本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
（もっと読む）

【課題】本発明は、無機担体とイオン交換性樹脂とからなり、イオン交換速度が速く、交換容量が高く、機械的強度にも優れた多孔性のイオン交換体およびそれを製造する方法を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明の多孔性イオン交換体は、無機多孔質担体と、これに担持されたイオン交換性樹脂とからなり、平均体積が５×１０^-4ｍｍ³／個以上であり、水銀圧入法によ
り測定した総細孔容積が０．５〜１．５ｃｍ³／ｇであり、かつ、貫通孔を有することを
特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、沈降シリカの新規な製造方法を提供するものである。更に詳しくは、製紙用填料、塗工紙製造用顔料、エラストマー補強用充填剤、薬品担体などの広範囲の用途に用いられている沈降シリカの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属珪酸塩に酸性化剤を反応させて沈降シリカを製造する方法であって、反応釜に水又は沈降珪酸のスラリーを仕込み、攪拌しながら、ｐＨ緩衝剤およびアルカリ金属珪酸塩を含む水溶液と、酸性化剤を含む水溶液とを同時に添加し、混合物のｐＨを６〜８に維持しながら反応させてシリカを沈降させることを特徴とする沈降シリカの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いる沈降シリカ製品を提供すること。
【解決手段】沈降シリカは、水銀圧入によって測定されるように、６ｍ²／ｇを下回る５００オングストロームより大きい直径を有する全ての細孔のための累積表面積を有する多孔性シリカ粒子を含み、そして約８５％を超えるパーセンテージ塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）親和性を有する。沈降シリカ製品は特に塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いるのに適している。そして、有意義なレベルの低表面積シリカ製品に付着せず、このように抗菌作用に利用できるままである。シリカ製品を作製するためのプロセスは、ＣＰＣとのこの種の親和性を強化するために異なるプロセスステップの間に、硫酸ナトリウム粉の導入が含まれる。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカの懸濁液を得るために珪酸塩と酸性化剤とを反応させ、次いでこの懸濁液を分離し乾燥させることを含むタイプの沈降シリカの製造方法であって、該沈殿が高速ブレンダー内において珪酸塩と酸性化剤とを酸性媒体の状態で接触させることを含むことを特徴とする、沈降シリカの新規な製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】ＲＴＶ型の１成分系シリコーンゴムの増粘のためには、とりわけシリカが使用されるが、そのシリカは、シリコーン系シーラントの加水分解感受性に基づき、できる限り少ない湿分しか該系中に導入してはならない。従って、今まではほとんど専ら、前記用途にはヒュームドシリカが使用されていたが、一方で、親水性の沈降シリカは、その高い含水率に基づき、今までは使用することができなかった。
【解決手段】１より大きい又はそれと等しいＳｉＯＨ_孤立吸光度比を有する沈降シリカを提供する。 （もっと読む）

【課題】従来と比較して高機能化された新規な多孔質ハニカム構造体およびその製造方法、ならびにそれを用いた空気清浄機を提供する。
【解決手段】光触媒作用を有する微粉末が分散されたシリカ成形体である、光触媒作用を有する多孔質ハニカム構造体、ならびに、（ａ）ケイ酸ナトリウム水溶液にイオン交換樹脂を混入してシリカゾルを調製する工程と、（ｂ）前記イオン交換樹脂を除去し、ｐＨを調整する工程と、（ｃ）シリカゾルに光触媒作用を有する微粉末を分散させる工程と、（ｄ）シリカゾルをゲル化してシリカ湿潤ゲルを製造する工程と、（ｅ）前記シリカ湿潤ゲルを凍結させる工程とを含む、光触媒作用を有する多孔質ハニカム構造体の製造方法、上記多孔質ハニカム構造体を用いた空気清浄機。 （もっと読む）

【課題】 有機溶媒を実質的に含まないメソ多孔体の製造方法及びこれを使用したフィルタを提供する。
【解決手段】 珪酸アルカリと水とを混合した第一溶液を、界面活性剤と水と酸性物質を加えた第二溶液に加えた溶液から沈殿物としてメソ多孔体を得る。この場合、上記第一溶液と第二溶液との混合溶液は、シリカ分が１〜１０重量％、界面活性剤が５〜３５重量％、水が５５〜８０重量％の含有率であり、ｐＨが４以下で、有機溶媒を実質的に含まない。 （もっと読む）

【課題】一般細菌数が非常に低減できる沈降シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液中に、鉱酸を添加して沈降シリカを得る反応工程、該反応工程で得られた沈降シリカと水溶液とを濾過により分別し、沈降シリカを水洗する濾過工程、及び該濾過工程を経て得られた沈降シリカを乾燥する乾燥工程を含んでなる沈降シリカの製造方法であって、少なくとも前記濾過工程の水洗に使用する水が、一般細菌の数が３０ｃｆｕ／ｃｍ^３以下に制御されたものであることを特徴とする沈降シリカの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来のスピノーダル分解を伴う相分離により生成する球状シリカ粒子が凝集した状態を利用して、工業的に有利に球状シリカ粉末を製造することが可能な球状シリカ粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸からなるゾル液を、スピノーダル分解を進行せしめて、球状のシリカ粒子をゲル化させ、ついで、ゲル体の水分が３０質量％以下で解砕せしめ、その際、珪酸からなるゾル液を、固体の表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以下である材質の容器内でゲル化させることが好ましい。 （もっと読む）