物がドーピングされた多結晶シリコン膜を含む半導体層及び第１キャパシタ電極と、前記半導体層及び前記第１キャパシタ電極上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜を介在して前記半導体層上に形成されたゲート電極と、前記ゲート絶縁膜を介在して前記第１キャパシタ電極上に形成され、前記ゲート電極と同一層に形成された第２キャパシタ電極とを含む。前記第２キャパシタ電極は、相対的に厚い厚さを有する電極凸部と、相対的に薄い厚さを有する電極凹部とを含む。前記第２キャパシタ電極の電極凹部は前記ゲート電極より相対的に薄い厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】 装置全体が大型化したり、コストが高くなるなどの問題を生じさせることなく、少ない個数の固体光源で、多くの情報量を高精細に表示する。
【解決手段】 紫外光から可視光までの波長領域のうちの所定の波長の光を発光する固体光源６と、固体光源６からの励起光により励起され固体光源６の発光波長よりも長波長の蛍光を発光する少なくとも１種類の蓄光蛍光体を含み、仕切りによって区分された複数の蛍光体セルを有する蛍光体領域５と、描画用の画素情報が与えられるとき、固体光源６からの励起光を、描画用の画素情報に従って制御して、蛍光体領域５へ照射する反射機構７とを有している。 （もっと読む）

【課題】
有機ＥＬ表示装置を製造する際に、封止基板と有機ＥＬ素子の間に形成された光硬化性樹脂を、有機ＥＬ素子にダメージを与えることなく紫外線によって硬化させること。
【解決手段】
薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に画素と対応して形成された複数の第１電極と、前記第１電極を画素ごとに区画する複数の隔壁と、前記第１電極上に形成された有機発光層と、前記有機発光層上に形成された第２電極とを積層した積層面を有する第１基板と、前記第１基板の前記積層面と対向する対向面に前記有機発光層による発光を透過し、紫外線を吸収する紫外線吸収膜を形成した透明の第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを接着する光硬化性の封止材と、を有し、前記第２基板の前記対向面に形成された前記紫外線吸収膜が、前記第１基板の前記隔壁により区画された各画素に対応した位置に設けられたことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

ディスプレイにおいて、能動マトリクス配列の断線の集積修復構造が、有効表示領域ＺＡ周辺でハーフリングを有する導体修復要素Ｅ_ｋを使用する。各修復要素は、ハーフリングの２本のオープンレッグと交差する配列の導線の１個のグループだけの修復に割り当てられる。断線は次いで、修復要素のハーフリングの２本のオープンレッグを用いて当該導線の２個の交差箇所の各々で接続を行うことにより修復される。ループ閉鎖は少なくとも、２本のオープンレッグを接続するセグメントにより行われる。
修復構造は、導線上の浮遊結合および帯電を最小化し、多数の導線の修復が可能でありながら安価である点が好都合である。特に、大型ディスプレイまたは高解像度ディスプレイに適している。
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【課題】別途修理装置を必要とせず、静電気保護素子を高効率かつ正確に修理することが可能な表示パネル用マトリクス回路基板及び表示パネルの構造ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に配置された複数のゲート配線１３及び複数のソース配線１４を含む回路表示部と、ゲート配線１３またはソース配線１４と接続されたＥＳＤ保護素子と、ＥＳＤ保護素子と接続され表示回路部の短絡先となるショートリング１２と、ＥＳＤ保護素子とショートリング１２との間、若しくは、ＥＳＤ保護素子と表示回路部との間に直列挿入された、電流を流すことにより切断可能なヒューズと、当該ヒューズを切断する際に当該ヒューズを加熱するヒーターとを具備する表示パネル１。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子等の発光素子が酸素や水分に付着することを防止するために塗布系の水分吸収材を用いた場合であっても、表示特性の劣化を防止する。
【解決手段】有機ＥＬ発光層３３を覆うゲッター材３６を、有機ＥＬ発光層３３が積層された保護フィルム３４とは異なる表面シート２０上に塗布により積層しておき、このゲッター材３６の表面を平滑化してから保護フィルム３４と表面シート２０とを接着する。 （もっと読む）

【課題】基板の密封に使用されるレーザビーム照射装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１基板と第２基板との間に配置された密封部にレーザビームを照射することにより第１基板及び第２基板を密封するレーザビーム照射装置であって、レーザビームを照射するレーザヘッドと、レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備えている。レーザビーム照射装置の制御部による制御下で、レーザビームは、密封部が形成する経路に沿って前後方向に反復運動を行い、経路上の同一位置を２回以上通過するように照射される。 （もっと読む）

【課題】観察者が３次元画像を容易に、違和感無く観察できることを可能とする撮像装置付き画像表示装置を提供する。
【解決手段】撮像装置付き画像表示装置は、（Ａ）発光素子を含む画素を複数配置して成り、３次元画像を表示する画像表示部１０、（Ｂ）画像表示部１０に設けられた光透過領域３０、（Ｃ）画像表示部１０の背面側に配置された撮像装置２０、（Ｄ）光透過領域３０を通過した光を撮像装置２０に集光する集光手段２１、並びに、（Ｅ）撮像装置２０を介して取得された画像データに基づき、観察者の位置情報を求める位置検出手段７１を有する。 （もっと読む）

【課題】感圧センサを設けること無く、ポインティグデバイスの機能を付加することができる撮像装置付き画像表示装置を提供する。
【解決手段】撮像装置付き画像表示装置は、（Ａ）発光素子を含む画素を複数配置して成る画像表示部１０、（Ｂ）画像表示部１０に設けられた光透過領域３０、（Ｃ）画像表示部１０の背面側に配置された撮像装置２０、（Ｄ）光透過領域３０を通過した光を撮像装置２０に集光する集光手段２１、並びに、（Ｅ）撮像装置２０を介して取得された画像情報に基づき、被写体の位置情報を求める位置検出手段７１を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に実装される有機素子を極力保護するための低透湿率及び低透酸素率のフレキシブルディスプレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ナノまたはマイクロサイズの粒子を溶融状態のポリマーマトリックスに均一に分散させ、均一に分散された溶融状態のポリマーを平板状に作り、これを二つの押出しローラーの間で押し出して成形することにより、粒子を薄膜表面に平行に配向させ、続いて、シートをガラス転移温度と溶融点の間で延伸してフィルム（薄膜）を成形することにより、粒子の剥離を促進させ、粒子を薄膜表面にさらに平行に配向させる。さらに、有機コーティングによってフレキシブル基板の表面を平坦化、有機膜の硬化のための熱処理段階を行う。なお、粒子は板状構造を持つ物質であり、粒子はＳｉ、Ｂ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｂｉ、及びＦｅの中で少なくとも１種の元素を含む。 （もっと読む）

【課題】入射した光を効率よく利用できるマイクロレンズ基板の製造方法、これを用いた電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】レンズ基板２４上に多角形の開口孔８１ｂを有する後退マスク８１を形成する工程と、固定マスク８２と後退マスク８１とを介してレンズ基板２４に異方性エッチングを施し、レンズ基板２４に多角形の口元から終端に向かって傾斜する傾斜面を有する凹部２４ａを形成する工程と、凹部２４ａに等方性エッチングを施してレンズ基板２４にマイクロレンズを形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

湾曲箔形状電気光学製品（１）が提供され、これは収縮有機材料のベース基板層（１０）を持つ少なくとも第１の領域を持ち、これは凸側と凹側とを持ち、前記ベース基板層の凸側（１２）がさらなる層（２０）を含み、前記電気光学製品がさらに、電気光学構造（２０）を持つ少なくとも第２の領域を含む。

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【課題】パターン形成方法及び有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電流が流れる位置を選択的に制御することによって、熱が発生する位置を選択的に制御できる加熱基板を提供するステップと、加熱基板の一面にパターン形成物質を形成するステップと、パターンが形成されるパターニング基板を加熱基板の一面に対向して整列させるステップと、加熱基板に選択的に電流を加えることによって、パターン形成物質の一部をパターニング基板に転写するステップと、を含むパターン形成方法及び有機発光素子の製造方法である。これにより、加熱基板に形成されたパターン形成物質を加熱する方式でパターンを転写することによって、マスクの使用なしに大型基板に精度の高いパターンを実現でき、工程後に加熱基板に残存するパターン形成物質を再使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】絶縁層による光透過率の低下を防止することができる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１基板１１０上に位置する第１絶縁層１１６と、第１絶縁層１１６上に位置する下部電極１１８ｂと、下部電極１１８ｂの上面及び側面を囲むように形成された誘電体層１２０ａと、誘電体層１２０ａ上に位置する上部電極１２２ａと、を備える。第１絶縁層１１６は、誘電体層１２０ａに対してエッチング選択比を有してもよい。第１絶縁層１１６は、シリコン酸化物を含み、誘電体層１２０ａは、シリコン窒化物を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）構造のキャパシタを備える平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１領域の基板上に半導体で形成された活性層と、第２領域の基板上に半導体で形成された下部電極と、活性層及び下部電極を含む上部に形成された第１絶縁層と、活性層上の第１絶縁層上に第１導電層及び第２導電層で形成されたゲート電極と、下部電極上の第１絶縁層上に第１導電層で形成された上部電極と、ゲート電極及び上部電極を含む上部に形成され、活性層及び上部電極が露出するようにパターニングされた第２絶縁層と、露出した活性層に接続されるソース電極及びドレイン電極とを備える。 （もっと読む）

【課題】 有機保護膜と無機保護膜との積層からなる封止構造の表示装置の製造方法において、有機保護膜をウェットプロセスで形成する場合、プロセス誤差によって、表示装置の額縁幅を十分に低減することができない。
【解決手段】 表示装置の表示領域の外周に沿って、前記表示領域の外周と交差する方向に、複数の溝が設けられた領域と、前記溝が設けられた領域の外周に溝の設けられていない領域とを設ける。 （もっと読む）

【課題】表示領域の位置によって視角の差が生じてクロストーク量が異なるという問題を
低減する。
【解決手段】第１画像と第２画像を夫々異なる視方向に判別可能に表示する表示パネル１
１と、クロストーク補正テーブル２８，２９を有し、クロストーク補正テーブル２８，２
９を用いてそれぞれ異なる画像に対してクロストーク補正を行うクロストーク補正部２１
と、を有する表示装置１０であって、表示領域１２は複数の領域Ｄ１〜１２に分割され、
前記分割された分割領域ごとに異なるγ補正を前記クロストーク補正対象の画像に行う。 （もっと読む）