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国際特許分類[B81C99/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | マイクロ構造技術 (6,196) | マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置 (1,969) | このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項 (81)

国際特許分類[B81C99/00]に分類される特許

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【課題】 基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。
【解決手段】 下部基板12と、上部シート部材14とを有する試料操作素子10を載置するステージ20と、素子10にレーザ光Lを供給するレーザ光源30と、素子10に対し、シート部材14側からまたは基板12側から所定の照射光軸Axに沿って、シート部材と基板との間に形成された操作構造内にビームウエストが位置する集光条件でレーザ光Lを照射する集光光学系35とによって表面処理装置1Aを構成する。そして、試料操作素子10の操作構造内において、レーザ発生プラズマにより、シート部材14で操作構造を構成している凹状構造部の内側表面を親水化処理する。 (もっと読む)


【課題】一体成形材でできた微細機械部品を、高材料歩留まり、かつ少ない工程で作製する方法を提供する。
【解決手段】(a)作製すべき微細機械部品のためのネガ型キャビティを含む基材を形成するステップ、(b)基材の一部に犠牲層を形成するステップ、(c)微細機械部品の骨子となる粒子を基材上に被着するステップ、(d)犠牲層を除去することにより基材の一部を選択的に粒子が全く無い状態にするステップ、(e)粒子が残存する箇所にのみ被着するように、化学気相蒸着法によって材料の層を被着するステップ、(f)上記ネガ型キャビティに形成した微細機械部品を外すために、基材を除去するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの表面に形成されたデバイスを破壊することなく、ウェーハの内部に改質層を精度良く形成することができるレーザダイシング装置及び方法並びにウェーハ処理方法を提供する。
【解決手段】レーザ光を透過可能に形成されたウェーハテーブル20の保持面22AにはウェーハWの裏面側が屈折液26を介在させた状態で密着保持される。これにより、ウェーハが撓みなく平坦な状態で保持される。そして、レーザ光をウェーハWの裏面側からウェーハテーブル20を介して照射することにより、ウェーハWの内部に改質層を精度良く形成することが可能となる。また、ウェーハWの表面に一切触れることなく、ダイシング処理を行うことができる。したがって、ウェーハWの表面に形成されたデバイスを破壊することなく、ダイシング処理を行うことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法でありながら狭間隔へもガラスが埋め込まれやすくなるガラス埋込シリコン基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス埋込シリコン基板の製造方法は、シリコン基板10に凹部11を形成する工程と、凹部11に粉末状、ペースト状または前駆体溶液であるガラス材料20aを充填する工程と、ガラス材料20aを加熱して軟化させる工程と、軟化させたガラス材料20aを焼結させる工程と、凹部11にガラス材料20aが充填されたシリコン基板10の表裏面においてガラス材料20aとシリコン基板10とを露出させる工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】所望の長さを有し、先端が先鋭である、錐形状のマイクロニードルの製造方法を提供する。
【解決手段】研削加工を用いて基板に第1の方向に沿って互いに平行な複数の第1の線状溝を形成する工程と、研削加工を用いて基板に第1の方向と交差する第2の方向に沿って互いに平行な複数の第2の線状溝を形成し、上部に平面を有する島状構造体を形成する工程と、該上部に平面を有する島状構造体に等方性エッチングを施す工程とを備えることを特徴とするマイクロニードルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】反応や分析のステップ数や量を制限しない、且つ、製造が容易であるマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、(イ)第一の支持体に少なくとも一つの中空フィラメントを任意の形状に固定する工程、(ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程、(ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作製する工程、を備えることを特徴としたマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】性能の向上したアクチュエータを提供する。
【解決手段】アスペクト比が104以上のカーボンナノチューブ、イオン液体から構成される導電性フィルムと導電性ポリマーを複合化したアクチュエータ用複合導電性薄膜。 (もっと読む)


【課題】往復振動するミラー基板を有するマイクロミラー装置において、ミラー基板の重畳増加を最小限に抑えつつ剛性を向上させて、ミラー基板を高速で往復振動させた場合でも、該ミラー基板の動的変形を確実に防止する。
【解決手段】ミラー基板103は、一対の捻り梁102で揺動可能に支持され、該捻り梁102をねじり回転軸として往復振動する。このミラー基板103の光反射面とは反対側の裏面に、該ミラー基板103の動的変形を抑えるための構造補強部材104を設け、これを三次元規則配列多孔体で構成する。三次元規則配列多孔体は、多数の微粒子による最密充填構造体を形成した後に、前記微粒子とは異なる材料からなる物質を空隙に充填して固化し、その後、微粒子を選択的に除去することによって、該微粒子の占めていた領域が空隙として残された構造のいわゆるインバースオパール構造体である。 (もっと読む)


【課題】振動させたMEMSの多数の箇所に同時にレーザ光を照射して、MEMSの多数の測定点における所定時点の振動状態を同様に測定できると共に、MEMSに対する起振部側の影響を排除して、MEMS各部の振動状態を正確に把握できるMEMS測定方法を提供する。
【解決手段】それぞれ周波数の異なる多数のレーザ光を、振動しているMEMS80の可動部81と固定部82に対し同時に照射し、MEMS80の各照射位置からの反射光を干渉光として光検出部で検出し、検出信号より取出せる情報から、MEMS80の各照射位置での振動状態を求め、さらに可動部81における振動状態の固定部振動状態に対する差分を求めることから、起振部の不要な振動成分が合成された結果から可動部81の振動成分のみを取出して、正しい可動部81の振動特性を取得でき、MEMS80の構造に基づいてあらわれる振動の特徴を確実に把握できる。 (もっと読む)


【課題】高い離型性を有し、かつ簡単に再現可能であるとともに、微細パターンの形状保持性に優れたインプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法を提供することである。
【解決手段】微細パターン2を表面1aに有する表面層1と、この表面層1の裏面1bを支持する支持層5とを備え、表面層1が紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなるインプリント用モールド10およびその製造方法である。モールド10を用いて微細構造を製造する方法である。 (もっと読む)


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