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国際特許分類[B65G49/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い (154,615) | 運搬または貯蔵装置,例.荷積みまたは荷あげ用コンベヤ;工場コンベヤシステム;空気管コンベヤ (20,388) | 他の分類に属せず,特殊な目的に適用されることを特徴とする移送装置 (2,620)

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【課題】省エネルギー性や搬送安定性に優れるとともに、基板の温度測定が容易に行えるような連続式熱処理炉を提供する。
【解決手段】基材上に機能膜材料が形成された基板1を搬送しながら前記機能膜材料を熱処理する連続式熱処理炉であって、基板1を搬送するための搬送機構として、垂直方向に立設され、駆動装置により回転する回転軸3と、回転軸3から水平方向に放射状に延びる、少なくとも2本を一組として複数組設けられたビーム5又は線材を有する搬送治具6とを備え、回転軸3を回転させることにより、搬送治具6を連続的又は間欠的に水平回転動作させて、搬送治具6に載置された基板1を搬送する搬送機構が備えられた連続式熱処理炉。 (もっと読む)


【課題】高温環境の下で処理されるガラス基板等のワークを搬送する際、ハンドを効率良く均一に冷却することができるとともに、従来に比較して軽量な構造のハンドおよびこれを用いたワーク搬送ロボットを提供する。
【解決手段】外部と隔絶され中空11aを有する形状に形成されてワークを載置する載置部11と、載置部11の一端側の中空11aに冷却媒体を導入する媒体導入管15a、15b、15c、15dと、載置部11の他端側の中空11aから冷却媒体を排出する媒体排出口17と、を備える。 (もっと読む)


【課題】精密基板の洗浄を行う洗浄装置において、汚染因子再付着防止、自然酸化形成の防止、ウォータマーク防止が可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板2を容器3内に配置し、容器3内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4と雰囲気を制御するガス供給手段5およびガス排気手段6、7を配置した洗浄装置1において、被洗浄面に対向した部位からガスを均一に供給するガス供給手段5、筒状固定軸16、流体軸受け17および回転支持部材18からなる回転保持機構にガスを供給するガス供給手段21、排水機構にガスを排気するガス排気手段7、洗浄液噴射時の雰囲気を制御するガスを供給するガス供給手段31のいずれか一つ以上の手段を具備する。洗浄装置1内の雰囲気を測定する雰囲気計測器4は、任意のタイミングで計測可能であり、引火性成分、可燃性成分、または支燃性成分のいずれか1つ以上の成分を検出可能なものとする。 (もっと読む)


【課題】台車と接触するガイドローラ部材において、表面硬化処理が施されて耐摩耗性を向上させることができるとともに、表面硬化処理が施されていても仕上げ加工時間を少なくさせることのできるガイドローラ装置を提供する。
【解決手段】ワークを保持する台車Wを真空中で搬送するためのガイドローラ装置である。支軸部材1と、この支軸部材1に外嵌している転がり軸受2,3と、この転がり軸受2,3に外嵌しており表面硬化処理が施されている筒状のガイドローラ部材4とを備えている。ガイドローラ部材4の内周面4aは凹凸面19とされており、この凹凸面19は、底部が機械加工されずに表面硬化処理面のままとされている凹部と、研削加工によって平滑とされている平滑面部とを有している。内周面4aは転がり軸受2,3との嵌め合い精度を確保するために研削加工されるが、これにより研削加工部を少なくできる。 (もっと読む)


【課題】 従来必須であった組み立て前の洗浄工程を不要とし、搬送コストを抑え、さらに、極小のランプ部材であっても取り扱いが容易となるハードディスク用ランプ部材の搬送方法を提供する。
【解決手段】 ランプロード方式のハードディスク装置に搭載されるランプ部材の搬送方法であって、クリーンブース内で成型(S1)、ゲートカット(S2)がなされたランプ部材を、同クリーンブース内でテープキャリアの所定部位に個々に搭載し、密閉梱包(S3)して搬送した後、ハードディスクの組み立て工程にて、クリーンルーム内で開梱(S4)して組み立て(S5)に供することを特徴とするランプ部材の搬送方法。 (もっと読む)


【課題】
雰囲気汚染を回避しながらも、高精度にロータの回転角度を検出でき、更に検出器の調整が容易なモータシステムを提供する。
【解決手段】
それぞれハウジングを構成する本体12A,12Bと、隔壁13A,13Bとを装着したまま分離可能となっているので、それ以上ダイレクトドライブモータD1,D2を分解することなく、モータユニットMU1の下側に配置されたダイレクトドライブモータD2のステータとレゾルバの角度調整を容易に行うことができ、且つモータユニットMU2の上側に配置されたダイレクトドライブモータD2のステータとレゾルバの角度調整を容易に行うことができる。また、軸受19’の点検や交換も容易に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】走行による発塵を効果的に抑止できる搬送台車を提供することを目的とする。
【解決手段】走行路1にグレーチング1aが形成されたクリーンルーム内を走行する搬送台車10において、搬送物を載置する搬送物載置部12が設けられた台車本体11と、前記台車本体11の下面11bの外縁に開口された吹き出し口20と、前記吹き出し口20から台車本体11中心部に向けて斜下方に空気を排出して前記走行路1の上面に空気を吹き付ける排風機構2とを具備してなるものである。前記排風機構2は、前記吹き出し口20と連通されて前記台車本体11の外縁に沿って設けられた通風ダクト21と、該通風ダクト21を介して吹き出し口20まで空気を送風する軸流ファン22とを具備してなる。 (もっと読む)


【課題】
コンパクトな構成を有しながらも、剛性を高めることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】
左下パッドLLPと左上パッドLUP、及び右下パッドRLPと右上パッドRUPが、テーブル13Cの移動方向に交差する方向に並べて配置されているので、テーブル13Cの移動方向に交差する方向における傾き剛性を高めることができる。又、駆動装置DRが、第1のスライダ部13Aと第2のスライダ部13Bとの間に配置されているので、外部に駆動装置を設ける必要がなく、構成のコンパクト化を図れる。 (もっと読む)


【課題】 真空処理システムにおいて被処理体の有機物汚染を低減させる。
【解決手段】 ロードロック室20(22)には、室内を真空排気するための排気機構38が接続されるとともに、室内にパージガスを供給するパージガス供給部44が接続されている。このロードロック室20(22)内に半導体ウエハWが滞在している間は、排気機構38が室内を一定の排気量で排気し、コントローラ48、真空計46および流量調整バルブ40によりパージガス供給部44から供給されるパージガスの流量が制御され、ロードロック室20(22)内の圧力が設定値に保たれる。この設定圧力は、有機物汚染の防止ないし低減に有効な数十〜数百Paの範囲内に選ばれ、搬送室10の圧力よりも高め(好ましく1倍〜2倍の範囲内)に選ばれてよい。 (もっと読む)


【課題】処理の歩留まりを向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内に配置され内部でプラズマが形成される処理室207と、この処理室内の下部に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台212と、前記処理室207の上方に配置されこの処理室内に処理用のガスを導入するための導入孔を有するプレート208と、前記真空容器202と連結されて減圧された内部を前記処理対象の試料が搬送される搬送容器218と、この搬送容器218の内部と前記真空容器内とを連通する通路を開閉するゲートバルブ217とを備え、前記真空容器内に前記導入孔から所定のガスを導入しつつこの真空容器内の圧力と前記搬送容器内の圧力とを略同等に調節した後に前記ゲートバルブ217を開放して前記試料を前記真空容器202と前記真空搬送容器218との間で搬送する。 (もっと読む)


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