【課題】低コスト、小フットプリント、小フェースプリント、及び高スループットの一つまたはそれ以上を実現するウエハ搬送装置を提供する。
【解決手段】（A）ウエハ収納部とロードロックチャンバーに接続し内部に搬送ロボットを備え、該ウエハ収納部と該ロードロックチャンバー間でエアー流動下でウエハの授受を行うための、ミニエンバイロメントと、
（B）該ロードロックチャンバーの接続部の近傍で該ミニエンバイロメントの外部から該ミニエンバイロメントに開口、接続し、ウエハを一時載置して、該ミニエンバイロメントからのエアーを取り込んでウエハを冷却することができるクーリングステージと、を備えたウエハ搬送装置。 （もっと読む）

【課題】 ガラス板を確実に搬送しつつガラス板支持装置の交換を簡便に行うことができるガラス板搬送支持装置を提供する。
【解決手段】 ガラス板搬送支持装置２０は、搬送されるガラス板１２を支持するガラス板支持装置３０と、ガラス板支持装置３０を搬送する駆動チェーン４０とを備え、駆動チェーン４０は、駆動チェーン４０の搬送方向に関してガラス板支持装置３０と係合する係合部４１を有し、係合部４１は、搬送方向以外の少なくとも１方向に関してガラス板支持装置３０と非係合である。 （もっと読む）

【課題】 新たな処理液に置換される前の状態である基板表面部分に、これよりも後の段階で基板に供給される処理液が回り込むことを確実に防止する。
【解決手段】 入口ノズル２０が、搬送中の基板Ｗの上方から、基板幅の全域に亘って、第１吐出口２０２１及び第２吐出口２０２２から基板表面にかけてカーテン状のリンス液を吐出する。これにより、前工程で付与されて基板表面に残存する例えばエッチング液から、新たに供給するリンス液への置換を短時間に行うと共に、入口ノズル２０の吐出口２０２の基板搬送方向上流側領域と下流側領域とを仕切り、下流側領域から上流側領域への気流の行き来を遮断して、入口ノズル２０よりも基板搬送方向下流側でスプレイノズルからのリンス液供給時に発生するミストが、液置換前の基板部分に付着することを回避する。 （もっと読む）

【課題】 基板周囲の雰囲気を清浄に保ったまま搬送するに際しての空調エネルギーの削減を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】 基板Ｗに対して所定の処理を行う複数の処理装置１０の配置位置に沿うように搬送経路が構成され、基板Ｗを、各処理装置１０それぞれに対応した受け渡し準備位置Ｐ１に間欠搬送するコンベア３０を備え、コンベア３０には、基板Ｗを気密に収納する基板収納容器５０が着脱自在に装着され、基板Ｗを基板収納容器５０に収納した状態で受け渡し準備位置Ｐ２に搬送する。 （もっと読む）

【課題】設備装置において過去に発生した異常事象及びその復旧手順を、その後の当該装置の異常発生時に活用することにより、装置の異常発生時に、短時間で確実に装置の復旧を行うことができるようにした設備装置の作業支援システムを提供すること。
【解決手段】設備装置の異常発生時に、発生した異常事象をデータベースに蓄積するとともに、当該異常事象の復旧手順を併せてデータベースに蓄積し、それ以降の当該装置の異常発生時に、データベースに蓄積されている異常事象及びその復旧手順を作業手順書として提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体収納容器開閉装置において半導体収納容器の蓋を開けるときに、半導体収納容器と半導体収納容器開閉装置の壁面との間隙から、外界の異物が半導体収納容器内部に進入し、ウエハに付着する問題を解決する。
【解決手段】半導体収納容器開閉装置１００において、半導体収納容器を開ける時の最大速度を、半導体製造装置内部の圧力と外界の圧力との差圧で、除した速度差圧比を０．０６（ｍ／ｓ・Ｐａ）以下に設定するようにした。 （もっと読む）

【課題】 保管、搬送等に好適であり、大容量化にも対応することができるような収容物
保管搬送装置を実現する。
【解決手段】 例えば電動ファン２２のような送風手段と、送風手段から送られる気体の
パーティクルを除去する高密度フィルタ２３Ａ等の脱塵手段とを有する送風ユニット２と
、例えば基板１００のような収容物を収容するための空間を形成する筐体１１及び上蓋１
２の箱体に、送風ユニット２との接合する部分となり、送風ユニット２から送られる気体
が流入する給気口部１３を少なくとも設けた清浄空間ユニット１とを備え、送風ユニット
２に対して清浄空間ユニット１を脱着可能にするものである。 （もっと読む）

【課題】汚染を効率的に防止することができるクリーンルーム内に設置可能なポリッシング装置を提供する。
【解決手段】ウエハ１６を収納したカセット１３の受け渡しをするロードアンロードブロック７と、カセット１３からウエハ１６を移動させる搬送ブロック８と、ウエハ１６を研磨する研磨ブロック６と、研磨後のウエハ１６を洗浄、乾燥する洗浄ブロック９と、装置の運転をコントロールする制御ブロック１０とを配置し、これら全体を覆うように周囲及び天井に壁板を設け、箱状に構成したポリッシング装置であって、ウエハ１６は研磨ブロック６で研磨され、研磨されたウエハ１６が研磨ブロック６から洗浄ブロック９に移される。そして、ウエハ１６は洗浄され、乾燥され、ポリッシング装置から取り出される。 （もっと読む）

【課題】線材の振動等による被熱処理物の位置ズレを効果的に防止し、安定した搬送を実現できるような搬送機構を提供する。
【解決手段】熱処理炉内で、複数の板状の被熱処理物４００を順次搬送するために使用される搬送機構であって、被熱処理物４００の搬送路に、互いに異なった動作をする２種の線材１０４、２０４が配設され、線材１０４、２０４は、搬送路の中央線Ｌの左右両側にそれぞれ複数本ずつ平行に配設されており、線材１０４、２０４の各々に、被熱処理物４００の縁部とのみ接触して被熱処理物４００を支持する支持具１００、２００が搬送方向に間隔を置いて複数個装着されており、支持具１００、２００は、線材１０４、２０４に装着された状態で、搬送路の中央線Ｌ側に向かって低くなるよう傾斜する傾斜部位を有し、傾斜部位は、各々傾斜角度が異なる急傾斜部と緩傾斜部とが連なった構造を有する。 （もっと読む）

【課題】この発明は、基板１枚当りに要する処理時間を短くでき処理コストを低減できる基板処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】処理装置２１は、真空引き可能なチャンバ２１ａを有し、チャンバ内を昇降移動可能な第１可動棚３１、第２可動棚３２、および第３可動棚３３を有する。第１乃至第３可動棚３１〜３３は、入れ子状に重ねることのできる構造を有し、シャッタＳに対向した載置位置より上方の収納位置で基板を載置した状態の複数の可動棚を重ねて収納でき、載置位置より下方の退避位置で複数の可動棚を重ねて退避させることができる。 （もっと読む）