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国際特許分類[C01B33/021]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 無機化学 (31,892) | 非金属元素;その化合物  (21,484) | けい素;その化合物 (4,055) | けい素 (1,305) | 製造 (383)

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【課題】乳化重合法を利点を活かすことで粒径の揃ったシリコン微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】モノマーとしてシクロペンタシランを界面活性剤と共に水中に分散させた後、紫外光を照射することで重合し、粒径の揃ったシリコン微粒子を製造する。 (もっと読む)


【課題】大がかりな設備を用いずに、不純物汚染の少ない球状シリコン粒子を製造する。
【解決手段】発散コーン部11、収束コーン部12、発散コーン部11と収束コーン部12との接続部に形成されたスロート部13、および収束コーン部12から発散コーン部11へと浮遊ガスを供給するガス供給部14を備えるガス浮遊装置を用いて、浮遊ガスが供給されている発散コーン部11に、スロート部13の内径よりも小さい球状の熔解シリコン粒が形成される量のアスペクト比が1:1〜1:4である原料30を供給する原料供給工程と、浮遊状態の原料30を非接触加熱装置41により加熱して熔解する熔解工程と、熔解された原料30が浮遊状態のまま非接触加熱装置41の熱出力を下げ原料30を凝固させる凝固工程とを行って、シリコンまたはシリコン系半導体材料の球状シリコン粒子32を製造する。 (もっと読む)


【課題】同一工程を多数回繰り返す必要のない簡単な方法によって均一で粒径の大きいシリコンナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】カリックスアレーンを含む溶媒中でSi塩を出発原料としてシリコンナノ粒子を合成させる工程、次いで、当該溶媒中で前記シリコンナノ粒子の表面を水素化させてSiの水素化物を形成させる工程、さらに当該溶媒中で前記Siの水素化物と表面修飾化合物とを反応させる工程を含むSiナノ粒子の製造方法。 (もっと読む)


ケイ素ナノロッドを作製するための方法が提供される。この方法によれば、Auナノ結晶を液体媒体中でシランと反応させてナノロッドを生成し、前記ナノロッドのそれぞれは、約1.2nm〜約10nmの範囲内の平均直径を有し、約1nm〜約100nmの範囲内の長さを有する。
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【課題】シリコン融液と直接接触する容器内表面にコート材層等を設けることなく、製造するシリコンインゴットに対する剥離性および不純物汚染防止性に優れた多結晶シリコン製造用容器を提供する。
【解決手段】シリカ質の外層と、前記外層よりもシリカ純度が高いシリカ質の内層とからなる容器において、前記内層を、厚さが1mm以上2mm以下とし、純度99.5%以上、最大粒径100μm以下のシリカ原料粉末を焼成して形成する。 (もっと読む)


【課題】ミストの分離能力が高く、かつメンテナンスが容易なミスト分離装置を有する多結晶シリコン製造装置を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンが析出される反応炉と、反応炉に接続された配管内を流れる排ガス中のミストを分離するミスト分離装置とを有する多結晶シリコン製造装置であって、ミスト分離装置は、配管2の途中に設けられるハウジング5に、その管路6を直交する方向に開放する開口10aが蓋体12により開閉可能に設けられるとともに、該蓋体12に、開口10aから管路6内に挿入されるデミスター積層体7が設けられ、該デミスター積層体7は、表面に凹凸を有するワイヤメッシュ板21が複数枚積層されてなり、その積層方向を管路6と直交する方向に向けて配置されている。 (もっと読む)


固体マルチ結晶シリコンインゴット又はウェハの製造方法であって、(i)反応スペースに面する内側表面及び(ii)反対側の外側表面を有する反応炉チャンバ壁と製品出口とを具える反応炉チャンバへ、シリコン含有ガスを導入するステップと、前記反応スペース内でプラズマを発生させるステップと、前記シリコン含有ガスに十分な温度を与えることによって液体シリコンを製造するために、当該シリコン含有ガスを熱分解するステップと、前記シリコン含有ガスを熱分解しながら、前記反応炉チャンバ壁の内側表面を、シリコンの融点未満の平衡温度に維持するステップと、前記製品出口からの液体シリコンを固体マルチ結晶シリコンインゴット又は固体マルチ結晶シリコンウェハに鋳造するために、当該液体シリコンをモジュールへ直接導入するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】ケイ素微粒子の可視光領域における発光特性、非毒性等を損なうことなく、液体に対する分散性を向上させる

【解決手段】ケイ素微粒子発光体の製造方法は、不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を焼成する工程と、不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、混合粉体をフッ酸および酸化剤を含むエッチング溶液に浸漬してエッチングする工程と、エッチング後のケイ素微粒子の表面に付加されたH原子を親水基を有する不飽和炭化水素基で置換する(終端処理という)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理において、粒子状形成物が、表面にダメージ(表面欠陥)を与えられても修復され、プラズマエネルギー付加後の急冷により粒子状形成物がアモルファス、多結晶に形成されることがなく、また、粒子状形成物の形成の際や、粒子状形成物の捕集の際にも、粒子状形成物が凝集や集合体となってしまうことがなく、粒状性、結晶性に優れた粒子を製造する粒子製造方法を提供する。
【解決手段】原料前駆体粒子をキャリアガス2により反応部へ導入し、前記反応部にてプラズマエネルギー、及び熱エネルギーをこの順に付与して粒子を製造する。 (もっと読む)


【課題】 簡便な化学エッチングによって、シリコンナノ粒子を高収率に生成し、表面修飾によって、生体分子への応用が可能な親水性を持たせる。
【解決手段】 シリコン基体10への、HF水溶液50における表面処理工程と、超音波を使用した回収処理工程とを特徴とした化学エッチング方法と、それを用いて生成されたシリコンナノ粒子表面への、官能基を持つアリル化修飾により親水性の付与。このようにして得られたシリコンナノ粒子を用い、生体分子を標識して観察する。 (もっと読む)


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