【課題】 例えば処理済の基板上に付着した腐食性ガスなど処理ガスのガス成分が搬送室などの排気とともにそのまま外部へ排出されることを防止し，工場の排気設備などの負担を軽減する。
【解決手段】 ウエハに所定の処理を施すための処理ユニットと，この処理ユニットに対してウエハを搬出入する搬送室２００とを備える基板処理装置であって，搬送室２００は，搬送室２００内へ外気を導入する給気部２３０と，給気部２３０に対向して設けられ，搬送室２００内を排気する排気部２５０と，排気部２５０に設けられ，排気に含まれる少なくとも有害成分を除去する有害成分除去フィルタ２５６からなる排気フィルタ手段２５４とを設けた。 （もっと読む）

【課題】 装置を大型化する必要が無く、装置の製作が比較的に容易で、基板面から除去された処理液がミストとなって基板面に再付着することを防止し、基板面に付着した処理液を効率良く除去することができる装置を提供する。
【解決手段】 処理チャンバ１０の、基板Ｗの搬送路に対しエアナイフ２０ａが配設された空間側に、かつ、エアナイフ２０ａの配設位置より基板搬送方向における上流側に排気口１６ａを設け、処理チャンバ１０の内部に、エアナイフ２０ａの噴出口から噴出されて基板Ｗに吹き付けられた気体を排気口１６ａに向かって流動させる複数枚の整流板２２を鉛直方向に立設した。 （もっと読む）

【課題】カバーに囲まれた容器搬送経路内の空間の清浄度を維持するとともに、視認性を確保し、不良容器の取り出しを容易に行えるようにする。
【解決手段】容器搬送コンベヤ２の搬送経路に沿って、容器４の上方および両側方を覆うカバー８ａ、８ｂ、８ｃを設け、空間１４内を外部雰囲気から分離する。搬送経路の途中に観察区間を設けて、この部分は前記カバー８ａ、８ｂ、８ｃを取り除き、一方の側方に照明を設置するとともに、他方の側方には上方のエアー吹出口からエアーを吹き出して、下方の吸気口から吸引することによりエアーカーテンを形成し、前記照明とエアーカーテンにより観察区間を外部雰囲気と分離する。 （もっと読む）

【課題】 基板搬送時、基板処理室へ大気中の酸素が流入するのを抑制して、酸化反応を無くすことを可能とする。
【解決手段】 ウェハ（被処理基板）２００を処理する基板処理室２０１と、基板処理室２０１にゲートバルブ（弁部）２４４を介して接続されたロードロックチャンバ（真空室）１０１と、ゲートバルブ２４４の開閉を制御する制御部と、を備える。ゲートバルブ２４４は、ゲートバルブ２４４が開いた状態では、基板処理室２０１とロードロックチャンバ１０１を連通する開口部を形成して、基板処理室２０１に対してウェハ２００を搬入または／および搬出することを可能とし、ゲートバルブ２４４が閉じた状態では、基板処理室２０１とロードロックチャンバ１０１とを遮断するよう構成される。制御部は、さらにゲートバルブ２４４を開く前に、基板処理室２０１内を予めＨｅプラズマまたはＮｅプラズマに置換しておくよう制御する。 （もっと読む）

【課題】基板を好適に加熱又は冷却できるロードロック装置，該ロードロック装置を備えた処理システム，及び，該ロードロック装置を用いた処理方法を提供する。
【解決手段】処理部３に対して基板Ｇを搬入出させる搬入出部２側に設けた搬入口６３と，処理部３側に設けた搬出口６４と，基板を支持する支持部材７８とを備えたロードロック装置２１において，支持部材７８によって支持された基板Ｇを加熱する第一の加熱用プレート７１及び第二の加熱用プレート７２を備え，前記第一の加熱用プレート７１及び第二の加熱用プレート７２のうち一方が基板Ｇの表面側に配置され，他方が基板Ｇの裏面側に配置されるようにした。 （もっと読む）

【課題】部品コストの低減およびコンパクト化を図れると共にメンテナンス性の向上を図ることのできるワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】ワーク搬送装置１は、ワーク固定座を有するキャリッジと、該キャリッジを一軸方向に往復駆動するキャリッジ駆動機構と、該キャリッジ駆動機構を収容する密閉ケース１１と、該密閉ケース１１に形成された排気孔１８を通じて密閉ケース１１内の空気を外部に排気する排気装置１９とを備えていて、排気装置１９はシロッコファン２０から構成されている。 （もっと読む）

【課題】装置内部の環境が装置外部の環境とは大きく異なる場合において、被処理物の装置内外への出し入れを高速化し、装置のスループットを向上する。
【解決手段】環境調整機構は、処理対象物を処理するべく高真空に調整される処理チャンバ15と、処理チャンバ15の真空度よりも装置外の気圧に近い環境に調整される中継チャンバ7と、搬入部ロードロック室2a,2bと、処理部ロードロック室10と、それら各部の環境を個別に調整する調整機構5a,5b,8,13,14を備える。搬入部ロードロック室2a,2bの環境を外部環境と中継チャンバ7内の環境との間で調整して搬入部ロードロック室を介して外部から中継チャンバ７内へウエハを搬入し、更に、処理部ロードロック室１０の環境を中継チャンバ7の環境と処理チャンバ15の環境の間で調整して、処理部ロードロック室を介して中継チャンバから処理チャンバへウエハが搬送される。 （もっと読む）

【課題】 被処理体から製造される半導体デバイスの品質低下を防止することができると共に、被処理体処理装置の稼働率を向上することができる大気搬送室を提供する。
【解決手段】 エッチング処理が施されたウエハＷが搬送されるローダーモジュール１３は、その内部において上側に配置されたＦＦＵ３４を備え、ＦＦＵ３４は、ファンユニット３７、加熱ユニット３８、除湿ユニット３９及び除塵ユニット４０とから成り、ファンユニット３７は下側に向けて大気を送出するファンを内蔵し、除湿ユニット３９はファンユニット３７によって送出された大気を除湿するデシカントフィルタ５５を内蔵し、除塵ユニット４０は除湿ユニット３９を通過した大気中の塵芥を集塵するフィルタを内蔵し、これにより、ＦＦＵ３４はローダーモジュール１３の内部の上側に導入された大気を加熱、除湿、除塵して、ローダーモジュール１３の内部の下側に供給する。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハ上への微粒子などの異物の付着を防止し、半導体装置の製造歩留りを向上する。
【解決手段】 真空ポンプ８ａと接続された処理室２と、真空ポンプ８ｂおよびマスフローコントローラ９と接続された搬送室４と、処理室２−搬送室４間のゲートバルブ３ａとを備えるプラズマＣＶＤ装置１において、搬送室４の圧力をマスフローコントローラ９からの不活性ガスで制御し、処理室２の圧力より搬送室４の圧力を高くした後、ゲートバルブ３ａを開ける。 （もっと読む）

【課題】 クリーンストッカー設備における床面付近での清浄度の低下を防止する。
【解決手段】 クリーンルーム内の収納スペース１にストッカー本体２とスタッカークレーン３を配置するクリーンストッカー設備において、天井面に設けたファンフィルターユニット１５により天井面から床面に向かう下向きの清浄空気流を形成するとともに、収納スペースの下部に設けたファンフィルターユニット１６から清浄空気を横向きに吹き出すことにより、収納スペース内の下部においては横向きの清浄空気流を形成する。ストッカー本体の直上位置から吹き出す清浄空気流量を、スタッカークレーンの直上位置から吹き出す清浄空気流量よりも大きく設定して、天井面に設けるファンフィルターユニット１５をストッカー本体２の直上位置には密に集約配置し、スタッカークレーン３の直上位置には疎に配置する。 （もっと読む）