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国際特許分類[B32B27/16]の内容

国際特許分類[B32B27/16]に分類される特許

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【課題】高強度かつ環境配慮型である上、耐薬品性及び耐汚染性を有すると共に、高隠蔽性及び高平滑性を合わせもつ化粧板を提供する。
【解決手段】基材の一方の面に、接着剤層、原紙、隠蔽インキ層、及び表面保護層を順に有し、該表面保護層が、隠蔽性顔料を含む電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化物層であることを特徴とする化粧板である。 (もっと読む)


【課題】押し出し成形されたシートを基材層として用いた場合においても、筋状のシワ等の変形の発生を大幅に低減でき、基材層と電離放射線硬化型樹脂層との密着性を向上でき、良好な光学積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂製の基材層である光拡散層13と、光拡散層13の一方の面に形成され、その表面に光学形状を有する紫外線硬化型樹脂製の光学形状層12とを備える透過型スクリーン10の製造方法は、光拡散層13を加熱する熱処理工程と、光学形状を賦形する成形ロール55に紫外線硬化型樹脂12Rが充填された状態で光拡散層13を成形型に押圧して紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂12Rを硬化させ、光学形状層12を形成する光学形状層形成工程と、光学形状層形成工程の後に、光学形状層12が片面に形成された光拡散層13を成形ロール55から離型する離型工程とを備えるものとした。 (もっと読む)


【課題】塗膜表面に優れた防汚性を有した防汚層を形成した防汚性硬化塗膜を有する物品及び防汚性フィルムを提供する。
【解決手段】フッ素含有率が15〜30質量%であり、ポリ(パーフルオロアルキレンエーテル)鎖及び重合性基を有する重合性含フッ素樹脂(a)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物(A)11を基材(B)10に塗工し、該塗工塗膜表面に、25℃における表面自由エネルギー35mJ/m以下の表面状態のコーティング層13を有するフィルム(C)12のコーティング層13を接触させた状態で、活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化性組成物(A)11を硬化した後、前記フィルム(C)12を剥離することにより得られることを特徴とする防汚性硬化塗膜を有する物品又は防汚性フィルム。 (もっと読む)


【課題】耐候性、耐傷付き性及び加工性などに優れるシートや加飾シートにおける、表面保護層の形成などに用いられる電離放射線硬化性コーティング剤組成物、該コーティング剤組成物を用いて形成された前記性状を有する加飾シートを提供する。
【解決手段】基材上に、少なくとも装飾層、プライマー層及び表面保護層を順に有する加飾シートであって、該表面保護層が、(A)電離放射線硬化性樹脂及び(B)反応性官能基Aを有する紫外線吸収剤を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなる層であり、該(A)電離放射線硬化性樹脂が炭素数13〜25のアルキル基と電離放射線硬化性官能基を有し、かつポリカプロラクトン変性されていることを特徴とする化粧シートである。 (もっと読む)


【課題】耐擦傷性に優れ、かつ耐候性、耐汚染性、耐薬品性、耐折曲性および耐衝撃性にも優れ、傷付き防止フィルムや加飾フィルムとして有用な塗膜を提供する。
【解決手段】ビニル化合物共重合体およびポリイソシアネートからなる組成物の架橋物からなるフィルムにおいて、該ビニル化合物共重合体が、下記モノマー単位:(A)シロキサン構造および水酸基を有しないビニル化合物(aモル%)、(B)ポリジメチルシロキサン構造を有しかつ水酸基を有しないビニル化合物(bモル%)、(C)水酸基を有する直鎖状または分岐状のアルキル基を有し、該アルキル基の炭素数が1〜6であるビニル化合物(cモル%)、および(D)下記式:CH=C(R)−COO−Y[ここで、RはHまたはCHであり、Yは末端に水酸基を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素基であり、Yは所望により開環ラクトン基(−CO−(CH)n−O−、ここでnは4〜6の整数である)、カーボネート基(−O−CO−O−)、エステル基(−CO−O−)、エーテル基(−O−)およびウレタン基(−NH−CO−O−)から成る群から選択される1以上の基を有していてもよく、かつ40〜120の炭素原子を有する]を有するビニル化合物(dモル%)、を含み、上記a〜dが、a+b+c+d=100でありかつ下記式(1)〜(3):0<{b/(a+b)}x100≦5・・・(1)、3(c+d)/4≦(a+b)≦4(c+d) ・・・(2)、4d/3 ≦c≦40d ・・・(3)を満たすところのフィルム。 (もっと読む)


【課題】 表面保護用シートを用いて、バンプ付ウエハの回路面を保護しつつ、裏面を研削する際に、回路面のバンプが潰れることを防止し、しかも研削面におけるディンプルやクラックの発生を抑制すること。
【解決手段】 本発明に係る基材フィルムは、半導体ウエハに貼付される粘着シートの基材フィルムであって、(A)ポリエーテルポリオール系ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとエネルギー線硬化性モノマーとを含む配合物をエネルギー線硬化させた硬化物からなる層と、(B)熱可塑性樹脂からなる層とから構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決しようとする課題は、粘着剤層を有する積層体の打ち抜き加工等の二次加工工程が不要であり、基材上の形成したい部分にのみ粘着剤層を直接形成可能であり、粘着物性、耐黄変性に優れる粘着剤層を部分的に有する基材の製造方法を提供することである。
【解決手段】粘着剤を形成可能な25℃で液状の無溶剤紫外線硬化型樹脂組成物(A)を、基材に対し、部分的に塗布する工程(i)と、塗布基材に対し、照射エネルギーが0.5〜5J/cmの範囲の紫外線を照射することによって粘着剤層を形成する工程(ii)とを有することを特徴とする部分的に粘着剤層を有する基材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】擦傷復元性および耐汚染性に優れ、かつ耐候性、耐薬品性、耐折曲性および耐衝撃性にも優れ、傷付き防止フィルムや加飾フィルムとして有用なフィルムを提供する。
【解決手段】ビニル化合物共重合体およびポリイソシアネートからなる組成物の架橋物からなるフィルムにおいて、該ビニル化合物共重合体が下記モノマー単位:(A)水酸基を有しないビニル化合物(aモル%)、(B)水酸基を有する直鎖状または分岐状のアルキル基を有し、該アルキル基の炭素数が1〜6であるビニル化合物(bモル%)、および(C)下記式:CH=C(R)−COO−Y[ここで、RはHまたはCHであり、Yは末端に水酸基を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素基であり、Yは所望により開環ラクトン基(−CO−(CH)n−O−、ここでnは4〜6の整数である)、カーボネート基(−O−CO−O−)、エステル基(−CO−O−)、エーテル基(−O−)およびウレタン基(−NH−CO−O−)から成る群から選択される1以上の基を有していてもよく、かつ12〜120の炭素原子を有する]を有するビニル化合物(cモル%)から成り、上記a〜cが、a+b+c=100でありかつ下記式(1)および式(2):3(b+c)/4≦a≦4(b+c) ・・・(1)および4c/3 ≦b≦40c ・・・(2)を満たすところのフィルム。 (もっと読む)


【課題】硬度が良好で、透明性が高く、伸び、柔軟性の点でも良好な紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)及び分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレート(B−1)及び/又はエポキシ(メタ)アクリレート(B−2)を含有する成形に際して用いられるフィルム用の紫外線硬化型ハードコート樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】凹凸追随性と、耐発泡信頼性とを同時に実現可能な画像表示装置構成用積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線反応性を残しつつ、紫外線架橋されてなる透明両面粘着シートであって、押し込み硬度(C2アスカー硬度)(a)が10≦(a)<50の範囲にあることを特徴とする紫外線架橋用透明両面粘着シートであり、紫外線をさらに照射することにより、シートの押し込み硬度(C2アスカー硬度)を高めることができ、少なくとも分子間水素引抜型光重合性開始剤を含有する粘着剤組成物から形成された紫外線架橋用透明両面粘着シート。 (もっと読む)


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