【課題】コストを抑え、エネルギーを十分に有効利用し、環境保護にも適し、炭化ケイ素原料を製造しケイ素原料の生産効率を高める新たなシステムと方法を提供する。
【解決手段】工場から排出される二酸化炭素を回収し、二酸化ケイ素と回収された二酸化炭素を利用した炭化ケイ素原料と酸素を製造するものである。他の実施形態では、炭化ケイ素原料の製造方法は、工場から排出される二酸化炭素を回収し、ケイ素と回収された二酸化炭素を利用し炭化ケイ素原料と酸素を製造するものである。 （もっと読む）

【課題】還元法による高純度シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素とシリカとを粉砕し、洗浄した後、各々を所定の比率の割合で混合し、これをルツボ７に収容し、これを加熱手段により加熱して反応させ、炭化珪素をシリカで酸化し、さらにシリカを炭化珪素で還元することにより、シリコン５５を製造・抽出するとともに、加熱反応時に生成される活性ガス５６、５７を原料として、気相成長、エピタキシャル成長により、シリコンカーバイド膜１０を形成し、これを回収することによりシリコンカーバイド５９を作製するシリコンとシリコンカーバイドとを同時に製造する製造方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一な粒径を有する品質の高い、珪素微粒子が炭化珪素に被覆されてなる珪素／炭化珪素複合微粒子を高い生産性で得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の珪素微粒子が炭化珪素で被覆された珪素／炭化珪素複合微粒子の製造方法は、酸化珪素の粉末を、炭素を含む液体状の物質に分散させてスラリーにし、このスラリーを液滴化させて酸素を含まない熱プラズマ炎中に供給して珪素／炭化珪素複合微粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】複数枚の基板に不純物が均一にドーピングされた炭化珪素膜を成膜することができる半導体製造装置及び基板の製造方法及び基板処理装置を提供する
【解決手段】反応室内に延在されて設けられる第１のガス供給ノズル６０及び第２のガス供給ノズル７０と、第１のガス供給ノズルの基板の主面と平行であって、第２のガス供給ノズルの方向に１以上分岐され1以上の第１のガス供給口６８を有する第１の分岐ノズルと、第２のガス供給ノズルの基板の主面と平行であって、第１のガス供給ノズルの方向に１以上分岐され、1以上の第２のガス供給口７２を有する第２の分岐ノズルとを備え、第１のガス供給口と第２のガス供給口とが基板の積層方向に隣接するように設けられた基板処理装置によって課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高強度な炭素繊維複合材、及びこの炭素繊維複合材を用いたブレーキ用部材、半導体用構造部材、耐熱性パネル、ヒートシンクを提供する。
【解決手段】炭素繊維と、樹脂とを混合後、焼成成形してなる焼成体にシリコンを溶融含浸して得られる炭素繊維複合材であって、Ｘ線回折法による、前記炭素繊維の炭素００２面の面間隔ｄ００２が、３．３６〜３．４３であることを特徴とする炭素繊維複合材、及びこの炭素繊維複合材を用いたブレーキ用部材、半導体用構造部材、耐熱性パネル、ヒートシンクである。炭素繊維はピッチ由来の前駆体から焼成して得られた炭素繊維であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来の表面被覆層よりも耐摩耗性に優れると共に摩擦係数が低くて摺動性に優れる硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型を提供する。
【解決手段】（Ｖ_ｘＭ_１−ｘ）（Ｂ_ａＣ_ｂＮ_{１−ａ−ｂ}）からなる硬質皮膜であって下記式（１Ａ）〜（４Ａ）を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。〔但し、上記Ｍは４ａ、５ａ、６ａ族の元素、Ｓｉ、Ａｌの１種以上であり、下記式において、ｘはＶの原子比、１−ｘはＭの原子比、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、１−ａ−ｂはＮの原子比を示すものである。〕
０．４≦ｘ≦０．９５−−−−式（１Ａ）、０≦ａ≦０．２−−−−式（２Ａ）、
０≦１−ａ−ｂ≦０．３５−−−−式（３Ａ）、０．６≦ｂ≦１−−−− 式（４Ａ） （もっと読む）

【課題】繊維強化複合セラミックス材料の全領域におけるセラミックス繊維に、厚さ寸法がほぼ均一な被膜（すべり層）を、容易に形成することができる繊維強化複合セラミックス材料の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱分解で炭素を生成する有機材料を溶媒に溶解させた液体に、セラミックス繊維を浸漬する工程（Ｓ１）と、前記有機材料を溶解させた液体からセラミックス繊維を取り出し、前記セラミックス繊維を乾燥させ、セラミックス繊維に有機材料膜を形成する工程（Ｓ３）と、前記セラミックス繊維とセラミックススラリーとにより、所定形状の成形体を形成する工程と、前記成形体を焼成し、前記有機材料を加熱分解させ、セラミックス繊維に形成された有機材料膜を炭素質層となす工程（Ｓ４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反応ガス及び未反応ガスを円滑で、かつ均一に排出できる真空熱処理装置用熱処理容器を提供することをその目的とする。
【解決手段】本発明に従う真空熱処理装置用熱処理容器は、底部と側壁とを含み、側壁の上部に排気通路が形成される。 （もっと読む）

【課題】液体を混合する場合、特に混ざり難い性質を有する液体を混合する場合に、攪拌効率を向上させ、混合時間を短縮できる液体攪拌機を提供する。
【解決手段】液体攪拌機１は、支持部２０の回転軸心Ｏと直交する面において、外羽根部３０の長手方向端部３０Ａ及び長手方向端部３０Ｂにおいて、回転軸心Ｏから最も遠い点をそれぞれ端点Ａ、端点Ｂとし、回転軸心Ｏから最も近い点をそれぞれ点ａ、点ｂとし、端点Ａ及び端点Ｂを通る直線を直線Ｍとし、点ａ及び点ｂを通る直線を直線ｍとし、回転軸心Ｏを通り、直線Ｍと直交する直線を直線Ｌとし、直線Ｍと直線Ｌとの交点を交点Ｔとすると、回転軸心Ｏは、直線Ｍと直線ｍとの間の領域Ｍｍから外れた位置にあり、端点Ａ及び端点Ｂの少なくとも一方は、外羽根部３０の回転方向Ｒ１において、交点Ｔよりも後ろに位置する。 （もっと読む）

【課題】炭化タングステンを生成する方法が提供される。
【解決手段】ハロゲン化物塩の不在下において、タングステン酸化物の塩を、その溶融温度よりも高い温度まで加熱して溶融物を形成する。その溶融物に炭化水素ガスをスパージングして炭化タングステンを形成する。溶融物の残留物から炭化タングステンを分離する。 （もっと読む）