【課題】種々の金属イオンについて室温で高いイオン伝導性を示し、安価かつ簡便に製造可能な無機固体イオン伝導体とその製造方法およびそれを用いた電気化学デバイスを提供する。
【解決手段】無機固体イオン伝導体は、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化スズ、および酸化インジウムからなる群より選択される１または複数からなる非晶質の金属酸化物と、前記金属酸化物中に含有された１価、２価、または３価の金属イオンとを含み、２５℃（室温）において１×１０^−７Ｓ・ｃｍ^−１以上のイオン伝導度を有する。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のニオブ化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】高比表面積を有するシリカ含有含水酸化チタンの製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子シリカとシリカゾルから選ばれる少なくとも１種のシリカ材料の存在下に、このシリカ材料に対してハロゲン化チタンを酸化チタン換算にてＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂ 重量比で９０／１０〜５０／５０の範囲にて含むハロゲン化チタン水溶液を６０〜９５℃の範囲の温度に加熱し、上記ハロゲン化チタン水溶液のｐＨが１．０以下にあるように上記ハロゲン化チタン水溶液にアルカリ性物質を加えながら、上記ハロゲン化チタンを熱加水分解すると共に、上記ハロゲン化チタンの熱加水分解によって生成するハロゲン化水素を上記アルカリ性物質で中和して、沈殿物を生成させ、この後、得られた反応混合物に更に上記アルカリ性物質を加えて、その反応混合物のｐＨを３〜７の範囲とし、次いで、上記沈殿物を濾過し、水洗し、乾燥することによって、高比表面積のシリカ含有含水酸化チタンを得る。これを焼成すれば、高比表面積のアナターゼ型酸化チタンを得る。 （もっと読む）

【課題】空隙率が高く、強度の高いシリカ系の中空粒子を得る中空粒子の製造方法、該中空粒子を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】コア粒子を有する溶液中にシリカ系材料を添加して乾燥を行った後、該コア粒子を除去することで、該シリカ系材料を有する中空粒子を製造する中空粒子の製造方法であって、該シリカ系材料を添加した後、該コア粒子を除去する前に、該シリカ系材料を架橋する架橋剤及び酸を添加することを特徴とする中空粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 多孔質膜自体の化学的・物理的特徴に極力影響を与えず、かつ特殊な装置や真空工程を必要としない簡易な工程により、表面に封止層を有する多孔質膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に多孔質膜を形成する工程と、支持体上に無機酸化物前駆体の縮重合体を含むゲル膜を形成する工程と、前記基材上に形成された前記多孔質膜と前記支持体上に形成された前記ゲル膜とを密着させて積層体を得る工程と、前記積層体を加熱することで前記ゲル膜を硬化する工程と、硬化した前記ゲル膜上の前記支持体を除去する工程とを有する多孔質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリマーが熱により変質することを抑制してポリマーの表面に好適に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】超臨界流体に酸化剤のオゾンガスと酸化物用原料のＴＥＯＳとを供給し、構造体１及びその周囲を２００℃の温度で加熱することによって、酸化物であるＳｉＯ₂を生成させ、このＳｉＯ₂によって構造体１のマイクロ流路３の内壁全面（従ってポリマーであるＰＤＭＳ膜９の表面）に酸化物層５であるＳｉＯ₂層を形成する。これにより、従来に比べて低い温度で酸化物層５を形成できるので、ポリマーが変質する等の問題が生じないという顕著な効果を奏する。また、ポリマー表面を隙間無く覆う様に酸化物層５を形成できるので、親水性やガス透過防止性を高めることができるという利点もある。 （もっと読む）

【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第１のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第２のコーティングユニット、第３のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第１のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第１のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第１のコーティングに形成され、複数の第１の酸化層を有する第１の酸化ユニットと、複数の第２の酸化層を有する第２の酸化ユニットを備え、前記複数の第２の酸化層と前記複数の第１の酸化層とは交互に積層されている。第２のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第２のコーティングを有する。第３のコーティングは、第２のコーティングに形成された第３のコーティングを有する。導電ユニットは、第３のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた強度と耐熱性を有し、かつ、大きな面積又は大きな体積となるフォトニック結晶、フォトニック結晶ウエハ及びフォトニック結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態に係るフォトニック結晶の製造方法は、二酸化ケイ素球３と、ガリウム１及びヒ素２と、を密封容器５に封入する工程と、密封容器５を加熱してガリウム１及びヒ素２を融解させてヒ化ガリウム融液１３を生成した後、密封容器５の下方から鉛直上方に向けてヒ化ガリウム融液１３を固化させてヒ化ガリウム固体１４を生成し、二酸化ケイ素球３とヒ化ガリウム固体１４からなる混合体１５を得る工程と、混合体１５が得られた密封容器５を部分的に加熱することによって混合体１５の上部に溶融帯１９を形成し、溶融帯１９を鉛直下方に向けて移動させてヒ化ガリウム固体１４中に二酸化ケイ素球３を並べた混合体１５０を生成する工程と、を含むフォトニック結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シラザン化合物を用いることで高価な真空装置を使用せず、低温処理ができ且つ短時間の処理で、蒸着法によるシリカ膜に匹敵する酸素ガスバリア性能を、合成樹脂成形体に付与させた酸素ガスバリア成形体を提供する。
【解決手段】合成樹脂成形体１と、この合成樹脂成形体表面の一部又は全部に設けられるシリカ膜２とを備え、前記シリカ膜が、シラザン化合物を前駆体とするものであって、前記シラザン化合物に、紫外線照射を行うと同時に加熱処理を行うことで形成され、酸素ガス透過度が、０．５ｍｌ／ｍ^２・ｄａｙ未満である酸素ガスバリア成形体。 （もっと読む）

【課題】独立した及び／又は無傷の薄膜の製造のための単純で費用効果の高い方法を提供する。
【解決手段】基材を用意すること、前記基材上に炭素含有犠牲層を堆積させること、前記炭素含有犠牲層上に薄膜を堆積させること、前記炭素含有犠牲層及び前記薄膜を有する前記基材を高温で酸素に暴露して酸素を炭素含有犠牲層と反応させて二酸化炭素を生成させ、前記基材から無傷で除去された前記薄膜をもたらすことを含む、独立した薄膜の製造方法。 （もっと読む）