【課題】表面シラノール基を多く含有し、球形の結晶である微粉シリカとその製造方法の提供。
【解決手段】ケイ酸アルカリと解離水とを混合してケイ酸アルカリ水溶液とする混合工程（Ｐ１１）と、混合工程（Ｐ１１）の後、ケイ酸アルカリ水溶液からケイ酸化合物を析出させる析出工程（Ｐ１２）と、ケイ酸化合物を乾燥させて微粉シリカとする乾燥工程（Ｐ１４）とを具備する微粉シリカの製造方法および前記製造方法により得られる微粉シリカ。 （もっと読む）

本発明は種々のペースト状若しくは固体状のマトリックス又は媒体、エラストマー又はシリコン中で高い分散性を有する低吸水性で高度に構造化された沈降シリカ、並びにその製造方法に関する。また、本発明は（靴底用の透明又は半透明）エラストマーをベースとしたマトリックス、（とりわけ電線被覆用の）シリコンマトリックス中の補強充填剤としての、種々の組成物（食品、化粧品、医薬組成物、塗料や紙を製造するための組成物、電池用の多孔質膜セパレータを製造するための組成物）の充填剤及び／又は担体及び／又は賦形剤としての、或いは歯磨剤中の増粘剤としての上記シリカの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、高い吸油性を有する非晶質シリカ粒子、該粒子の製造方法および該粒子の使用に関する。本発明による非晶質シリカ粒子は、少なくとも、２００〜９９０℃で焼成することによって、ＪＩＳ Ｋ ６２１７−４法によって測定した吸油量が４００ｍｌ／１００ｇをこえることを特徴とする非晶質シリカ粒子が得られる。
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本発明は、高い吸油性および高い構造性を有し、非晶質シリカ粒子に高い負荷をかけても吸油性がほとんど低下しない非晶質シリカ粒子を提供する。特にベンゼン吸着等温線法により得た細孔分布曲線において、ΔＶｐ／ΔＲｐ値（但し、Ｖｐは細孔容積［ｍｍ^３／ｇ］、Ｒｐは細孔半径［ｎｍ］）の最大値が２０ｍｍ^３/nm・ｇ^−１以上であり、ΔＶｐ／ΔＲｐ値が最大であるときの細孔ピーク半径が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である非晶質シリカ粒子を提供する。
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多孔質シリカ粒子を含む沈降シリカであって、前記多孔質シリカ粒子は、直径が５００Å超の全ての孔に関して、累積表面積が８ｍ²／ｇ未満（水銀圧入法によって測定）であり、百分率塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）適合性が約５５％超である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。本シリカ生成物の製造方法も提供される。 （もっと読む）

本発明は、ゴム加硫物の極めて高い強度を有する高分散性の沈降珪酸、その製造法およびゴム混合物のための充填剤としての該沈降珪酸の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、極度に僅かな微孔性および高いゴム活性を有する沈降珪酸、その製造法およびゴム混合物のための充填剤としての該沈降珪酸の使用に関する。 （もっと読む）