【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッター及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、ガラス基板を載置する載置面の表面から内部に向かって５μｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが１〜５質量％であり、且つ、載置面の表面から内部に向かって１ｍｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが０．８質量％未満であることを特徴とする。
また、ガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、板状の無機耐熱材料又はその前駆体材料の一方又は両方の面に、外部の供給源からＫイオンを注入することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板熱処理用セッターは、板状の結晶化ガラスからなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、結晶化ガラスがＫ₂Ｏを０．８〜４質量％、Ｎａ₂Ｏを０．５〜４質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスに特徴のある諸物性を維持しつつ、砒素成分やアンチモン成分の含有量が極力少ない、又は砒素成分やアンチモン成分を含まない結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する結晶化ガラスに清澄剤としてＳｎＯ_２成分及び／又はＣｅＯ_２成分を含有させることにより、好ましくはこれらの成分の含有量を特定の範囲とすることにより所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスにおいて大型サイズの成型品に生じるクラック発生、破壊の原因を解消し、内部品質が均一かつ高い効率で安定に生産可能な結晶化ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３の各成分を含有し、前駆体となるアモルファスガラスの示差熱分析によって得られる結晶析出ピーク温度幅が２２℃以上とする事により、好ましくはＴｉＯ_２成分とＺｒＯ_２成分の合計量が３．０〜４．３％未満の範囲とする事により所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

【課題】光学的処理によって検出可能であり、着色が低減されうるガラスセラミックまたはその前駆体ガラスを提供する。
【解決手段】光学検出可能な、フロート可能な、ヒ素およびアンチモンを含まないグレイザブルな、プレストレス可能であるリチウム−アルミノケイ酸ガラス、およびそれを変換したガラスセラミックが記載される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは、実質的に以下の組成（酸化物を基準とする重量％）：ＳｉＯ_２ ５５〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３ １９〜２５、Ｌｉ_２Ｏ ３．２〜５、Ｎａ_２Ｏ ０〜１．５、Ｋ_２Ｏ ０〜１．５、ＭｇＯ ０〜２．２、ＣａＯ ０〜２．０、ＳｒＯ ０〜２．０、ＢａＯ ０〜２．５、ＺｎＯ ０〜＜１．５、ＴｉＯ_２ １〜３、ＺｒＯ_２ １〜２．５、ＳｎＯ_２ ０．１〜＜１、ΣＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＳｎＯ_２ ２．５〜５、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜３、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１〜０．６、ＣｏＯ ０〜０．００５、Ｆ ０〜１、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２を有する。 （もっと読む）

【課題】視覚的に無秩序な光散乱（濁度）または固有色のないアルミノケイ酸リチウムガラスを提供する。
【解決手段】含量が０〜０．４のＳｎＯ_２、１．３〜２．７重量％のΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２、１．３〜２．５重量％のＺｒＯ_２、３．６５〜４．３重量％のΣＺｒＯ_２＋０．８７（ＴｉＯ_２＋ＳｎＯ_２）、０．０４重量％以下のＦｅ_２Ｏ_３、５０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、及び０〜５０ｐｐｍのＣｏＯのアルミノケイ酸リチウムガラスまたは対応するガラスセラミックが開示される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは中間色であり、濁度が１％未満のヘイズ及び高い光透過を有する。前記ガラスのガラスセラミックへの変換に要するグレージング時間は２．５時間未満と特に短い。 （もっと読む）

【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】結晶化促進剤を含有せずに結晶化し易い石英ガラスによって形成した石英ガラス部材、特にシリコン単結晶の引き上げに用いる石英ガラスルツボを提供する。
【解決手段】結晶化促進剤を含有せずに易結晶化性を有する石英ガラスによって形成したことを特徴とする石英ガラス部材であって、好ましくは、結晶質石英を１７１０〜１７８０℃の温度で加熱溶融してガラス化することによって易結晶化性を有するようにした石英ガラスによって形成した石英ガラス部材、および石英ガラスルツボ、この石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の引き上げ方法。 （もっと読む）

本出願は、(i)主結晶相としてβ石英またはβスポジュメンの固溶体を含有する新規のガラスセラミック材料、(ii)その新規のガラスセラミック材料から製造された物品、(iii)そのような新規のガラスセラミック材料の前駆体であるリチウムアルミノケイ酸塩ガラス、および(iv)その新規のガラスセラミック材料およびこの新規のガラスセラミック材料から製造された物品を調製する方法を開示する。本発明は、ガラスセラミック材料のガラス前駆体を清澄するための清澄剤として、ＳｎＯ₂（０．１５から０．３質量％）およびＣｅＯ₂および／またはＭｎＯ₂（０．７から１．５質量％）を使用する方法に関する。 （もっと読む）