本発明は、コーティング装置を通して平らな基板を移送するための装置に関する。このコーティング装置は、例えば、数個の異なるスパッタ・カソードを備えていて、このカソードに、例えば、ガラス板のような平らな基板が真空内を順次移送される。ガラス板と接触面との間で摩擦による損傷が起こらないように、ガラス板は接触しない距離にガス圧により維持される。ガス圧は、この場合、ガス・チャネル内の比較的少ない小さな孔部により形成される。コーティング装置に大気圧を導入している間、または真空にするための排気中、ガスの孔部が小さいために、ガス・チャネルと残りのコーティング装置の間の圧力を急速に等しくすることができないので、ガス・チャネルは、残りのコーティング装置とのガスによる接続が切り離され、別のガス・ラインを有し、このガス・ラインを通してガスをガス・チャネルに導入したり、そこからポンプにより吸い出したりすることができる。
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基板処理装置はチャンバと、処理モジュールの略リニアなアレイと、基板移送部と、駆動システムとを有している。該チャンバは外部雰囲気から分離されることが可能である。該アレイの各処理モジュールはチャンバに連絡自在に結合されており、よって基板がチャンバと処理モジュールとの間で移送されることを可能にする。該基板移送はチャンバ内に位置しており、移動自在にそれに支持されている。移送部はチャンバによって画定されるリニア経路に沿って移動可能であり、基板を処理モジュール群の間で移送する。駆動システムはチャンバに結合されており、移送部を駆動してリニア経路に沿って移動せしめる。チャンバは順に当接する選択可能な数量のチャンバモジュールからなり、よってチャンバを画定する。各モジュールは駆動システムの一体部分を有している。
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【課題】 搬送動作が単純であり、短時間で搬送態勢に入ることができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】 真空処理装置１００は、真空予備加熱室１０とプラズマ処理室２０とが連結されており、真空予備加熱室１０内には、基板搬送装置１１，１３が上下２段に配置され、プラズマ処理室２０内には、基板搬送装置２１が配置されている。基板搬送装置１１，１３，２１は、それぞれ揺動軸Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３廻りに揺動し、水平位置と傾斜位置をとる。被処理基板を基板搬送装置１１から基板搬送装置２１へ移送するときは、基板搬送装置１１，２１のそれぞれの搬送面を搬送ラインＬ２に一致させて搬送する。また、被処理基板を基板搬送装置２１から基板搬送装置１３へ移送するときは、基板搬送装置１３，２１のそれぞれの搬送面を搬送ラインＬ３に一致させて搬送する。 （もっと読む）

【課題】この発明は、ゴミが付着しないように処理対象物を移動できる搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 処理対象物を収容するカセットと、このカセットと密着して固定され、かつ取り外しができる扉と、カセットの底辺に設けられ搬送ローラを備える搬送装置により、ゴミが付かないように、収容されている処理対象物を搬送できる。 （もっと読む）

【課題】被案内面を有する搬送部と、案内面を有する搬送ローラと、搬送ローラを回転自在に支持する転がり軸受とを備えた真空搬送装置の発塵を低減し、耐久性を向上する。
【解決手段】この真空搬送装置は、搬送部５０と、搬送ローラ６０と、第１の転がり軸受７０と、一対の第２の転がり軸受８０とを備えている。搬送ローラ６０の表面（搬送部５０を案内する面６０Ａ）に、塩浴処理法によりバナジウムカーバイド膜を形成する。転がり軸受８０の外輪の外周面８０Ａ（搬送部５０を案内する面）に、塩浴処理法によりバナジウムカーバイド膜を形成する。第１の転がり軸受７０と第２の転がり軸受８０の軌道面に、フッ素油からなる潤滑膜を設ける。 （もっと読む）

【課題】ポッドにおけるウエハの自然酸化膜の形成を防止する。
【解決手段】ウエハ収納室１０ｃのウエハ出し入れ口１０ｂに蓋体１０ａが着脱自在に装着されるポッド１０と、複数のポッド１０を保管するポッド棚７が設備されたポッド保管室６と、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃと連設されるポッドオープナ室６１と、ポッドオープナ室６１に連設されたウエハ移載室１２とを備えたバッチ式ＣＶＤ装置１において、ポッド１０を保持しウエハ収納室１０ｃに窒素ガスを充填するガスステーション８０をポッド保管室６に設備する。待機中のポッドのウエハ収納室に窒素ガスを充填できるので、待機中のポッドでのウエハの自然酸化、待機後のポッドへのウエハ収納ステップ時の自然酸化、待機後のポッドからのウエハの取り出しステップ時のポッドからの酸素の拡散を防止できる。
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【課題】 不活性ガスを効率的に使用しつつ、不活性ガス濃度を維持できる搬送装置を提供することにある。
【解決手段】 搬入室１０と搬出室３０との間に連結ダクト６を設ける。このような構成によれば、連結ダクト６を通って圧力の高い搬出室３０側から圧力の低い搬入室１０側へと空気が移動し、気圧が均される。また、搬入室１０と搬出室３０とに設けられた差圧計７からの圧力データに基づき、ダンパ１３、３３の開口率を制御する。これにより、連結ダクト６のみでは調整しきれない搬入室１０−搬出室３０間の小さな気圧差の調整が可能となる。加えて、この搬入室１０および搬出室３０において排気ダクト１５、３５よりもやや照射室２０寄りの位置に仕切壁１６、３６を設け、照射室２０内の不活性ガスＧが過剰に流出することを防止する。これにより、必要最小限度の供給量で照射室２０内の不活性ガス濃度を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】 移動室内に配置された移動部材に対して、駆動部により接触でもって案内しながらその往復移動を駆動することで、移動室の隙間部を介して連結される往復移動の対象物の移動を行う往復移動装置において、当該往復移動により移動室内に生じるパーティクルの室外への漏出を抑制して、清浄化環境での使用に対応可能とする。
【解決手段】 移動部材がその内部に配置されて上記往復移動がその内部にて行われる室であって、上記移動部材と当該室外に配置される往復移動の対象物とが連結される部分を往復移動可能に貫通させる隙間部が形成された移動室内において、上記移動部材の移動により圧縮される圧縮側空間の空気を、非圧縮側空間に移動させることで、上記移動室内の空気を循環させる循環経路とを備える。 （もっと読む）

【課題】外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。
【解決手段】運搬ボックス２は、パターニング・デバイスを格納する格納位置を有する内部空間１０、及び、パターニング・デバイスの搬送のための開口を有するコンテナ部８を具備する。内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。ボックスはまた、開口を閉じる閉塞部、及び／又は、ボックスの内部空間から／そこへ、ガスを排気し、かつ／又は、供給するチャネル・システム１８を備え、こうしたボックス装置と協働するように構成されたリソグラフィ装置を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、必要とする台車の数を低減して、機構の簡素化を図り、よってコストの低減に繋げられる基板処理装置および基板処理方法を提供しようとするものである。
【解決手段】互いに異なる雰囲気および／もしくは温度管理された複数のチャンバである、搬入側真空・大気室３０と、加熱室３１と、冷却室３２と、搬出側真空・大気室３３に順次基板１０を搬送し、各チャンバにおいて互いに異なる複数の処理をなす基板処理装置であって、互いに隣接するチャンバ相互間に設けられる開閉式のゲート３４ａ〜３４ｅと、１つ置きの各チャンバ（搬入側真空・大気室と冷却室）内に設けられ基板を把持し、かつ解除自在なリフタ機構４３Ａ，４３Ｂと、これらチャンバとは異なる１つ置きのチャンバ（加熱室と搬出側真空・大気室）をホームポジションとして、リフタ機構を備えた隣接するチャンバとの間のみに基板を授受し搬送する台車４０Ａ，４０Ｂとを具備する。 （もっと読む）