国際特許分類[B81C99/00]の内容
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国際特許分類[B81C99/00]に分類される特許
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インプリント・リソグラフィにおけるはみ出し低減
エネルギー源とインプリント・リソグラフィ・テンプレートとの間に配置されたデバイスが、基板上に分配された重合性材料の一部分に対するエネルギーの露光を遮断することができる。エネルギーから遮断された重合性材料の一部分は流体のままであり得るが、残りの重合性材料は凝固する。
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