【課題】ワックス等の親水性の低い付着物を、水洗いによって簡単に洗い流すことを可能とする食物表面付着物の親水化方法を提供する。
【解決手段】静電霧化装置Ａの霧化電極に水を供給し、供給された前記水に電圧を印加してナノメータサイズの帯電微粒子水を発生させる。この帯電微粒子水を、表面に付着物１５が塗布された処理対象物１である食物に所定時間噴霧することで、付着物１５の親水性を向上させる。これにより、その後の水洗いによって付着物１５を簡単に洗い落とすことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置１０であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部３０と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部４０の間を上下に移動する昇降領域部５０と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部３０を制御する制御領域部７０とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 （もっと読む）

【解決手段】 複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面３Ａ、３Ｂの噴射ノズル２１から同時に洗浄液１３を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル２１から噴射された洗浄液１３が洗浄槽３内で衝突し、その衝突位置Ｘに洗浄液１３による乱流が生じる。この状態において、調整手段２２が壁面３Ａの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面３Ｂの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液１３の衝突位置Ｘが洗浄槽３内で右方へ移動して、洗浄槽３内の洗浄液１３が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴＢ内の金属部品Ｗを満遍なく洗浄することができる。 （もっと読む）

【解決手段】 物品洗浄装置１は、洗浄液１３を貯溜した洗浄槽３と、洗浄液１３を攪拌する攪拌手段２１とを備えている。攪拌手段２１は、対向する壁面３Ａ，３Ａ’に配置された複数の噴射ノズル２２と、複数の電磁開閉弁２５とを備えており、それらの作動は制御手段２６によって制御される。
複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させ、その状態において制御手段２６がポンプＰを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁２５を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁２５と対応する噴射ノズル２２から洗浄液１３が噴射されて、洗浄槽３内の洗浄液１３は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Ｗを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】フィルターエレメントのみならず集塵容器をも安全に洗浄することができる集塵装置とする。
【解決手段】フィルターエレメント２１と、このフィルターエレメント２１を収納する集塵容器１０とを有し、この集塵容器１０内がフィルターエレメント２１上流の集塵室Ｒ１と、フィルターエレメント２１下流のろ過室Ｒ２とに区分され、集塵室Ｒ１に臨むガス流入路Ｄ１と、ろ過室Ｒ２に臨むガス流出路Ｄ２とが集塵容器１０に備えられた集塵装置１であって、集塵室Ｒ１に臨む液供給路Ｄ７及び液排出路Ｄ４が集塵容器１０に備えられ、液排出路Ｄ４及びガス流入路Ｄ１に開閉弁Ｖ４，Ｖ１が備えられ、これらの開閉弁Ｖ４，Ｖ１を閉じて液供給路Ｄ７から洗浄液Ｗ１を供給すると、洗浄液Ｗ１によって集塵室Ｒ１が浸漬し、更にろ過室Ｒ２も浸漬する構成とされる。 （もっと読む）

【課題】蒸気タービンやガスタービン本体あるいはガスタービン圧縮機のロータを分解せずに洗浄することにより、ロータの表面に付着した錆スケール、動翼にできた孔食や微小き裂内の錆、腐食性物質を取り除く。
【解決手段】タービンロータ１、３０の超音波洗浄方法において、ロータ植込部２ａに動翼３を植設した状態のタービンロータ１、３０を洗浄槽４Ａ，４Ｂ内で一部または全体を洗浄溶液５に浸け、タービンロータ１、３０を回転駆動モータ１０により連続回転駆動または間欠回転駆動させ、洗浄槽４Ａ、４Ｂ内の超音波振動子装置６に外部に設置した超音波発信器９から電力を供給して超音波振動させ、洗浄溶液にキャビテーションを発生させる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）