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国際特許分類[B01F1/00]の内容

国際特許分類[B01F1/00]に分類される特許

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【課題】可燃性ガスと不純物の混合ガスから、大気圧を越える圧力に加圧した液中に不純物を吸収分離するプロセスにおいて、可燃性ガスの濃度を高め、且つ該液の加圧圧力を低減可能なガス精製装置を提供する。
【解決手段】消化ガス精製装置200は、水W1に原料ガスG1を微細気泡化して混合したガス混合液W2を生成し、そのガス混合液W2を加圧して水W1に原料ガスG1を溶解させ、原料ガスG1のうち、ガス混合液W2に未溶解の未溶解ガスG2をガス混合液W2から脱離させる。ガス混合液W2は、原料ガスG1の溶解圧力値よりも小さい液圧力で加圧される。そして、微細気泡の気泡径は、原料ガスG1の微細気泡の表面張力による気泡内圧力とガス混合液W2を加圧する液圧力との合計圧力が溶解圧力値以上になる気泡径とされる。 (もっと読む)


【課題】 循環型オゾン液生成装置において、分離されたオゾンガスの湿度を下げるため、除湿器などの特別な機構を必要とせず、高効率でオゾンを発生させることが出来るオゾン液生成装置を提供する。
【解決手段】 オゾンガスを発生するオゾン発生器と、前記オゾンガスと液体を混合する気液混合器と、導入される気液混合液を気液分離する貯液槽と、オゾン発生器と気液混合器と貯液槽との間に気体を循環させる循環経路を備えるオゾン液発生装置であって、前記オゾン発生器のオゾン発生電極は、金属体円柱シャフトと誘電体の中空管とを同心円状に配置して構成された電極であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】特定の物質が溶解した液体を生成する溶解液生成装置であって、気体状態の特定の物質が当該装置内に残留することが防止された溶解液生成装置およびオゾン水生成装置、並びに、それを備えた衛生器具用洗浄装置を提供する。
【解決手段】オゾン水生成装置100は、気体流路114と液体流路121とオゾン発生器120とエジェクタ130と気液分離部140と制御部とを備えている。制御部は、オゾン発生器120が作動している間には、液体流路121からエジェクタ130に水を供給するように、且つ、オゾン発生器120の作動が停止された場合には、液体流路121からエジェクタ130に、オゾン発生器120の作動が停止されてから所定時間水を供給し続けるように、液体流路121を流通する水の流量を制御する。 (もっと読む)


【課題】 オゾン液排水の際にオゾン液とともにオゾンガスが漏洩するのを防ぎ、また、循環型オゾン液生成装置においては、オゾンガスの再利用率の低下を防ぐオゾン液生成装置及びオゾン液生成方法を実現する。
【解決手段】 オゾンガスを発生するオゾン発生手段と、前記オゾンガスと液体を混合し、オゾン液を生成する気液混合手段と、前記オゾン液を気液分離する貯液槽と、前記貯液槽内の前記オゾン液の水位を検知する水位検知手段と、前記貯液槽内の前記オゾン液の水位を制御する水位制御手段を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 オゾン液生成装置において、気液分離器の内圧が気液混合器のガス吸込圧力を超えることにより、気液分離器から気液混合器へオゾン液が逆流することを防ぐオゾン液生成装置及びオゾン液生成方法を実現する。
【解決手段】 オゾンガスを発生するオゾン発生手段と、前記オゾンガスと液体を混合し、オゾン液を生成する気液混合手段と、前記オゾン液を気液分離する貯液槽と、外部からの気体を導入する気体吸込手段と、前記貯液槽内の圧力を検知する気体圧力検出手段と、前記気液混合手段への気体吸込圧力を検出する吸込圧力検出手段と、前記気体圧力または吸込圧力を制御する圧力制御手段を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 水素ガスの微小気泡の合体を防止し、溶存水素濃度が高い水素水を製造する装置を提供する。
【解決手段】 水に水素分子を溶存させた水素水を製造する装置において、原料水に水素を溶存させるための水素発生手段または水素注入手段1の下流部にプラス電荷体を除去するプラス電荷体除去手段2を配置して溶存水素濃度を大きくすることを特徴とする水素水製造装置。 (もっと読む)


【課題】
気液混合器に気体の循環が可能な簡易かつ省スペースな構成にて、オゾン液生成器のオゾンガス発生効率を高め、高濃度なオゾン水の生成を可能にするオゾン液生成器を提供するものである。
【解決手段】
オゾンガス発生器101にてオゾンガスを発生し、気液混合器102にてオゾンガス液体を混合してオゾン液を生成するオゾン液生成器であって、生成したオゾン液を気液分離器103にて気体と液体に分離し、気体循環経路Aにて気液混合器に気体を気液混合器102に循環させ、液体循環経路にて液体を気液混合器102に循環させることで高濃度なオゾン液を生成する。 (もっと読む)


【課題】希釈剤を固体にスプレーして、固体を溶解して使用溶液を生成するためのディスペンサーの提供。
【解決手段】a)固体を保持するためのハウジング11、b)ハウジング11に保持された固体に希釈剤をスプレーして使用溶液を生成するためのスプレーノズル、c)前記スプレーノズルと流体連通している第1の流入希釈剤通路、d)ある圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第1の流れ範囲を維持するために、前記第1の流入希釈剤通路に配置された第1の流れ制御部、e)前記使用溶液と流体連通している第2の流入希釈剤通路、f)前記圧力範囲内において前記希釈剤の圧力と無関係な第2の流れ範囲を維持するために、前記第2の流入希釈剤通路に配置された第2の流れ制御部であって、前記使用溶液の濃度が前記圧力範囲にわたって維持される第2の流れ制御部、を備えるディスペンサー10. (もっと読む)


【課題】気体を液体から分離するための気液分離器であって、当該気液分離器に供給される液体が当該気液分離器の内部から噴出することが防止された気液分離器、それを備えたオゾン水生成装置、およびそれを備えた衛生器具用洗浄装置を提供する。
【解決手段】気液分離部140は、容器104と仕切部材147と仕切部材148とを備えている。仕切部材147は、容器104の底面145から上方に向かって延びている。仕切部材148は、天井面146から下方に向かって延びている。容器104の内部は、仕切部材147と仕切部材148とによって、空間41と空間42と空間43とに区画されている。周壁149には、流入口141と流出口142とが形成されている。天井面146には、流出口143が形成されている。流出口143は、空間43の上方に配置され、空間43と容器104の外部とを連通する。 (もっと読む)


【課題】難溶性の銅化合物に、取り扱い容易な物質と水とを加えて溶解させて銅イオンを含む溶解液を得る。
【解決手段】水酸化第二銅又は酸化第二銅と、前記水酸化第二銅又は酸化第二銅に対する重量比で等量から2倍量のアンモニウム塩と、前記水酸化第二銅又は酸化第二銅に対する重量比で5〜10倍量の硫酸水素ナトリウムと、を混合し、前記混合物に、この混合物の固体総重量に対して2〜10倍量の水を加えてこれらの全量を溶解させる。 (もっと読む)


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